Bereich Emissions-Rasterelektronenmikroskop Für Nanotechnologie-Anwendungen; Der Nova NanoSEM - Lieferanten-Daten Durch FEI-Firma

Hintergrund

Nach der erfolgreichen Einleitung des Nanotechnologiearbeitsplatzes Nova NanoLab DualBeam SEM/FIB, führt FEI-Firma die folgenden Nova-Hilfsmittel für Nanotech-Familienmitglied ein: der Nova NanoSEM. Dieses Instrument ist eine engagierte FEG-SEM Lösung für Ultrahochauflösungskennzeichnung der Aufladung und/oder des Verunreinigens von Proben.

SchlüsselNutzen

·         Einziges wahres hochauflösendes der Welt, Grobvakuum FEG-SEM.

·         Die entscheidende Kennzeichnungslösung für die Aufladung und/oder das Verunreinigen von Nano-Materialien oder von Einheiten.

·         1,8 nm Darstellungsauflösung an niedrigem KV im Hochvakuum und im Grobvakuum.

·         Bordmustergenerationssoftware mit digitalem Generator des Musters 4kx4k.

·         Wahlweisegaschemielösungen für direktes Elektronenstrahlschreiben von nanostructures.

·         Piezo Stufentechnologie entbindet - oben an sehr hohe hohe Wiederholbarkeitsgenauigkeit der Darstellungsvergrößerungen sehr, sehr niedrigen Stufenantrieb und rüttelnde Drehzahl des Tiefs für Beispielnavigation durch Stufenbewegung.

Magnetische Immersions-Objektiv-Technologie

NanoSEM holt den Forschern und den Entwicklern im Nanotechnologielabor beispiellose Fähigkeiten, das mit den nicht leitfähigen und verunreinigenden Nano-materialien und/oder - Einheiten arbeitet. Es kombiniert, zum ersten Mal in der Geschichte der Bereich-Emissions-Rasterelektronenmikroskopie, magnetische Immersionsobjektivtechnologie mit Umwelt-SEM-Technologie. Beide diese Technologien sind FEI-Firmenkerntechnologiekompetenzen seit der Mitte zu den späten Neunziger Jahren gewesen. Die Interaktion erbringt eindeutige Ultrahochauflösung, Grobvakuumkennzeichnungsmöglichkeiten in einer Umgebung, die Ladungsansammlung auf nicht leitfähigen Materialien oder nicht leitfähigen Bauteilen von Nano-einheiten unterdrückt; darüber hinaus unterdrückt sie Elektronträger verursachte Verunreinigung, resultierend aus vorhergehendes Beispielverarbeitungsschritten.

Anlage Optionen Und Anwendungen

Anlagenoptionen umfassen spezifische Hilfsmittel für Nanotech wie Bordsoftware für Mustergeneration, ein elektrostatisches Träger Hochgeschwindigkeitsblanker sowie Gaseinspritzungsanlagen für direktes Elektronenstrahlschreiben von nanostructures. Eindrucksvolle Ergebnisse sind auf Common aber schwierigen Nanotechnologiematerialien wie erzielt worden:

·         Diamantfilme

·         Kohlenstoff nanotubes

·         GMR-Köpfe

·         Nanoparticles

·         Niedriger K Inhalt Halbleiter Querschnitt-/with

·         PlastikElektronik

·         Poröse Materialien (z.B. Silikon)

·         Glassubstratflächen

·         Organische Materialien

Größen

Der Nova NanoSEM ist mit drei verschiedenen Stufengrößen erhältlich: 6" (150 mm), 4" (100 mm) oder 2" (50 mm).

Quelle: FEI-Firma

Zu mehr Information über diese Quelle besuchen Sie bitte FEI-Firma

Date Added: Apr 15, 2005 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 13. June 2013 01:25

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