从事新星 NanoLab DualBeam SEM/FIB 纳米技术工作区的成功的简介， FEI 公司介绍为 Nanotech 家庭成员的下个新星工具： 新星 NanoSEM。 此仪器是充电并且/或者沾染范例的超离频的解决方法描述特性的一个专用的 FEG-SEM 解决方法。
· 世界的仅真高分辨率，低真空 FEG-SEM。
· 充电并且/或者沾染的纳诺材料或设备最终描述特性解决方法。
· 1.8 毫微米在低 kV 的想象解决方法在高真空和低真空。
· 与 4kx4k 数字式模式生成程序的在机上模式生成软件。
· nanostructures 直接电子束文字的选项气体化学解决方法。
· 压力阶段技术传送 - 到非常高想象放大非常高反复性准确性、非常低阶段偏差和低跑步的速度范例定位的由阶段移动。
NanoSEM 给研究员和开发员带来史无前例的功能在纳米技术实验室与绝缘和沾染的纳诺材料一起使用并且/或者 - 设备。 它在场致发射扫描电子显微镜术的历史记录结合，第一次，磁性浸没透镜技术与环境 SEM 技术。 这两技术是 FEI 公司核心技术能力从这个中间名对 90 年代后期。 联合作用在抑制在绝缘的材料或纳诺设备绝缘的要素的充电积累的环境里产生唯一超离频的解决方法，低真空描述特性可能性; 另外它抑制电子射线感应沾染起因于早先范例处理步骤。
系统选项包括为 Nanotech 的特定工具例如模式生成、一高速静电射线 blanker，以及气体注射系统的在机上软件 nanostructures 直接电子束文字的。 印象深刻的结果在公用，但是富挑战性的纳米技术材料得到了例如：
· 金刚石影片
· 碳 nanotubes
· GMR 题头
· Nanoparticles
· 半导体横断面 /with 低 k 目录
· 塑料电子
· 多孔材料 (即硅)
· 玻璃基体
· 有机材料
新星 NanoSEM 对三个不同阶段范围是可用的： 6" (150 mm)， 4" (100 mm) 或 2" (50 mm)。
来源： FEI 公司
关于此来源的更多信息请拜访 FEI 公司
Last Update: 11. January 2012 15:38
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