場致發射納米技術應用的掃描電子顯微鏡; 新星 NanoSEM - 供應商數據由 FEI 公司

背景

從事新星 NanoLab DualBeam SEM/FIB 納米技術工作區的成功的簡介, FEI 公司介紹為 Nanotech 家庭成員的下個新星工具: 新星 NanoSEM。 此儀器是充電並且/或者沾染範例的超離頻的解決方法描述特性的一個專用的 FEG-SEM 解決方法。

關鍵利益

·         世界的仅真高分辨率,低真空 FEG-SEM。

·         充電並且/或者沾染的納諾材料或設備最終描述特性解決方法。

·         1.8 毫微米在低 kV 的想像解決方法在高真空和低真空。

·         與 4kx4k 數字式模式生成程序的在機上模式生成軟件。

·         nanostructures 直接電子束文字的選項氣體化學解決方法。

·         壓力階段技術傳送 - 到非常高想像放大非常高反覆性準確性、非常低階段偏差和低跑步的速度範例定位的由階段移動。

磁性浸沒透鏡技術

NanoSEM 給研究員和開發員帶來史無前例的功能在納米技術實驗室與绝緣和沾染的納諾材料一起使用並且/或者 - 設備。 它在場致發射掃描電子顯微鏡術的歷史記錄結合,第一次,磁性浸沒透鏡技術與環境 SEM 技術。 這兩技術是 FEI 公司核心技術能力從這個中間名對 90 年代後期。 聯合作用在抑制在绝緣的材料或納諾設備绝緣的要素的充電積累的環境裡產生唯一超離頻的解決方法,低真空描述特性可能性; 另外它抑制電子射線感應沾染起因於早先範例處理步驟。

系統選項和應用

系統選項包括為 Nanotech 的特定工具例如模式生成、一高速靜電射線 blanker,以及氣體注射系統的在機上軟件 nanostructures 直接電子束文字的。 印象深刻的結果在公用,但是富挑戰性的納米技術材料得到了例如:

·         金剛石影片

·         碳 nanotubes

·         GMR 題頭

·         Nanoparticles

·         半導體橫斷面 /with 低 k 目錄

·         塑料電子

·         多孔材料 (即硅)

·         玻璃基體

·         有機材料

範圍

新星 NanoSEM 對三個不同階段範圍是可用的: 6" (150 mm), 4" (100 mm) 或 2" (50 mm)。

來源: FEI 公司

關於此來源的更多信息请請拜訪 FEI 公司

Date Added: Apr 15, 2005 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 13. June 2013 01:15

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