量を使用して工業プロセスの実験室のためのフィールド放出スキャンの電子顕微鏡検査 FEI の会社からの 200 3D DualBeam (他愛ない嘘 SEM)

背景

量は画像挑戦的なサンプルの多重横断面を分析するために産業プロセス制御実験室に 200 3D DualBeam (他愛ない嘘/SEM) 理想的に適します。 物質科学の実験室のためにそれはより詳細な分析のための in-situ ダイナミックな実験、 3D イメージ投射および分析および TEM のサンプルの機能を準備提供します。

主な利点

マルチ真空のモードはあらゆるサンプルの in-situ ダイナミックな実験およびイメージ投射および分析可能にします。

  • タングステンの電子ソースは EDS のような解析技法にとって理想的です。
  • 他愛ない嘘の模造プロセスを監視するための SPI のモード。
  • 統合されたデジタル模造エンジンは最適化されて割り当てま複雑な形の各アプリケーション、生産および 3D 製粉のための条件の特許を取ります。
  • 正確で、効率的で使いやすいオートメーションのソフトウェア。
  • 多目的なシステムは分析およびサンプル処理のためのアクセサリの広い範囲を可能にします。

機能

低温学の段階を接続する機能とつながれる複数の真空のモードは (を含む ESEM) 生命科学の実験室にサンプルの最も挑戦的のから情報を集める一義的な方法を提供します。

量は 200 3D、タングステンの電子コラムと、イオンビームのコラムを集中し、ガス注入器システムは、サイト特定の十字の区分の機能すべてを、物質的な沈殿およびエッチング模造する、複雑なイオンビームイメージ投射および分析提供する完全な DualBeam です。 複数の真空のモードは研究者にぬれた、冷たいですまたは高温条件および画像の in-situ ダイナミックな実験を行なうかまたは満たさないでサンプルを分析する機能を提供します。

ソース: FEI の会社
このソースのより多くの情報のために FEI の会社を訪問して下さい

Date Added: Apr 15, 2005 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 13. June 2013 01:30

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