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DOI : 10.2240/azojono0108

X射線反射F127為模板的介孔二氧化矽薄膜和P123小號的比較研究

阿蘭Gibaud, 馬克J. 恆基兆業 ,瑪吉可樂, 桑德琳Dourdain,讓-弗朗索瓦Bardeau和 約翰W白

提交時間:2005年8月23
發表於:2005年12月6

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摘要

模板由兩嵌段共聚物(P123和F127)從pluronics家庭和有p6m二維對稱X射線反射(XR)調查前,取出後的矽膠基質表面活性劑的二氧化矽薄膜 XR的曲線分析矩陣技術,提供有關的電影的平均電子密度,壁厚,牆上的電子密度,半徑的毛孔和隨後的孔隙度等介孔薄膜信息。 報告模板,這兩種表面活性劑的矽膠基質產生的分歧和討論。

簡介

在過去十年中迅速發展。表面活性劑模板的矽酸鹽材料的合成[ 1 ]用這種方法顯示承諾的無定形矽酸鹽框架的統一控制孔徑作為催化劑載體,傳感器,過濾膜和形成 這些材料薄膜 在光電應用領域的各種 。,已成為一個活躍的研究領域 ,其中X 射線反射,可以用來揭示結構信息 [ 2,3 4 ]   其中表面活性劑,非離子型嵌段家庭的三嵌段共聚物為模板劑被廣泛使用,這主要是因為他們使結構具有較大的孔隙和所取得的CTAB陽離子表面活性劑,用於直接的結構時,那些牆。 [ 5 ]高度有組織的二維(2D)六方或立方毛孔陣列薄膜與嵌段共聚物模板成功,並已通過透射電子顯微鏡,掠入射小角散射(GISAXS)和X射線散射特徵。[ 7 通過建模等影片的電子密度分佈,毛孔的大小,壁厚,但也孔隙度和比表面積進行評估。

Date Added: Dec 7, 2005

Last Update: 10. October 2011 12:23

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