對 CD 的瀏覽的 (SPM)探測顯微學分析或 DVD 光盤和模子由 NT-MDT

AZoNano- 納米技術 - 為納米技術徽標的 NT-MDT 工具

包括的事宜

背景

對 CDs 和 DVDs 的坑分析的 SPM

觀察磁化反轉成像法

設備和方法

地勢評定的操作模式

頰鬚類型懸臂

數據的統計處理

確定 CD/DVD 模子質量的參數

表面質量和表面損壞

模子地勢

被確定的其他信息和參數

背景

雷射唱片 (CD)和數字多用盤 (DVD)現在是普遍的數據存儲。 CD/DVD 信息單位是所謂的坑。 CD 和 DVD 通過標記聚碳酸酯纖維做。 鎳模子通常使用作為包含爆沸的印花稅。 這些爆沸形成坑。 組的質量光盤取決於一個一個模子的質量,即模子初步的控制是必要的。

對 CDs 和 DVDs 的坑分析的 SPM

磁性鎳模子和其大號 (140mm) 做電子顯微鏡術控制的困難。 也有在電原則基礎上的表面分析的設備,但是這樣評定不可能形象化坑幾何。 SPM 是為坑幾何分析的理想的工具由於大範例 (Fig.1) 的非破壞性的評定的高分辨率,高評定快速性和可能性。 使用在這個模子的製造的下 SPM CD/DVD 的是質量監控透視圖方法。 檢查模子質量和減少缺陷外觀的風險的 SPMs 幫助。 學習這個模子在變形的多種外部影響,例如觀察的下地勢更改由於擦亮或打擊的是可能的。 由於熱化觀察地勢更改在按聚碳酸酯纖維期間,也是可能的。 在製造模子表面的幾個部分期間请是受控的,并且這個模子的質量被讚賞。 並且光盤可選擇性控制被執行。

AZoNano - 納米技術 - SPM 評定的 CD 唯一坑。

圖 1。

觀察磁化反轉成像法

在外部磁場的實驗使我們觀察磁化反轉成像法。 在磁力顯微學評定期間, NT-MDT SPMs 的設計准許適用多種外部 (MFM)磁場。 當前結果得到了與解難題者 P47 裝備電磁體,可能導致磁場至 500Oe。 這個被學習的範例是在高導向高溫分解的石墨 (濃厚 40nm) 存款的鈷多晶的被仿造的影片以微米範圍長方形 (Fig.1) 的形式。

設備和方法

出現從大範例的評定的上述可能性 CD/DVD 行業主要需求對 SPM。 有的 NT-MDT 設備三基本構成適應此需要并且提供有效分析 CD/DVD :

      SPM 解難題者 P7LS (圖 2)。 動力化的確定的階段、真空持有人範例的與這個範圍 300 mm 直徑,光學查看系統和自動途徑使此設備最方便為 CD/DVD 行業。

      SPM 立場與特殊被設計的 SMENA 基礎的組合單獨 SMENA 大範例的 (圖 2)。 此設備可能提供和一樣解難題者 P7LS 提供的噪聲級。 這樣設計不包括真空持有人和動力化確定階段。 自動途徑是可用的在需求。 確定這個範例用手被執行。

      SPM 立場與特殊長的行程的單獨 SMENA,允許安置在他們之間的 CD/DVD。

AZoNano - 納米技術 - NT-MDT SPM 解難題者 P7LS。

圖 2。

這個用戶必須在這種情況下提供這個範例的困難緊固在技巧下。

地勢評定的操作模式

有地勢評定的二個主要模式: 聯絡和半聯絡。 半聯絡模式使用擺動以其共鳴頻率的懸臂。 結果,這個技巧和範例是在聯絡動擺期間的仅小的部分。 這導致對摩擦和血絲強制的破壞性的活動的看得出的減少。 所以半聯絡模式適用於軟的材料例如聚碳酸酯纖維。

頰鬚類型懸臂

「頰鬚類型」 NT-MDT 被製造的懸臂比標準硅懸臂提供更加準確的評定。 此種懸臂包括碳針增添的一個標準硅懸臂以高長寬比。 集中的離子束 (2月) 生長在技巧的結尾的碳針。 「頰鬚類型」懸臂適用於突然的步驟的更多精密測量。 而且,碳是疏水材料,因此水吸附層是缺少的在碳技巧。 這也增加評定的準確性。

數據的統計處理

獲取的結果需要統計處理。 NT-MDT 軟件包含菜單工具 「穀物分析」 (圖 3),為統計對待位於在平面的微粒被開發 (也適用於坑)。在這些工具幫助下是可能的確定坑,由不同的圖的近似坑的幾何範圍,例如長方形,橢圓和長方形與被舍入的端 (CD/DVD 坑的模仿)。 根據這樣近似值軸的方向,在他們之間的角度和其他參數是確定的。

AZoNano - 納米技術 - 菜單 「穀物分析」的主要視圖

圖 3。

確定 CD/DVD 模子質量的參數

檢查主要測試特性的 CD/DVD 參數,確定 CD/DVD 或模子質量,是:

     挖坑 (爆沸) 表單并且挖坑 (爆沸) 範圍。 例如,坑 (爆沸) 必須有平面的區 (圖 4a)。 如果這樣平面沒有被觀察 (圖 4b),則在讀數期間的一個錯誤可以犯。 在讀數期間,坑的深度是重要參數由於其對高度的影響信號。 SPM 解難題者 P7LS 能評定與一小部分毫微米的解決方法的坑高度。

     坑 (爆沸) 端的傾斜。

     坑 (爆沸) 表面的坎坷,影響反映激光。

     履帶節距和跟蹤穩定性。

     坑數量比與唯一坑的數量。 這是重要技術典型 CD/DVD。

       坑的編號每個面積單位,即數據密度。

AZoNano - 納米技術 - 鎳模子的表面的 AFM 圖像不同的技術做的。 半聯絡模式得到的圖像,解難題者 P7LS。

圖 4。

NT-MDT 軟件可能計算調查的區的所有這些參數。

表面質量和表面損壞

並且 SPM CD/DVD 表面的檢查質量通過顯示表面損壞。 二臨時和小山在圖 5. 被看見。

AZoNano - 納米技術 - CD 的光盤的有缺陷的表面的 SPM 圖像。

圖 5。

模子地勢

坑或爆沸參數的知識被評定在這個範例的不同的安排允許有效控制 CD/DVD 製造。 圖 6 模子的顯示地勢。 在地勢的評定這個菜單 「穀物分析」被運用了於得到的地勢數據後。 在 Fig.7 爆沸標記等高的黑色線路在被預先設定的級別的; 紅線是爆沸的近似值由橢圓。 不同的參數為爆沸列陣被計算了。 有些在 Table1 顯示。 這些缺陷影響數據讀數的質量。

AZoNano - 納米技術 - CD/DVD 模子的表面地勢。

圖 6。

表 1。

 

Z 列弗

Dvolume

Dsquare

長度

寬度

Xpos

Ypos

東方

錯誤

那裡: Z 列弗被預先設定平實部分 (圖 7); Dvolume (Dv) - 爆沸的有效範圍在級別 ZLev (3√V) 上的; Dsquare (Ds) - 爆沸的有效範圍在級別的 Z = 116.7nm (√S); 長度 - 爆沸長度; 寬度 - 爆沸寬度; Xpos, Ypos - 爆沸的坐標集中; 東方 - 爆沸取向角度; 錯誤 - 近似誤差實際爆沸的由橢圓的。

AZoNano - 納米技術 - 模子爆沸的部分。

圖 7。

被確定的其他信息和參數

並且關於爆沸的傾斜的信息支持 (圖 7) 和其他參數是可用的。 表 2 存在比例區 (α) 和數量 (α) 不同的爆沸的。

表 2。

αv10-6

αS10-6

αv10-9

αS10-9

αv9-6

αS9-6

確定的參數可以為對爆沸幾何的分析,顯示技術缺陷和其他應用使用。

主要作者: V.V. Losev, S.A. Saunin 和 V.V. Zhizhimontov,

來源: NT-MDT Co。

關於此來源的更多信息请請參觀 NT-MDT Co。

 

Date Added: May 4, 2006

Last Update: 23. January 2012 09:36

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