浏览的探测显微学 (SPM),与解难题者由 NT-MDT 的 LS SPM 的自动化的评定

AZoNano- 纳米技术 - 为纳米技术徽标的 NT-MDT 工具

包括的事宜

背景

解难题者 LS SPM

自动化的评定

实验评定

照片压印的聚合物滤栅的自动评定

最佳的处理条件的调查

对宏观区的分析

在 Macroarea 的自动化的 Nanolithography

背景

与 SPM 的自动评定包括扫描参数、评定与 SPM 方法的被编程的区和自动数据分析的自动调整。 自动化的 SPM 评定的应用程序方面是:

·         组合物质研究 (范例的图书馆的高处理量描述特性与另外化学成分的或范例准备在不同的情况)。

·         宏观区的 SPM 评定通过移动在范例表面的浏览的区在定位系统帮助下。 结果与几毫米或厘米的范围的区可以由 SPM 评定 (在商业 SPMs 的最大扫描范围由 ~100 微米限制)。

·         SPM 修改 (nanolithography) 在宏观区。

·         在 CD/DVD 磁盘表面的行业 (即控制的质量管理)。

解难题者 LS SPM

用特殊软件 LS 装备的被修改的 SPM 解难题者是为表面的自动描述特性和修改的一个重要工具在所有基本的 SPM 模式下。 Fig.1 显示解难题者 LS,每一个的范例持有人 4 个标准 4 英寸硅片的可能包括喷墨机打印存款的,例如,很多范例。

AZoM - 金属、陶瓷、聚合物和综合 - 自动化的评定的被修改的解难题者 LS ()。 确定四个 4 英寸硅片的平台 (正确)。

图 1。

自动化的评定

图 2 显示自动化的评定菜单 25 点的。 每点坐标在这个程序被保存。 这个软件自动地获取这个当前位置的一个光学图象 (与下来解决方法对 1.5 微米),进行 SPM 评定,移动这个范例向下个被保存的位置等。 所有被保存的数据可以由这个软件自动地处理为了得到统计数据或某一参数的所有被评定的区。

AZoM - 金属、陶瓷、聚合物和综合 - 自动化的 SPM 的菜单。

图 2。

实验评定

下述的结果在组得到了 U.S. Schubert (nology,荷兰,与荷兰语聚合物学院合作的 http://www.schubert-group.com) 艾恩德霍芬大学教授。 自动评定的被修改的解难题者 LS 为这些实验使用了。

照片压印的聚合物滤栅的自动评定

有选择性的辐照区域通过包含预聚物、单体和照片创始者的范例的屏蔽导致周期性地高的替补结构 (Fig.3) 的形成。 对于应用在这个目标的显示技术一是得到最高替补结构。 高的结构的形成依靠象最初的胶片厚度、构成、应用的屏蔽的光的期间,强度和这个温度的很大数量的范例准备条件于发展阶段。

AZoM - 金属、陶瓷、聚合物和综合 - 结构的 AFM 照片与 20 微米的投 (左); 完全范例的概要介绍 (正确)。

图 3。

最佳的处理条件的调查

要调查最佳的处理条件,一个组合设置被选择在一个大基体二参数同时变化。 这个发生的范例包括聚合物滤栅四行用不同的间距的 (5, 10, 20 和 40 微米)。 每行包括准备在不同的情况的 11 区 (即光强度或温度差在发展) (Fig.3 期间,权利)。 这个范例的总规模是 25x102 mm。 例如,自动 SPM 分析允许我们确定范例准备的适当的条件聚合物滤栅最大长宽比达到。 Fig.4 展示一个刺耳高度的依赖性对光强度 (为范例得到通过使用强度梯度屏蔽)。 这个范例包括 44 区: 4 间距和能源剂量的 11 个值为聚合物滤栅的形成使用了。 自动评定在开发的模式下被执行了。 调查的结果是随着能源剂量的增加,显示高度的更改每刺耳期间的 4 依赖性。 此信息允许最佳的准备条件的确定这个范例的。

AZoM - 金属、陶瓷、聚合物和综合 - 范例图书馆的自动评定的结果。 的聚合物的高度依赖性磨碎对光强度 (能源剂量) 4 间距的磨碎: 5, 10, 20 和 40 微米。

图 4。

对宏观区的分析

大区的评定与 SPM 的由 SPM 题头的移动是仅可能的在范例表面的由这个定位系统。 对空转上漆的聚合物影片的厚度的分析 3.5 cm 距离在自动 SPM 帮助下执行。 在硅存款的这部空转上漆的影片由刀子 (Fig.5) 抓,并且影片的厚度在沿临时 (Fig.6) 的 19 个位置被评定了。 那些位置坐标在浏览前的软件被保存了。 胶片厚度被确定了作为最大数量之间的距离在象素的编号依赖性对象素 z 坐标。 对胶片厚度 (Fig.6,权利) 的分析向显示影片的中间部分是相当统一的; 同时在影片附近边缘的一 7 mm 区有可变的厚度指示移动物质外部在空转涂层期间。

AZoM - 金属、陶瓷、聚合物和综合 - 临时的光学图象 (临时是由红色箭头表示的)。

图 5。

AZoM - 金属、陶瓷、聚合物和综合 - 临时的 SPM 图象 (左),胶片厚度的确定作为距离的在统计数据的峰顶之间 (中心),决赛成绩: 胶片厚度依赖性对沿临时的距离 (正确)。

图 6。

在 Macroarea 的自动化的 Nanolithography

通过使用导电性 SPM 技巧,在 (OTS)硅片存款的 octadecyl trichlorsilane 单层可以被氧化电化学上。 在正常的情况下一块稀薄的水层总是存在表面。 分解产品因此允许我们通过适用电压更换3 终端 - OTS 层的 CH 组对 - COOH 于这个技巧。 最小的被修改的区可以是一样小的,象技巧范围 (它也取决于湿气,应用的电压等)。 氧化作用的结果是可视的在侧力图象在联系模式下。 平版印刷的模式的转换在大区的通过移动这个确定的阶段形成与在毫微米范围的最小的详细资料的宏观平版印刷的模式。 Fig.7 显示一部被氧化的 OTS 影片的侧力配电器。 此模式 (Fig.7 部件) 被转换了在一大区通过移动确定阶段。 Fig.7 纠正大于扫描范围被修改的区的仅的显示零件。 总共 100 部件 (一 10 通过 10) 跨过 0.2 由 0.2 mm 在较少做然后 2 时数。

AZoM - 金属、陶瓷、聚合物和综合 - 被氧化的区侧力显微学: 仿造部件 (离开), 9 个部件 (正确)。

图 7。

注意: 参考一份完整列表可以通过是指原始单据得到。

主要作者: A. Alexeev 和 D. Wouters

来源: NT-MDT Co。

关于此来源的更多信息请参观 NT-MDT Co。

Date Added: May 4, 2006 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 13. June 2013 06:17

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