瀏覽的探測顯微學 (SPM),與解難題者由 NT-MDT 的 LS SPM 的自動化的評定

AZoNano- 納米技術 - 為納米技術徽標的 NT-MDT 工具

包括的事宜

背景

解難題者 LS SPM

自動化的評定

實驗評定

照片壓印的聚合物濾柵的自動評定

最佳的處理條件的調查

對宏觀區的分析

在 Macroarea 的自動化的 Nanolithography

背景

與 SPM 的自動評定包括掃描參數、評定與 SPM 方法的被編程的區和自動數據分析的自動調整。 自動化的 SPM 評定的應用程序方面是:

·         組合物質研究 (範例的圖書館的高處理量描述特性與另外化學成分的或範例準備在不同的情況)。

·         宏觀區的 SPM 評定通過移動在範例表面的瀏覽的區在定位系統幫助下。 結果與幾毫米或厘米的範圍的區可以由 SPM 評定 (在商業 SPMs 的最大掃描範圍由 ~100 微米限制)。

·         SPM 修改 (nanolithography) 在宏觀區。

·         在 CD/DVD 磁盤表面的行業 (即控制的質量管理)。

解難題者 LS SPM

用特殊軟件 LS 裝備的被修改的 SPM 解難題者是為表面的自動描述特性和修改的一個重要工具在所有基本的 SPM 模式下。 Fig.1 顯示解難題者 LS,每一個的範例持有人 4 個標準 4 英寸硅片的可能包括噴墨機打印存款的,例如,很多範例。

AZoM - 金屬、陶瓷、聚合物和綜合 - 自動化的評定的被修改的解難題者 LS ()。 確定四個 4 英寸硅片的平臺 (正確)。

圖 1。

自動化的評定

圖 2 顯示自動化的評定菜單 25 點的。 每點坐標在這個程序被保存。 這個軟件自動地獲取這個當前位置的一個光學圖像 (與下來解決方法對 1.5 微米),進行 SPM 評定,移動這個範例向下個被保存的位置等。 所有被保存的數據可以由這個軟件自動地處理為了得到統計數據或某一參數的所有被評定的區。

AZoM - 金屬、陶瓷、聚合物和綜合 - 自動化的 SPM 的菜單。

圖 2。

實驗評定

下述的結果在組得到了 U.S. Schubert (nology,荷蘭,與荷蘭語聚合物學院合作的 http://www.schubert-group.com) 艾恩德霍芬大學教授。 自動評定的被修改的解難題者 LS 為這些實驗使用了。

照片壓印的聚合物濾柵的自動評定

有選擇性的輻照區域通過包含預聚物、單體和照片創始者的範例的屏蔽導致週期性地高的替補結構 (Fig.3) 的形成。 對於應用在這個目標的顯示技術一是得到最高替補結構。 高的結構的形成依靠像最初的膠片厚度、構成、應用的屏蔽的光的期間,強度和這個溫度的很大數量的範例準備條件於發展階段。

AZoM - 金屬、陶瓷、聚合物和綜合 - 結構的 AFM 照片與 20 微米的投 (左); 完全範例的概要介紹 (正確)。

圖 3。

最佳的處理條件的調查

要調查最佳的處理條件,一個組合設置被選擇在一個大基體二參數同時變化。 這個發生的範例包括聚合物濾柵四行用不同的間距的 (5, 10, 20 和 40 微米)。 每行包括準備在不同的情況的 11 區 (即光強度或溫度差在發展) (Fig.3 期間,權利)。 這個範例的總規模是 25x102 mm。 例如,自動 SPM 分析允許我們確定範例準備的適當的條件聚合物濾柵最大長寬比達到。 Fig.4 展示一個刺耳高度的依賴性對光強度 (為範例得到通過使用強度梯度屏蔽)。 這個範例包括 44 區: 4 間距和能源劑量的 11 個值為聚合物濾柵的形成使用了。 自動評定在開發的模式下被執行了。 調查的結果是隨著能源劑量的增加,顯示高度的更改每刺耳期間的 4 依賴性。 此信息允許最佳的準備條件的確定這個範例的。

AZoM - 金屬、陶瓷、聚合物和綜合 - 範例圖書館的自動評定的結果。 的聚合物的高度依賴性磨碎對光強度 (能源劑量) 4 間距的磨碎: 5, 10, 20 和 40 微米。

圖 4。

對宏觀區的分析

大區的評定與 SPM 的由 SPM 題頭的移動是仅可能的在範例表面的由這個定位系統。 對空轉上漆的聚合物影片的厚度的分析 3.5 cm 距離在自動 SPM 幫助下執行。 在硅存款的這部空轉上漆的影片由刀子 (Fig.5) 抓,并且影片的厚度在沿臨時 (Fig.6) 的 19 個位置被評定了。 那些位置坐標在瀏覽前的軟件被保存了。 膠片厚度被確定了作為最大數量之間的距離在像素的編號依賴性對像素 z 坐標。 對膠片厚度 (Fig.6,權利) 的分析向顯示影片的中間部分是相當統一的; 同時在影片附近邊緣的一 7 mm 區有可變的厚度指示移動物質外部在空轉塗層期間。

AZoM - 金屬、陶瓷、聚合物和綜合 - 臨時的光學圖像 (臨時是由紅色箭頭表示的)。

圖 5。

AZoM - 金屬、陶瓷、聚合物和綜合 - 臨時的 SPM 圖像 (左),膠片厚度的確定作為距離的在統計數據的峰頂之間 (中心),決賽成績: 膠片厚度依賴性對沿臨時的距離 (正確)。

圖 6。

在 Macroarea 的自動化的 Nanolithography

通過使用導電性 SPM 技巧,在 (OTS)硅片存款的 octadecyl trichlorsilane 單層可以被氧化電化學上。 在正常的情況下一塊稀薄的水層總是存在表面。 分解產品因此允許我們通過適用電壓更換3 終端 - OTS 層的 CH 組對 - COOH 於這個技巧。 最小的被修改的區可以是一樣小的,像技巧範圍 (它也取決於濕氣,應用的電壓等)。 氧化作用的結果是可視的在側力圖像在聯繫模式下。 平版印刷的模式的轉換在大區的通過移動這個確定的階段形成與在毫微米範圍的最小的詳細資料的宏觀平版印刷的模式。 Fig.7 顯示一部被氧化的 OTS 影片的側力配電器。 此模式 (Fig.7 部件) 被轉換了在一大區通過移動確定階段。 Fig.7 糾正大於掃描範圍被修改的區的仅的顯示零件。 總共 100 部件 (一 10 通過 10) 跨過 0.2 由 0.2 mm 在較少做然後 2 時數。

AZoM - 金屬、陶瓷、聚合物和綜合 - 被氧化的區側力顯微學: 仿造部件 (離開), 9 個部件 (正確)。

圖 7。

注意: 參考一份完整列表可以通過是指原始單據得到。

主要作者: A. Alexeev 和 D. Wouters

來源: NT-MDT Co。

關於此來源的更多信息请請參觀 NT-MDT Co。

Date Added: May 4, 2006 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 13. June 2013 06:22

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