Trattamenti di Deposito del Livello del Plasma Remoto (ALD) e Termale Atomici ALD Con Lo Strumento Atomico di Deposito del Livello (ALD) di FlexALTM Dagli Strumenti di Oxford

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Sfondo

Vantaggi di sistema Unici

Trattamenti

Gamma di Prodotti

Sfondo

La famiglia di prodotto di FlexAL degli Strumenti di Oxford' fornisce un nuovo intervallo della flessibilità e della capacità nell'assistenza tecnica delle strutture e delle unità del nanoscale offrendo a plasma remoto i trattamenti del Deposito del Livello (ALD) ed il termale Atomici ALD all'interno di singolo sistema per consegnare:

·         Flessibilità Massima nella scelta dei materiali e dei precursori

·         Trattamenti A Bassa Temperatura permessi a da plasma ALD

·         Danno Basso mantenuto mediante l'uso di plasma remoto

·         Trattamenti Controllabili e ripetibili via dall'l'interfaccia di software guidata da ricetta

Vantaggi di sistema Unici

·         La Capacità di trattare dal piccolo wafer collega fino ai wafer pieni da 200 millimetri

·         entrata Caricamento-Bloccata del wafer per sicurezza, il conteggio di particella basso ed il breve tempo di caricamento--trattamento-avvio

·         Delivery system Unico del precursore che offre il controllo della temperatura preciso del precursore con il forno ventilatore-assistito e le tubature di adduzione heated ottimizzate

·         Scatola per guanti Integrata sui moduli del precursore per il cambiamento in situ

·         Porte Integrali per permettere l'aggiunta degli strumenti ellipsometry in situ di misura.

·         Vanno d'accordo lo spazio compatto di meno di 2 x 2 m. anche con il numero massimo dei moduli del precursore

·         Può essere integrato nel sistema del cluster con altri strumenti trattati, compreso l'intervallo degli Strumenti Plasmalab®System100 di Oxford degli strumenti del deposito ed incissione all'acquaforte

·         Di Appoggio tramite le vendite globali ed il supporto di rete degli Strumenti di Oxford; con la tecnologia della piattaforma basata sullo strumento popolare di trattamento PlasmalabSystem100, le prestazioni familiari del prodotto di FlexAL dall'affidabilità provata dentro oltre 300 hanno installato i sistemi universalmente

·         Sviluppato in consultazione con gli esperti Atomici principali in Deposito (ALD) del Livello in Europa e

·         Tecnologia Conceduta Una Licenza A dall'Internazionale NV dell'ASM

Trattamenti

I trattamenti Standard disponibili sui sistemi di FlexAL includono:

·         Trattamento remoto del plasma di AlO - giù a deposito di temperatura ambiente

·         Trattamento remoto dielettrico alto--K del plasma di HfO

·         Trattamento dielettrico alto--K del termale ALD di HfO

·         Trattamento remoto del plasma dello stagno

Gamma di Prodotti

La famiglia di prodotto di FlexAL ALD consiste di:

·         FlexALRP che offre plasma remoto ALD

·         Plasma di FlexALRPT sia che termale remoti d'offerta ALD in un singolo sistema per fornire un'ampia scelta dei precursori e dei trattamenti

·         FlexALRPX che offre la vasta gamma delle opzioni del precursore all'interno sia di plasma remoto che del termale ALD, avendo il numero massimo dei moduli di consegna del precursore e delle temperature di deposito fino a ºC 700

AZoNano - A - Z di Nanotecnologia - rivestimento di Stagno Conforme tramite il Deposito Atomico del Livello del plasma remoto

Figura 1.

AZoNano - A - Z di Nanotecnologia - sistema di FlexAL ALD

Figura 2.

Sorgente: Strumenti di Oxford

Per ulteriori informazioni su questa sorgente visualizzi prego gli Strumenti di Oxford

Date Added: Oct 11, 2006 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 13. June 2013 12:39

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