Процессы Низложения Слоя Дистанционной Плазмы (ALD) Атомные и Термальное ALD С Инструментом Низложения Слоя FlexALTM (ALD) Атомным От Аппаратур Оксфорда

Покрытые Темы

Предпосылка

Уникально преимущества системы

Процессы

Вид продукции

Предпосылка

Совокупность продуктов FlexAL Аппаратур Оксфорда' обеспечивает новый ряд гибкости и возможности в инженерстве структур и приборов nanoscale путем предлагать дистанционной плазме Атомные процессы Низложения (ALD) Слоя и термальное ALD внутри одиночная система для того чтобы поставить:

·         Максимальная гибкость в выборе материала и прекурсоры

·         Низкотемпературные процессы позволенные плазмой ALD

·         Низкое повреждение поддерживаемое при помощи дистанционной плазмы

·         Controllable, repeatable процессы через рецепт-управляемый интерфейс ПО

Уникально преимущества системы

·         Способность отрегулировать от малой вафли соединяет до польностью вафли 200 mm

·         Нагрузк-Locked вход вафли на безопасность, низкий подсчет количества частиц и короткое время нагрузк-к-процесс-старта

·         Уникально средство доставки прекурсора предлагая точный контроль температуры прекурсора с вентилятор-помогать печью и оптимизированными heated линиями нагнетания

·         Объединенный бардачок на модулях прекурсора для в-situ перестроения

·         Объединенные порты для того чтобы позволить добавлению в-situ ellipsometry инструментов измерения.

·         Пригонки в компактном космосе меньш чем 2 x 2 m даже с максимальным числом модулей прекурсора

·         May быть интегрировано в системе группы с другими отростчатыми инструментами, включая ряд Аппаратур Plasmalab®System100 Оксфорда инструментов etch и низложения

·         Подперто сбываниями Аппаратур Оксфорда глобальный и сетью поддержки; при технология платформы основанная на популярном инструменте процесса PlasmalabSystem100, совокупность продуктов FlexAL помогает от доказанной надежности внутри над 300 установленными системами всемирно

·         Превращено в консультации c ведущими Атомными специалистами Низложения (ALD) Слоя в Европе, и

·         Лицензированная технология от ASM Международного NV

Процессы

Стандартные процессы доступные на системах FlexAL включают:

·         Процесс плазмы AlO дистанционный - вниз к низложению комнатной температуры

·         Процесс плазмы HfO высокий-k диэлектрический дистанционный

·         Процесс восходящего потока теплого воздуха ALD HfO высокий-k диэлектрический

·         Процесс плазмы олова дистанционный

Вид продукции

Совокупность продуктов FlexAL ALD состоит из:

·         FlexALRP предлагая дистанционную плазму ALD

·         Плазма FlexALRPT предлагая и дистанционная и термальное ALD в одиночной системе для того чтобы обеспечить широкий выбор прекурсоров и процессов

·         FlexALRPX предлагая широкийа ассортимент вариантов прекурсора как в пределах дистанционной плазмы, так и в пределах термального ALD, имеющ максимальное число модулей поставки прекурсора и температур низложения до ºC 700

AZoNano - A к Z Нанотехнологии - Конформное покрытие Олова Низложением Слоя дистанционной плазмы Атомным

Диаграмма 1.

AZoNano - A к Z Нанотехнологии - система FlexAL ALD

Диаграмма 2.

Источник: Аппаратуры Оксфорда

Для больше информации на этом источнике пожалуйста посетите Аппаратуры Оксфорда

Date Added: Oct 11, 2006 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 13. June 2013 12:54

Ask A Question

Do you have a question you'd like to ask regarding this article?

Leave your feedback
Submit