远程等离子基本层证言 (ALD)进程和热量 ALD 与 FlexALTM 基本层证言 (ALD)工具从牛津仪器

包括的事宜

背景

唯一系统增益

进程

产品范围

背景

牛津仪器’ FlexAL 产品系列通过提供远程等离子基本层证言进程和热量 ALD 在一个唯一系统内传送提供灵活性和功能的一个新的 (ALD)范围在 nanoscale 结构和设备工程:

·         在材料选择的最大的灵活性和前体

·         等离子启用的低温进程 ALD

·         低的损害被维护使用远程等离子

·         可控制,可重复的进程通过处方主导的软件界面

唯一系统增益

·         能力从小的薄酥饼处理编结充分的 200 mm 薄酥饼

·         安全性、低微粒计数和短的装载对进程起始时间时间的负荷锁着的薄酥饼项

·         提供与风扇协助解决的烤箱和优化激昂的交货行的唯一前体送货系统准确的前体温度控制

·         在前体模块的集成手套盒原地转换的

·         允许原地 ellipsometry 评定工具的添加的集成端口。

·         适合紧凑空间少于 2 x 2 m 甚而与前体模块的最大数字

·         在与其他处理工具的字符串系统集成,包括牛津铭刻和证言工具的仪器 Plasmalab®System100 范围

·         返回通过牛津仪器的全球销售额和支持网络; 当平台技术在普遍的 PlasmalabSystem100 进程工具基础上, FlexAL 产品系列受益于证明的可靠性完全成功 300 个安装的系统全世界

·         开发经与主导的基本层证言 (ALD)专家磋商关于欧洲,

·         从 ASM 国际 NV 的被准许的技术

进程

标准进程可用在 FlexAL 系统包括:

·         AlO 远程等离子进程 - 下来对室温证言

·         HfO 高的 k 电介质远程等离子进程

·         HfO 高的 k 电介质上升暖流 ALD 进程

·         罐子远程等离子进程

产品范围

FlexAL ALD 产品系列包括:

·         提供远程等离子 ALD 的 FlexALRP

·         FlexALRPT 提供的远程等离子和热量 ALD 在提供前体和进程一个宽选择的一个唯一系统

·         提供大范围在远程等离子和热量 ALD 内的前体选项的 FlexALRPX,有前体发运模块和证言温度的最大数字至 700 ºC

AZoNano - 纳米技术 A 到 Z - 由远程等离子基本层证言的保形镀锡

图 1。

AZoNano - 纳米技术 A 到 Z - FlexAL ALD 系统

图 2。

来源: 牛津仪器

关于此来源的更多信息请参观牛津仪器

Date Added: Oct 11, 2006 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 13. June 2013 12:26

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