Controllo di qualità del Rivestimento Riflettente della Micro-Fessura Con il Tester del Nano-Graffio (NST) dagli Strumenti di CSM

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Tester di Nanoscratch

 

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Il sistema della fessura dell'variabile-entrata (o Micro-Fessura) ora è comunemente usata come componente critica del diaframma in molti spettrofotometri di cui la funzione principale è di analizzare l'impronta digitale molecolare dei campioni liquidi. Questa struttura micromachined (Fig. 1) consiste di una zolla di apertura diaframma centrale di supporto da un paio dei raggi flessibili che permettono che l'indicatore luminoso delle lunghezze d'onda differenti passi attraverso la fessura. La zolla di apertura diaframma è ricoperta di (500 nanometro) rivestimento di alluminio sottile che servisce la funzione di mascheramento del tutto l'indicatore luminoso intorno all'apertura diaframma.

Tester di Nanoscratch

La Caratterizzazione dell'aderenza di questo Al che ricopre al suo Si il substrato è difficile a causa del di piccola dimensione della zolla di apertura diaframma. Il Tester del Nano-Graffio (NST) dagli Strumenti di CSM è stato usato per misurare esattamente la resistenza del graffio facendo i graffi progressivi del caricamento sopra il mn degli intervalli 0 - 10 del caricamento con un suggerimento del diamante di 5 ìm. La Fig. 1 mostra due tali graffi fatti da ogni lato della fessura centrale. La microscopia ottica Successiva lungo i percorsi del graffio permette che i punti dell'errore critico siano osservati: il primo errore consiste di incrinare sui lati del percorso (Fig. 2 (a)), mentre l'errore definitivo è veduto come delaminazione del rivestimento dal substrato (Fig. 2 (b)). Tali misure confermano l'uso del NST come strumento utile per la caratterizzazione dei rivestimenti in situ sulle ultra-piccole unità in cui i caricamenti bassi e l'alta precisione di posizionamento sono indispensabili.

Calcoli il micrografo 1.Optical di una struttura tipica di Microslit che mostra la zolla di apertura diaframma centrale di supporto da un paio dei raggi flessibili del ìm di spessore 80. Le manifestazioni zumate di immagine due graffi fatti da ogni lato della fessura centrale (direzione del graffio da sinistra a destra).

Calcoli i micrografi 2.Optical di primo errore (a) dove la criccatura iniziale accade e errore definitivo (b) dove ricoprire di alluminio completamente delaminates dal substrato di Si. Queste immagini corrispondono ad uno dei graffi indicati nella Fig. 1.

 

Sorgente: Strumenti di CSM
Per ulteriori informazioni su questa sorgente visualizzi prego gli Strumenti di CSM

Date Added: Dec 4, 2006 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 13. June 2013 12:39

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