微型裂缝反射性涂层质量管理与纳诺临时测试人员的 (NST)从 CSM 仪器

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背景
Nanoscratch 测试人员

 

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可变入口裂缝系统 (或微型裂缝) 现在是常用的作为在首席功能将分析液体范例分子指纹的许多分光光度表的重要膜片要素。 此 micromachined 结构 (图 1) 包括允许不同的波长光穿过这个裂缝的一个对支持的中央光圈挡片灵活的射线。 光圈挡片用在开口附近供应屏蔽所有光的功能的稀薄的 (500 毫微米) 铝涂层涂。

Nanoscratch 测试人员

此 Al 黏附力的描述特性涂上对其 Si 基体的由于小型是困难的光圈挡片。 (NST)做在负荷范围 0 - 10 的累进负荷临时用于从 CSM 仪器的纳诺临时测试人员准确地评定临时阻力与 5 ìm 金刚石技巧的 mN。 图 1 显示在这个中央裂缝的每个端做的二这样临时。 沿临时路径的随后的光学显微学允许关键失效点被观察: 第一个故障包括裂化在路径 (图 2 的端 (a)),而最终故障被看到作为涂层的分层法从这个基体 (图 2 的 (b))。 这样评定确认使用 NST 作为为分析涂层的有用的工具原地在低确定准确性的负荷和高是不可缺少的超小的设备。

图 1.Optical 显示中央光圈挡片的典型的 Microslit 结构的微写器支持由一个对厚度 80 ìm 灵活的射线。 迅速移动的图象显示在中央裂缝 (临时方向的每个端做的二临时从左到右)。

图 2.Optical 最初崩裂发生和最终故障 (b) 第一个故障 (a) 的微写器铝涂上从 Si 基体的地方完全地分成细层。 这些图象对应到在图显示的其中一临时 1。

 

来源: CSM 仪器
关于此来源的更多信息请参观 CSM 仪器

Date Added: Dec 4, 2006 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 13. June 2013 12:26

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