使用纳诺临时测试人员的电介质薄膜评定 (NST)从 CSM 仪器

包括的事宜

背景

电介质薄膜

测试

背景

因为陈列电介质属性的先进的证言技术、形成薄膜和涂层的简介变得普遍为应用哪里特定静电属性需要。

电介质薄膜

电介质薄膜在区有唯一功能能存储静电电荷和查找增加的使用例如印刷电路板 (PCBs)、太阳能电池和触摸板屏幕。 以困难涂层的形式,材料在使用中在特定应用今天包括二氧化钛、 Borosilicates 和钛酸盐 (Ba、 Sr、加州、 Mg 和铅),这些被找到的例如动态随机存储器芯片和传感器。 Photodefinable 电介质涂层供应许多功能例如钝化层、重点缓冲、 planarising 的层和防毒面具随后的装配生产的。 他们的机械完整性,以及黏附力,是重要对价。

AZoNano - 纳米技术 A 到 Z - 典型的关键失效点的光学微写器 (a) 累进负荷临时的在电介质薄膜。 SFM 图象 (b) 确认分层法的区域,配置文件 (c) 可能被提取为了验证堆积现象 (虚线在 (b))。

在电介质薄膜的图 1. 光学微写器 (a) 典型的关键失效点累进负荷临时的。 SFM 图象 (b) 确认分层法的区域,配置文件 (c) 可能被提取为了验证堆积现象 (虚线在 (b))。

AZoNano - 纳米技术 A 到 Z - NST 为在图显示的这个范例导致 1 包括残余的深度、有效肤深、切向力和简正力量曲线。 累进负荷刮痕硬度试验执行在这个范围 0 - 10 与半径 2 μm 一个球状金刚石技巧的 mN。 涂层的故障发生的临界荷载是 4.2 mN。

图 2. 在图显示的范例的 NST 结果 1 包括残余的深度 (RD)、有效肤深 (PD)、切向力 (FT)和简正力量 (FN)曲线。 累进负荷刮痕硬度试验执行在这个范围 0 - 10 与半径 2 μm 一个球状金刚石技巧的 mN。 涂层的故障发生的临界荷载是 4.2 mN。

测试

此条款以一个完全测试为特色的一个典型的示例进行与从 CSM 仪器的 (NST)纳诺临时测试人员在厚度 100 毫微米困难电介质涂层。 图 1 显示导致涂层故障在 4.2 mN 应用的负荷累进负荷临时的结果。

在此关键步骤附近的区是印象的在与扫描强制显微镜的高分辨率 (SFM)在图 1 (b) 和确认堆积出现沿临时路径的端的提取的配置文件 (图 1 (c))。 图 2 显示对应的评定结果: 特别的好处是钨基体的被观察的放松 (参见作为在有效肤深、 PD 和残余的深度, RD 之间的区别,如被评定使用之后扫描设备)。

来源: CSM 仪器

关于此来源的更多信息请参观 CSM 仪器

Date Added: Dec 4, 2006 | Updated: Dec 2, 2014

Last Update: 9. December 2014 19:34

Ask A Question

Do you have a question you'd like to ask regarding this article?

Leave your feedback
Submit