Beni Meccanici della Pellicola Sottile dell'Ossido di Cromo Esaminatori Facendo Uso del Tester di Durezza e del Microscopio Nani Combinati della Forza di Scansione Dagli Strumenti di CSM

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Beni Meccanici dell'Ossido di Cromo

Applicazione

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Ora è affermato che il Cr O è uno degli ossidi più duri sia sul disgaggio mineralogico (8,5 Mohs) che sul disgaggio di microdurezza (fino a 29,5 GPa). Gran Parte del lavoro di ricerca recente ha messo a fuoco su Al2 O dovuto il sui prodotto chimico e stabilità termodinamica che le rende un opzione realizzabile come strato di sbarramento nelle applicazioni tribologiche e microelettroniche.

Beni Meccanici dell'Ossido di Cromo

Comparativamente poco lavoro è stato dedicato all'ossido di cromo ed ai sui beni meccanici. Lo svantaggio principale delle pellicole di ossido confrontate ai nitruri generalmente più molli del metallo di transizione, che ora sono standard nell'industria del rivestimento protettivo di usura, è la loro resistenza più bassa. Tuttavia, l'Ass.Comm.2 ora ha trovato l'applicazione come rivestimento protettivo sulle teste letturi /scritturi nelle unità digitali della registrazione magnetica.

Questo articolo riassume alcuni risultati ottenuti in uno studio recente delle pellicole sottili della varia Ass.Comm. pronte dalla RF reattiva che polverizza. Il materiale di obiettivo era cromo metallico (la purezza di 99.5%) e tutti i depositi sono stati realizzati ad una pressione totale di PA 10-1 in AR mista ed il O. Il rapporto fra il gas inerte (AR) ed il gas reattivo (o) è stato variato negli intervalli 5 - 30% per ottenere i tenori in ossigeno differenti nelle pellicole prodotte. Gli studi di Nanoindentation combinati con microscopia della forza di scansione (SFM) sono stati usati così per studiare i beni meccanici.

AZoNano - A - Z di Nanotecnologia - dati della dentellatura di Berkovich per una pellicola sottile Cr2O3 di spessore 1μm. L'Esempio (a) mostra il risultato di un monocycle del caricamento massimo di mn 50, mentre (b) mostra gli effetti di delaminazione e di criccatura quale si presentano sopra un caricamento applicato critico di circa 80 mn. Agli più alti caricamenti i beni meccanici misurati sono quasi interamente quelli del substrato di Si.

Figura pellicola sottile di 1.O di spessore 1μm. L'Esempio (a) mostra il risultato di un monocycle del caricamento massimo di mn 50, mentre (b) mostra gli effetti di delaminazione e di criccatura quale si presentano sopra un caricamento applicato critico di circa 80 mn. Agli più alti caricamenti i beni meccanici misurati sono quasi interamente quelli del substrato di Si.

Applicazione

I risultati presentati nella Fig. 1 sono per un Cr23

Ai caricamenti bassi (< 20 mn) ricoprire soltanto i beni è misurato che dà i valori di H = 21 GPa ed E = 205 GPa. Agli più alti caricamenti applicati, per esempio 50 mn (vedi la Fig. 1 (a)), i valori sono già più bassi poichè il substrato di Si comincia ad influenzare la misura (Si ha una durezza di ~ 9 GPa). L'immagine corrispondente di SFM mostra il tamponamento a catena intorno al sito della dentellatura quale è senza dubbio dovuto delaminazione del rivestimento durante lo scarico del penetratore.

Una dentellatura ad un caricamento applicato relativamente alto di 200 mn (Fig. 1 (b)) video un piano nella curva di caricamento negli intervalli 550 - 650 nanometro di profondità. Soltanto la rappresentazione successiva di SFM permette che questo fenomeno completamente sia studiato, confermando che la mediana sotto la superficie e la criccatura laterale abbia avuto luogo intorno al sito della dentellatura. I beni meccanici misurati sono quasi interamente quelli del substrato di Si. Le considerevoli informazioni extra fornite dallo SFM sono dimostrate di nuovo per il caso del nanoindentation sulle pellicole sottili e sui rivestimenti.

Sorgente: Strumenti di CSM

Per ulteriori informazioni su questa sorgente visualizzi prego gli Strumenti di CSM

Date Added: Dec 5, 2006 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 13. June 2013 12:39

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