Свойства Тонкого Фильма Окиси Хромия Механически Расследованные Используя Совмещенный Nano Микроскоп Усилия Измерителя Твердости и Скеннирования От Аппаратур CSM

Покрытые Темы

Предпосылка

Механически Свойства Окиси Хромия

Применение

Предпосылка

Она теперь солидна что Cr O одна из самых трудных окисей и на минералогическом маштабе (8,5 Mohs) и на маштабе microhardness (до 29,5 GPa). Много из недавней научной работы фокусировало на Al2 Oдолжном к своим химикату и термодинамической стабилности которая делает им жизнеспособный вариант как вентильный слой в tribological и микроэлектронных применениях.

Механически Свойства Окиси Хромия

Сравнительно меньшяя работа была предназначена к окиси хромия и своим механически свойствам. Главный недостаток фильмов окиси сравненных к вообще более мягким нитридам металла переходной группы, которые теперь стандартны в индустрии защитного покрытия износа, их более низкая твёрдость. Однако, CrO2 теперь находил применение как защитное покрытие дальше дляписания головок в цифровых блоках магнитной записи.

Эта статья суммирует некоторые полученные результаты в недавнем изучении фильмов различного CrO тонких подготовленных реактивным RF sputtering. Материал цели был металлическим хромием (очищенностью 99.5%) и все низложения были выполнены на полном давлении PA 10-1 в смешанных Ar и O. Коэффициент между инертным газом (Ar) и реактивным газом (O) был поменян в границах 5 до 30% получить различную концентрацию кислорода в произведенных фильмах. Изучения Nanoindentation совмещенные с микроскопией усилия скеннирования (SFM) таким образом были использованы для того чтобы расследовать механически свойства.

AZoNano - A к Z Нанотехнологии - данные по вмятия Berkovich для тонкого фильма Cr2O3 толщины 1μm. Пример (a) показывает результат monocycle максимальной нагрузки 50 mN, тогда как (b) показывает влияния трескать и деламинации что происходят над критической прикладной нагрузкой mN приблизительно 80. На более высоких нагрузках измеренные механически свойства почти полностью то из субстрата Si.

Диаграмма фильм 1.O тонкий толщины 1μm. Пример (a) показывает результат monocycle максимальной нагрузки 50 mN, тогда как (b) показывает влияния трескать и деламинации что происходят над критической прикладной нагрузкой mN приблизительно 80. На более высоких нагрузках измеренные механически свойства почти полностью то из субстрата Si.

Применение

Результаты представленные в FIG. 1 для Cr23

На низких нагрузках (< mN 20) измерен покрывать только свойства давая значения H = 21 GPa и E = 205 GPa. На более высоких прикладных нагрузках, например mN 50 (см. FIG. 1 (a)), значения уже более низки по мере того как субстрат Si начинает влиять на измерение (Si имеет твердость ~ 9 GPa). Соответствуя изображение SFM показывает кучу-вверх вокруг места вмятия что никакое сомнение должное к деламинации покрытия во время разгржать индентера.

Вмятие на относительно высокой прикладной нагрузке mN 200 (FIG. 1 (b)) показывает квартиру в кривом нагрузки в ряде 550 до 650 nm глубины. Только последующее воображение SFM позволяет этому явлению полно быть расследованным, подтверждающ что близповерхностная медиана и боковой трескать осуществляли вокруг места вмятия. Измеренные механически свойства почти полностью то из субстрата Si. Значительная экстренная информация обеспеченная SFM снова продемонстрирована в случай nanoindentation на тонких фильмах и покрытиях.

Источник: Аппаратуры CSM

Для больше информации на этом источнике пожалуйста посетите Аппаратуры CSM

Date Added: Dec 5, 2006 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 13. June 2013 12:54

Ask A Question

Do you have a question you'd like to ask regarding this article?

Leave your feedback
Submit