氮化硅薄膜塗層表面使用從 CSM 儀器的納諾影響測試模塊調查的破裂阻力

包括的事宜

背景

薄膜和塗層

氮化硅塗層

背景

納諾影響測試模塊是最近添加對 CSM 儀器納諾堅硬測試人員和為學習材料影響回應被開發了在極端底的負荷的。

這個原則是簡單的: 負荷動擺步驟是應用的在預定義的點在凹進的停留期間負荷轉存循環。 因此受託代購商技巧可能用於影響範例表面用一個受控方式,并且影響的速度可以準確地被定義。

薄膜和塗層

從屬於對重複性重點的稀薄的塗層可以快經常發生故障比,當只從屬於對 monocycle 重點。 許多薄膜應用需求塗層能承受在設備,此是的壽命的許多影響在重要應用的特別重要例如半導體微型開關和 MEMS 設備。 在薄膜的被重複的影響重點將導致材料的疲勞以及重大的裂化和分層法。

氮化硅塗層

被測試的材料這裡是在使用 Berkovich 受託代購商,不在標準準靜態的凹進以後陳列殘餘的版本記錄對 5 mN 最大應用的負荷的一個不鏽鋼基體的氮化硅 (罪孽) 塗層。 然而,如果負荷動擺步驟被添加在停留期間最大值请裝載,塗層能被疲勞,導致重大崩裂如圖 1. 所顯示。

在 5 mN 期間,停留最大值負荷在本例中,影響是通過添加負荷動擺步驟導致了的 11.7 mN。 幾獨立試驗執行隨著影響 (1, 3, 5 個, 7 個, 10 個, 15 個, 20 個和 30 個循環的增加) 編號。 在每個測試為了關聯發出從 Berkovich 印象的每個角落的鎮壓的長度對影響的數量執行後,這個殘餘的版本記錄是印象的。 從應用的負荷和凹進精銳部隊範圍,破裂韌性 (Kc) 可以被計算。

AZoNano - 納米技術 A 到 Z - 版本記錄光學微寫器在顯示增長的高明的長度的罪孽塗層的作為影響功能的編號

圖 1。

納諾堅硬測試人員使用的被導航的凹進技術密謀受託代購商的有效膚深作為在這個測試的整個裝載的和轉存的部分的應用的負荷功能。 圖 2 顯示負荷和有效膚深被密謀作為 7 影響的時刻功能在 5 mN 最大停留的負荷。 在有效膚深的增量與每隨後的影響明顯地是可視的。 應用的負荷跟蹤 (虛線) 確認應用的衝擊負載穩當被維護了在 11.7 在每個循環的 mN。

AZoNano - 納米技術 A 到 Z - 負荷和有效膚深與凹進的時刻測試與 7 影響

圖 2。

圖 3 總結中間高明的長度 (如評定由光學顯微學) 被密謀作為影響功能的數量。 一能看到有效膚深增加顯著在第一影響期間 (從在 5mN 的 625nm 對在第一影響以後的 1115nm)。

AZoNano - 納米技術 A 到 Z - 高明的長度和有效膚深與影響的編號

圖 3。

隨後的微觀觀察在材料顯示 Berkovich 技巧的殘餘的版本記錄,但是高明的長度在此階段似乎非常小在這個實驗。 進一步影響然後造成高明的長度極大增加,而對應的有效膚深增量是較不重大的。 終於,當 Berkovich 技巧到達這個基體 (在本例中的 20 影響以後) 時,高明的長度和有效膚深兩個似乎到達是相對地平面的高原。

來源: CSM 儀器

關於此來源的更多信息请請參觀 CSM 儀器

Date Added: Dec 6, 2006 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 13. June 2013 12:29

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