無水ケイ酸の不動態化は CSM の器械からのマイクロスクラッチテスターを使用してスクラッチ抵抗 (MST)のための Assesed を層にします

カバーされるトピック

背景

不動態化の層のテスト

アプリケーション

追加テスト

背景

酸化の環境に露出されたとき多くの広く使われた金属そして合金は、鉄のような、チタニウムおよびニッケル、受動のフィルムを形作ります。 頻繁に安定した酸化物であると考慮されるこれらの受動のフィルムはかなり腐食および酸化を減らす機能のために開発されます。

不動態化の層のテスト

今ではこれらの材料およびさまざまな合金の電気化学のテストはある特定の環境の特定の金属の耐食性を査定するための一般的な方法です。 ただし、フィルムが形作った材料およびこれらの受動のフィルムの機械特性は完全に探索されませんでした。 これは一般にナノメーターのスケールの厚さの酸化物の層のフィルムの小規模が部分的に原因です。 材料のケイ素の系列によって、サービスの不動態化の層そしてパフォーマンスは今日のマイクロエレクトロニクスの増加する重要性のトピックおよび micromachining 企業です。 このアプリケーションノートは SiO、罪および SiC の不動態化ののスクラッチ抵抗の査定に層焦点を合わせます。 これらのタイプのコーティングは個別および再生可能な重大な障害ポイントのために理想的な例です。

アプリケーション

図 1 で示される結果は罪/SiC の不動態化の層が 0-15N の進歩的なロード範囲および半径 20μm のダイヤモンドの先端とスクラッチされるとき見つけられる 4 つの個別の障害ポイントを要約します。

コーティングの厚さはおよそ 400 nm です。 3.26N の最初の重大な力値はスクラッチ経路の側面に沿う損傷に対応します。 9.77N で最初に割れることは発生します、そのあとで連続的なはげることは 10.60N に発生します。 まもなくして、コーティングは完全にスクラッチ経路のまわりでばらまきます相当な残骸を 11.74 N の重大な力で薄片に裂けるために見られます (図 1 (d) を見て下さい)。

AZoNano - A からナノテクノロジーの Z - 個別の 4 つおよび再生可能な重大な障害ポイントを、即ち (a) 最初損傷、 (b) 最初に割れ、 (c) 連続的な割れ、そして (d) 完全な薄片分離表わす罪/SiC の合成の層の進歩的なロードスクラッチデータ。

図 1。

追加テスト

スクラッチテストに加えて、不動態化の層はまた行なう先端の刻み目のテストまたはサンプルの potentiostatic 制御によって特徴付けられるかもしれません。 先端はロードされ、電気抵抗は先端とサンプルの間で測定されます。 多くのシステムのために、特に金属は 2 つのコンダクターの間の酸化膜および結果として生じる接触の破損に、抵抗の突然の低下帰因させることができます。 今後の作業はスクラッチテストに potentiostatic 制御を適応させることで望まれます。

ソース: CSM の器械

このソースのより多くの情報のために CSM の器械を訪問して下さい

Date Added: Dec 12, 2006 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 13. June 2013 12:42

Ask A Question

Do you have a question you'd like to ask regarding this article?

Leave your feedback
Submit