Imaging Schroef dislocaties en Stappen in Gallium nitride met apparatuur van NanoSurf

Besproken onderwerpen

Achtergrond

Toepassingen

Sapphire Ondergrond

Stappen en Schroef Dislocaties

Achtergrond

Gallium nitride beschikt over een aantal unieke eigenschappen zoals grote band gap, sterke interatomaire obligaties, en een hoge thermische geleidbaarheid.

Toepassingen

Langs de laatste tien jaar is GaN trok veel belangen ten gevolge van zijn potentiële toepassingen in hoog vermogen en een hoge frequentie elektronische apparaten alsook in blauwe LED apparaten. GaN lagen worden meestal geteeld door Metal Organic Chemical Vapor Deposition en de moleculaire bundel epitaxie methoden.

AZoNano - De A tot Z van nanotechnologie - GaN, verschillende monstervoorbereiding voorwaarden

Figuur 1. GaN, verschillende monstervoorbereiding omstandigheden. Beeldformaat 5x5 um, Z-range 1,5 nm

Sapphire Ondergrond

Sapphire is nu de meest gebruikte substraat, hoewel van haar hoog verkeerde rooster en thermische expansie coëfficiënten. Als gevolg daarvan, het verkregen GaN lagen bevatten vaak een groot aantal gebreken, met name dislocaties.

Stappen en Schroef Dislocaties

Het beeld toont een stukje van de GaN met stappen en schroef dislocaties (gaten). Het doel is om het aantal tellen dislocaties en stap distributie.

Bron: Nanosurf

Voor meer informatie over deze bron kunt u terecht op Nanosurf

Date Added: Feb 22, 2007 | Updated: Jun 6, 2011

Last Update: 15. October 2011 03:51

Ask A Question

Do you have a question you'd like to ask regarding this article?

Leave your feedback
Submit