La Rappresentazione dell'Ossido Fa Pagare Facendo Uso Del easyPLL Da Nanosurf

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Immagini Costanti di Gradiente della Forza

Differenza di Potenziale di Diffusione

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2.5nm ossido di alluminio alto--K Ultrasottile (pellicole2di Al3O) su silicio P tipo (001) depositato tramite il deposito atomico del livello (ALD) è stato studiato con microscopia atomica senza contatto della forza (NC-AFM) nel vuoto ultraelevato, facendo uso di un suggerimento conduttivo.

Immagini Costanti di Gradiente della Forza

Le immagini Costanti di gradiente della forza hanno rivelato la presenza di spese dell'ossido e di osservazioni sperimentali mentre la potenzialità differente del suggerimento-campione è stata paragonata ai calcoli del gradiente della forza elettrica basato su un modello sferico del suggerimento. questo modello ha potuto essere migliorato sostanzialmente dall'incorporazione dell'immagine del suggerimento nel substrato a semiconduttore.

Differenza di Potenziale di Diffusione

Sulla Base dei segnali delle spese differenti dell'ossido osservate, una distribuzione omogenea di profondità di quelle fa pagare è stata derivata. L'Applicazione di una differenza di potenziale fra il campione ed il suggerimento è stata trovata per provocare una forza elettrica netta secondo la differenza di potenziale di diffusione (CPD) e l'efficace capacità del suggerimento-campione, che dipende dal livello di capitalizzazione o di svuotamento che è indotto dalla tensione di polarizzazione. Le immagini della DPC hanno potuto essere costruite dagli spettri di altezza-tensione con feedback attivo.

AZoNano - A - Z di Nanotecnologia Online - immagine di topografia di 1ìm x di 1ìm 2,5 di una pellicola di nanometro Al2O3 sul Si

Figura 1. immagine di topografia di 1ìm x di 1ìm di una pellicola di Al O2di 2,53nanometro sul Si

Oltre alle spese dell'ossido su grande scala (dimensione laterale di 300 - 150 nanometro) e (50 - 100 nanometro) le fluttuazioni su scala ridotta della DPC sono stati osservati, gli ultimi che mostrano un alto livello di correlazione con le funzionalità della topografia. Questa correlazione ha potuto essere un risultato dal modo superficie-inibito della crescita dei livelli esaminatori.

Sorgente: Nanosurf

Per ulteriori informazioni su questa sorgente visualizzi prego Nanosurf

Date Added: Feb 23, 2007 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 13. June 2013 12:39

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