SUSS MicroTec, Globaler Lieferant der Halbleiter-Produktion und des Testgeräts

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Hintergrund
Nano-oben Aktiviert Ihr Ausrichtungstransport Neuer UV-NIL der Masken-MA6 Toolset nm-Auflösung
Merkmale und Nutzen
UV-NIL: Die Zukunft von Nanoimprinting

Hintergrund

Maschinen SUSS MicroTec werden von führenden Halbleiterherstellern sowie von den bekannten Forschungsinstituten verwendet, um hochmoderne Mikrochips und Fühler herzustellen und zu prüfen. Viele der Produkte, die Sie in Ihrem Alltagsleben wie PDAs verwenden, GPS-Anlagen, Handys Usw. an einmal durch Gerät von SUSS MicroTec berührt worden sind.

Als globaler Lieferant der Produktion und des Testgeräts für den Halbleiter und in Verbindung stehende Industrien ist SUSS in den Märkten einschließlich das Hoch entwickelte Verpacken, MEMS, Nanotechnologie, Verbindungshalbleiter, Silikon-Auf-Isolator und Verbindung 3D besonders anwesend. Produkte enthalten Präzisionslithographiehilfsmittel (Maskenausrichtungstransporte, Drehbeschleunigung u. Sprayauftragmaschinen), Wafer bonders und Prüfsysteme.

Nano-oben Aktiviert Ihr Ausrichtungstransport Neuer UV-NIL der Masken-MA6 Toolset nm-Auflösung

Die Fähigkeiten von Masken-Ausrichtungstransporten SUSS MA6/8 werden jetzt mit neuem Fertigungsmittel erhöht, das Sie aktiviert, Zellen mit Merkmalen auf dem Nano-schuppe Niveau aufzubauen. Das neue Fertigungsmittel für einseitiges Impressum UV-NIL (Nanoimprint-Lithographie) kann mit der sehr begrenzten Bemühung nachträglich verbessert werden und einen Geradeausverbesserungspfad anbieten, damit SUSS-Abnehmer die Nano-Welt betreten.

Das SUSS, das Technologie aufprägt, unterstützt eine Vielzahl von Materialien wie UVkleber, Photoresists oder Polymeren.

Erhöhte Ausrichtungstransporte SUSS UV-NIL sind zum Drucken widerstehen Stärken von weniger als 100 nm zu einigen hundert Mikrons mit einer Druckauflösung unten zu einigen nm fähig (Stempelabhängiger). UV-aushärtende Wellenlängen In-situoberseite oder der Unterseitenausrichtung und -besonderen können ausgewählt werden. Gewöhnlich wird der Stempel oder die Form vom transparenten UVmaterial wie Quarz gemacht. Undurchsichtige Stempel wie Ni oder Si auch werden mit UV-transparenten Wafers verwendet möglicherweise.

Abbildung 1. Zeichen SUSS MicroTec gedruckt in Amonil MMS 4 auf einem Masken-Ausrichtungstransport SUSS MA6

Abbildung 2. Vergrößerte Kapitel von über SUSS-Zeichen

Abbildung 3. SEM-Maß eines Torfingers für einen Bereicheffekttransistor hergestellt vom Polysilicon. Aufgeprägt durch S.E.T NPS300 Stepper, Breite: Decken die Herkömmliche UV-lithographische Strukturierung 100nm des Ablasses und die Quellgebiete durch SUSS MA6 Ausrichtungstransport-Höflichkeit Fraunhofer IISB, Deutschland ab

Abbildung 4. Die Taste zur Zukunft! SUSS-Schablonenhalterung und -futter für Nanoimprint-Lithographie dürfen Auflösungen in der nmreichweite drucken

Merkmale und Nutzen

  • Neuer UV-NIL Toolset kann auf Masken-Ausrichtungstransporten SUSS MA6/MA8 jetzt leicht fieldinstalled
  • Variable Stempel- und Substratflächengrößen erlauben höchste Prozessflexibilität
  • Einfache und schnelle Schaltung zwischen UV-Lithographie und nanoimprint Lithographie
  • „Widerstehen Sie“ Stärke von < 100 nm bis wenige 100µm
  • Unter--µm in-situausrichtung für höchste Ausrichtungspräzision
  • Völlig esteuerter Druckgang (Druck, Abstand, Drehzahl, parallele Trennung) mit herabgesetzter Operatorintervention
  • Höchste nivellierende Präzision und Restschichteinheitlichkeit

UV-NIL: Die Zukunft von Nanoimprinting

Lösungen der Produktion UV-NIL der Niedrigen Kosten für nanostructures in der Entwicklung heute sind möglicherweise die aktivierende Technik für Halbleiter der nächsten Generation, MOEMS und optoelektronische Technologie. Insbesondere sind nanoimprint Lithographie und seine Varianten da eine kosteneffektive Alternative zu hochauflösender Eträger Lithographie entwickelt worden, um unter- 50 nm-Geometrie zu drucken (Auflösung hängt von den Stempeln ab und widersteht).

UV-NIL ist eine nanoimprint Methode, die auf dem UV-Aushärten basiert. Abhängig von Anwendungsanforderungen ist UV-empfindliches Polymer nach oder vor der Ausrichtung überzogen. Nachdem der Stempel/die Schablone zur Substratfläche nivelliert worden ist und in das flüssige UVNIL-Material mit einer esteuerten Kraft und einer Drehzahl aufgeprägt worden, verhärtet das UVaushärten das Harz. Als Nächstes wird der Stempel/die Schablone von der aufgeprägten Substratfläche getrennt und produziert eine verhärtete Replik des Stempels auf der Oberfläche der Substratfläche.

Abbildung 5. Die Kombination von Ausrichtungstransporten der zuverlässigen, vielseitigen Masken-SUSS MA6 und MA8 mit NULL-Technologien macht ein wirtschaftliches und innovatives Paket für R&D

SUSS MicroTec ist ein globaler Lieferant der Produktion und des Testgeräts für die Halbleiterindustrie. Unsere Produkte enthalten Präzisionslithographiehilfsmittel, Wafer bonders sowie Prüfsysteme. Unsere Verpflichtung gegenüber überlegener Leistung, kosteneffektive Lösungen und hohe Stufen des Kundendiensts machen SUSS einen Markt- und Technologieführer.

Ein weltweites Servicenetz von mehr als 30 lokalen Vertretern ist betriebsbereit, Sie mit jedem möglichem Aspekt Ihres aufbereitenden und Prüfungsbedarfs des Wafers zu unterstützen. Vom Einbau zur Ausbildung und von der laufenden Wartung zu kundenspezifischen Lösungen, sind wir dort für Sie. Es ist gerade ein anderes Beispiel unserer Lösungen, die Standards einstellen.

Quelle: SUSS MicroTec
Zu mehr Information über diese Quelle besuchen Sie bitte SUSS MicroTec

Date Added: Apr 10, 2008 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 13. June 2013 17:52

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