SUSS MicroTec, Surtidor Global de la Producción del Semiconductor y del Equipo de Prueba

Filete del Tema

Antecedentes
Nano-hacia arriba su de la Máscara MA6 Nuevo UV-NIL Juego De Herramientas del Alineador Activa la Resolución del nanómetro
Características y Ventajas
UV-NIL: El Futuro de Nanoimprinting

Antecedentes

Las máquinas de SUSS MicroTec son utilizadas por los fabricantes de cabeza del semiconductor así como los institutos de investigación renowned para hacer y para probar los microchipes y los sensores avanzados. Muchos de los productos que usted utiliza en su vida de cada día tal como PDA, sistemas de GPS, teléfonos celulares los Etc. en alguna vez han sido tocados por el equipo de SUSS MicroTec.

Como un surtidor global del equipo de la producción y de prueba para el semiconductor e industrias relacionadas SUSS está especialmente presente en mercados incluyendo el Empaquetado Avanzado, MEMS, la Nanotecnología, el Semiconductor Compuesto, el Silicio-En-Aislador y la Interconexión 3D. Los Productos incluyen las herramientas de la litografía de la precisión (alineadores de la máscara, barrena y máquinas de pintar de aerosol), los bonders del fulminante y los sistemas de pruebas.

Nano-hacia arriba su de la Máscara MA6 Nuevo UV-NIL Juego De Herramientas del Alineador Activa la Resolución del nanómetro

Las capacidades de los Alineadores de la Máscara de SUSS MA6/8 ahora se aumentan con los nuevos útiles que le permiten construir las estructuras con las características en el nivel de la nano-escala. Los nuevos útiles para la única impresión echada a un lado UV-NIL (Litografía de Nanoimprint) se pueden mejorar en el campo con el esfuerzo muy limitado, ofreciendo un camino directo de la mejora para que los clientes de SUSS entren en el mundo nano.

El SUSS que imprime soportes de tecnología una variedad de materiales tales como pegamento, fotoprotecciones o polímeros ULTRAVIOLETA.

Los alineadores aumentados UV-NIL de SUSS son capaces de la impresión resisten espesores de menos de 100 nanómetro a unas centenas micrones con una resolución de la impresión hacia abajo a algunos nanómetro (dependiente del sello). La parte superior "in-situ" o las longitudes de onda de Ultravioleta-curado inferiores de la alineación lateral y del específico pueden ser seleccionadas. Típicamente el sello o el molde se hace del material transparente ULTRAVIOLETA como el cuarzo. Los sellos Opacos tales como Ni o Si se pueden también utilizar con los fulminantes Ultravioleta-transparentes.

Cuadro 1. Logotipo de SUSS MicroTec impreso en Amonil MMS 4 en un Alineador de la Máscara de SUSS MA6

El Cuadro 2. Aumentó secciones encima del logotipo de SUSS

Cuadro 3. medición de SEM de un dedo de la entrada para un transistor de efecto de campo hecho de polisilicona. Impreso por S.E.T NPS300 De Pasos, ancho: la estructuración Ultravioleta-litográfica Convencional 100nm de las regiones del desagüe y de la fuente por SUSS MA6 Enmascara la Cortesía Fraunhofer IISB, Alemania del Alineador

Cuadro 4. ¡El clave al futuro! El casquillo y el mandril del modelo de SUSS para la Litografía de Nanoimprint permiten el imprimir de resoluciones en el rango del nanómetro

Características y Ventajas

  • El Nuevo juego de herramientas de UV-NIL se puede ahora fieldinstalled fácilmente en los Alineadores de la Máscara de SUSS MA6/MA8
  • Las tallas Variables del sello y del substrato permiten la adaptabilidad de proceso más alta
  • Transferencia Fácil y rápida entre la Ultravioleta-litografía y la litografía del nanoimprint
  • “Resista” el espesor de < 100 nanómetro a pocos 100µm
  • Alineación sub-µm In situ para la precisión más alta de la alineación
  • Ciclo de impresión Completo controlado (presión, distancia, velocidad, separación paralela) con la intervención disminuida del operador
  • La precisión de nivelación Más Alta y uniformidad residual de la capa

UV-NIL: El Futuro de Nanoimprinting

Las soluciones de la producción UV-NIL del Bajo costo para los nanostructures en el revelado hoy pueden ser la técnica de activação para el semiconductor de la generación siguiente, MOEMS y la tecnología optoelectrónica. Particularmente, la litografía del nanoimprint y sus variaciones se han desarrollado pues una opción de poco costo a la litografía de alta resolución del e-haz para imprimir 50 geometrías sub del nanómetro (la resolución depende de sellos y resiste).

UV-NIL es un método del nanoimprint que se basa en el Ultravioleta-curado. Dependiendo de requisitos de aplicación, el polímero Ultravioleta-sensible está revestido después o antes de la alineación. Después De Que el sello/el modelo se haya nivelado al substrato y se haya impreso en el material flúido de UVNIL con una fuerza controlada y una velocidad, el curado ULTRAVIOLETA endurece la resina. Después, el sello/el modelo se separa del substrato impreso, produciendo una reproducción endurecida del sello en la superficie del substrato.

Cuadro 5. La combinación de los Alineadores de la Máscara segura, versátil SUSS MA6 y MA8 con tecnologías de la NADA hace un conjunto económico e innovador para el R&D

SUSS MicroTec es un surtidor global del equipo de la producción y de prueba para la industria del semiconductor. Nuestros productos incluyen las herramientas de la litografía de la precisión, los bonders del fulminante así como los sistemas de pruebas. Nuestra consolidación con el rendimiento superior, las soluciones de poco costo y los niveles del servicio de atención al cliente hacen SUSS a un arranque de cinta del mercado y de la tecnología.

Una red de servicio y atención mundial de más de 30 representantes locales está lista para ayudarle con cualquier aspecto de sus necesidades de tramitación y de prueba del fulminante. De la instalación al entrenamiento y del mantenimiento general a las soluciones modificadas para requisitos particulares, estamos allí para usted. Es apenas otro ejemplo de nuestras soluciones que fijan patrones.

Fuente: SUSS MicroTec
Para más información sobre esta fuente visite por favor SUSS MicroTec

Date Added: Apr 10, 2008 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 13. June 2013 18:28

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