SUSS MicroTec, maailmanlaajuinen toimittaja puolijohteiden valmistuksessa ja testauslaitteet

:: AZoNanotechnology artikla

Topic List

Tausta
Nano-up your MA6 Mask Aligner Uusi UV-NIL työkalut tekevät nm Resoluutio
Ominaisuudet ja edut
UV-NIL: tulevaisuus Nanoimprinting

Tausta

SUSS MicroTec koneita käyttävät johtavat puolijohdevalmistajat sekä tunnettu tutkimuslaitosten tehdä ja testata state-of-art mikrosiruja ja anturit. Monet tuotteet käytät jokapäiväisessä elämässäsi, kuten PDA, GPS-järjestelmät, kännykät jne. ovat osoitteessa joskus on koskettanut laitteita SUSS MicroTec .

Koska maailmanlaajuinen toimittaja tuotannon ja testauslaitteet puolijohde-ja siihen liittyvillä aloilla SUSS on erityisen läsnä markkinoilla, kuten Advanced Packaging , MEMS , Nanoteknologia, Compound Semiconductor , Silicon-On-eriste ja 3D Interconnect . Tuotteet ovat tarkkuus litografia työkaluja ( maski aligners , spin & spray päällystyskoneet ), kiekkojen bonders ja testausjärjestelmiä .

Nano-up your MA6 Mask Aligner Uusi UV-NIL työkalut tekevät nm Resoluutio

Valmiuksia SUSS MA6 / 8 Mask aligners nyt parannettu uusilla koneistus, jonka avulla voit rakentaa rakenteita ominaisuuksia at nanoluokan tasolla. Uuden työkalut yksipuolinen Imprint UV-NIL (nanoimprint litografia) voidaan kenttä päivittää hyvin rajallinen vaivaa, tarjoaa suoraviivaista päivittää polku SUSS asiakkaille syöttää nano maailmaa.

SUSS kuvaan teknologia tukee erilaisia ​​materiaaleja, kuten UV liima, fotoresisteihin tai polymeerejä.

SUSS UV-NIL parannettu aligners pystyvät tulostaa vastustaa paksuus alle 100 nm muutama sata mikronia kanssa tulostustarkkuudesta alas muutaman nm (leima riippuvainen). In-situ ylä-tai alapuolella linjaus ja erityisiä UV-aallonpituuksia voidaan valita. Yleensä leima tai muotti on valmistettu UV läpinäkyvästä materiaalista kuten kvartsia. Peittävä postimerkkejä kuten Ni tai Si voidaan käyttää myös UV-läpinäkyvä kiekkoja.

Kuva 1. SUSS MicroTec Logo painetaan Amonil MMS 4 SUSS MA6 Mask Aligner

Kuva 2. Laajentunut osa edellä SUSS logo

Kuva 3. SEM mittaus portin sormea ​​kentän vaikutus transistorin valmistettu monikiteistä. Painettu SET NPS300 stepperi, leveys: 100 nm Perinteiset UV-litografia jäsentää viemärin ja lähde alueiden SUSS MA6 Mask Aligner Kohteliaisuus Fraunhofer IISB, Saksa

Kuva 4. Avain tulevaisuuteen! SUSS mallin haltija ja istukka nanoimprint litografia mahdollistavat tulostamisen päätöslauselmia nanometriluokkaa

Date Added: Apr 10, 2008

Last Update: 18. October 2011 11:54

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this article?

Leave your feedback
(Logout)
Submit