Save 20% On a Jenway 7315 Spectrophotometer from Bibby Scientific
Related Offers

SUSS MicroTec, Fornitore Globale di Produzione A Semiconduttore e della Strumentazione di Prova

Lista di Argomento

Sfondo
Nano-sui vostri della Maschera MA6 Nuovi UV-NIL Strumenti del Aligner Permettono alla Risoluzione di nanometro
Funzionalità e Vantaggi
UV-NIL: Il Futuro di Nanoimprinting

Sfondo

I commputer di SUSS MicroTec sono usati dai produttori principali a semiconduttore come pure dagli istituti di ricerca rinomati per fare e collaudare i microchip ed i sensori avanzati. Molti dei prodotti che utilizzate nella vostra vita quotidiana come PDA, sistemi di GPS, telefoni cellulari Ecc. a prima o poi sono stati toccati da strumentazione da SUSS MicroTec.

Come un fornitore globale della strumentazione di prova e di produzione per il semiconduttore ed industrie relative SUSS è particolarmente presente nei servizi compreso l'Imballaggio Avanzato, MEMS, Nanotecnologia, il Semiconduttore Composto, l'Silicio-Su-Isolante e l'Interconnessione 3D. I Prodotti includono gli strumenti della litografia di precisione (aligners della maschera, rotazione & dispositivi a induzione di spruzzo), i bonders del wafer ed i sistemi di prova.

Nano-sui vostri della Maschera MA6 Nuovi UV-NIL Strumenti del Aligner Permettono alla Risoluzione di nanometro

Le capacità dei Aligners della Maschera di SUSS MA6/8 ora sono aumentate con nuova lavorazione con utensili che gli permette di sviluppare le strutture con le funzionalità al livello del nano-disgaggio. La nuova lavorazione con utensili per la singola impronta rivestita UV-NIL (Litografia di Nanoimprint) può essere modificata con sforzo molto limitato, offrente un percorso diretto di aggiornamento affinchè i clienti di SUSS entri nel mondo nano.

Il SUSS che imprime i supporti di tecnologia vari materiali quali colla, photoresists o i polimeri UV.

I aligners migliorati UV-NIL di SUSS sono capaci di stampa resistono agli spessori da meno di 100 nanometro ad alcuni cento micron con una risoluzione di stampa giù agli alcuni nanometro (dipendente del bollo). La cima In Situ o le lunghezze d'onda dimaturazione specifiche laterali inferiori e di allineamento possono essere selezionate. Tipicamente il bollo o la muffa è fatto di materiale trasparente UV come quarzo. I bolli Opachi quale Ni o il Si possono anche essere usati con i wafer UV-trasparenti.

Figura 1. Logo di SUSS MicroTec stampato nel SISTEMA DI GESTIONE DEI MATERIALI 4 di Amonil su un Aligner della Maschera di SUSS MA6

Figura 2. Ha Ingrandetto le sezioni sopra del logo di SUSS

Figura 3. misura di SEM di una barretta del portone per un transistor di effetto di campo fatto del polisiliconico. Impresso da S.E.T NPS300 Passo Passo, larghezza: la struttura UV-litografica Convenzionale 100nm delle regioni di sorgente e del filtro da SUSS MA6 Maschera la Cortesia Fraunhofer IISB, Germania del Aligner

Figura 4. Il tasto al futuro! Il supporto ed il mandrino del modello di SUSS per la Litografia di Nanoimprint concedono stampare le risoluzioni nell'intervallo di nanometro

Funzionalità e Vantaggi

  • I Nuovi strumenti di UV-NIL possono ora essere fieldinstalled facilmente sui Aligners della Maschera di SUSS MA6/MA8
  • Le dimensioni Variabili del substrato e del bollo permettono il più alta flessibilità trattata
  • Commutazione Facile e veloce fra la UV-litografia e la litografia del nanoimprint
  • “Resista„ allo spessore < da 100 nanometro a pochi 100µm
  • Allineamento sotto--µm In situ per più alta precisione di allineamento
  • Ciclo di stampa Completamente controllato (pressione, distanza, velocità, separazione parallela) con intervento minimizzato dell'operatore
  • Più Alta precisione di livellamento ed uniformità residua del livello

UV-NIL: Il Futuro di Nanoimprinting

Le soluzioni di produzione UV-NIL di basso costo per i nanostructures in via di sviluppo oggi possono essere la tecnica permettente per il semiconduttore della generazione seguente, MOEMS e la tecnologia optoelettronica. In particolare, la litografia del nanoimprint e le sue variazioni sono state sviluppate poichè un'alternativa redditizia alla litografia ad alta definizione del e-raggio per stampare le 50 geometrie sotto- di nanometro (risoluzione dipende dai bolli e resiste a).

UV-NIL è un metodo del nanoimprint che è basato sulla UV-maturazione. Secondo i requisiti di applicazione, a polimero UV sensibile è rivestito dopo o prima dell'allineamento. Dopo Che il bollo/modello è stato livellato al substrato ed è stato impresso nel materiale fluido di UVNIL con velocità una forza controllata e, la maturazione UV indurisce la resina. Dopo, il bollo/modello è separato dal substrato impresso, producendo una replica indurita del bollo sulla superficie del substrato.

Figura 5. La combinazione di Aligners della Maschera affidabile e versatile SUSS MA6 e MA8 con le tecnologie di ZERO fa un pacchetto economico ed innovatore per R & S

SUSS MicroTec è un fornitore globale della strumentazione di prova e di produzione per l'industria a semiconduttore. I Nostri prodotti includono gli strumenti della litografia di precisione, i bonders del wafer come pure i sistemi di prova. Il Nostro impegno alla prestazione superiore, le soluzioni redditizie e gli alti livelli di servizio di assistenza al cliente rendono a SUSS una guida della tecnologia e del mercato.

Un servizio e un supporto di rete mondiali di più di 30 rappresentanti locali è pronti a assistervi con tutto l'aspetto del vostri trattamento del wafer e bisogni di prova. Da impianto alla formazione e da manutenzione programmata alle soluzioni su misura, siamo là per voi. È appena un altro esempio delle nostre soluzioni che fissano gli standard.

Sorgente: SUSS MicroTec
Per ulteriori informazioni su questa sorgente visualizzi prego SUSS MicroTec

Date Added: Apr 10, 2008 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 13. June 2013 17:56

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this article?

Leave your feedback
Submit