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SUSS MicroTec の半導体の生産および試験装置の全体的な製造者

トピックのリスト

背景
Nano MA6 マスクのアライナ新しい UV-NIL のツール・セットは nm の解像度を可能にします
機能および利点
UV-NIL: Nanoimprinting の未来

背景

一流の半導体の製造業者、また有名にされた研究所によって SUSS MicroTec 機械が最新式のマイクロチップおよびセンサーを作り、テストするのに使用されています。 あなたが PDA のような日常生活に使用する製品の多数、 GPS システム、いつかの等が SUSS MicroTec からの装置によって触れられた携帯電話。

半導体のための生産そして試験装置の全体的な製造者および関連の企業として SUSS は高度の包装MEMS、ナノテクノロジー、化合物半導体シリコン・オン・インシュレータおよび 3D 相互接続を含む市場に特にあります。 製品は精密石版印刷のツール (マスクのアライナ回転及びスプレコータ)、ウエファーの bonders および試験制度を含んでいます。

Nano MA6 マスクのアライナ新しい UV-NIL のツール・セットは nm の解像度を可能にします

SUSS MA6/8 マスクのアライナの機能は nano スケールのレベルで機能が付いている構造を構築することを可能にする新しい工具細工と今高められます。 単一の味方された押印 UV-NIL (Nanoimprint の石版印刷) のための新しい工具細工は nano 世界を入力するために SUSS の顧客のための簡単なアップグレードの経路を提供する非常に限られた努力とフィールド・アップグレードすることができます。

紫外線接着剤、光硬化性樹脂またはポリマーのような技術サポートのいろいろな材料を捺印する SUSS

SUSS の UV-NIL によって高められるアライナは少数に印刷 nm (スタンプの扶養家族) が可能抵抗します厚さにからのより少しにより 100 nm に印刷の解像度の数百ミクロンです。 In-situ 上か最下の側面アラインメントおよび細目の紫外線治癒の波長は選ぶことができます。 通常スタンプか型は水晶のような紫外線透過材料から成っています。 NI または Si のような不透明なスタンプはまた紫外線透過ウエファーと使用されるかもしれません。

Amonil MMS 4 で印刷される SUSS MA6 マスクのアライナの図 1. SUSS MicroTec のロゴ

図 2. は SUSS のロゴの上ののセクションを拡大しました

図 3. polysilicon から成っている電界効果トランジスタのためのゲート指の SEM の測定。 段階 S.E.T NPS300 によって捺印される幅: SUSS MA6 による下水管およびソース領域の 100nm 慣習的な紫外線石版構成はアライナの礼儀 Fraunhofer IISB、ドイツを覆います

図 4。 未来へのキー! Nanoimprint の石版印刷のための SUSS のテンプレートのホールダーそしてチャックはナノメーターの範囲で解像度を印刷することを割り当てます

機能および利点

  • 新しい UV-NIL のツール・セットは SUSS MA6/MA8 マスクのアライナで今容易に fieldinstalled できます
  • 可変的なスタンプおよび基板のサイズは最も高いプロセス柔軟性を可能にします
  • 紫外線石版印刷と nanoimprint の石版印刷間の容易で、速い切換え
  • < 100 nm からの少数の 100µm に厚さに 「抵抗して下さい」
  • 最も高いアラインメントの精密のためのそのままの副µm アラインメント
  • 最小化されたオペレータ介在を用いる十分に制御されたプリントサイクル (圧力、間隔、速度、平行分離)
  • 最も高い水平になる精密および残りの層の均等性

UV-NIL: Nanoimprinting の未来

開発の nanostructures のための低価格の生産 UV-NIL の解決は今日次世代の半導体、 MOEMS および光電子工学の技術のための可能になる技術であるかもしれません。 特に、副 50 nm の幾何学を印刷するために nanoimprint の石版印刷および変化はので高解像の e ビーム石版印刷への費用有効代わり開発されました (解像度はスタンプによって決まり、抵抗します)。

UV-NIL は紫外線治癒に基づいている nanoimprint 方法です。 アプリケ−ション使用要件によって、紫外線に敏感なポリマーはアラインメントの後でまたはの前に上塗を施してあります。 スタンプ/テンプレートが基板に水平になった、被統制部隊および速度の流動 UVNIL 材料に捺印された後、紫外線治癒は樹脂を堅くします。 次に、スタンプ/テンプレートは捺印された基板から分かれて、基板の表面のスタンプの堅くされたレプリカを作り出します。

図 5。 無の技術との信頼できる、多目的な SUSS MA6 および MA8 マスクのアライナの組合せは R & D のための経済的で、革新的なパッケージを作ります

SUSS MicroTec は半導体工業のための生産そして試験装置の全体的な製造者です。 私達の製品は精密石版印刷のツール、ウエファーの bonders、また試験制度を含んでいます。 優秀なパフォーマンスへの私達の責任、カスタマーサービスの費用有効解決およびハイレベルは SUSS に市場および技術のリーダーを作ります。

30 以上のローカル代表の世界的なサービスとサポートネットワークはウエファーの処理し、テストの必要性のあらゆる面との助けて準備ができています。 インストールからトレーニングへのおよび定期整備カスタマイズされた解決への、私達はあなたのためにそこにいます。 それは標準をセットする私達の解決のちょうどもう一つの例です。

ソース: SUSS MicroTec
このソースのより多くの情報のために SUSS MicroTec を訪問して下さい

Date Added: Apr 10, 2008 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 13. June 2013 18:00

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