Rilevamento Rapido di Fotoluminescenza RPM2000 - Sistema di Mappatura di PL di Temperatura ambiente da Nanometrics

Argomenti Coperti

Sfondo
Rilevamento Rapido di Fotoluminescenza RPM2000 da Nanometrics
Hardware
Configurazioni di Sistema
Eccitazione e Rilevazione
Il Software di RPM
Mappatura Alto-Spaziale di Risoluzione
Fourier che Filtra per GaN LED

Sfondo

La Fotoluminescenza è una tecnica affermata, senza contatto, non distruttiva utilizzata nello sviluppo e controllo dei processi dei semiconduttori, con le mappe del wafer di PL di temperatura ambiente che forniscono le informazioni vitali sull'uniformità della composizione della lega, della qualità materiale e dei difetti in substrati, epilayers e strutture dell'unità.

Rilevamento Rapido di Fotoluminescenza RPM2000 da Nanometrics

Il Rilevamento Rapido di Fotoluminescenza RPM2000 è un sistema di temperatura ambiente e veloce (PL) di fotoluminescenza di mappatura adatto ad uso negli ambienti di R & S, di produzione e di controllo di qualità.

Il RPM2000 è stato destinato specificamente per ottenere le intere mappe di PL del wafer in una mera frazione del tempo precedentemente connesso con questo ordinamento della misura, dando la capacità di misurare e valutare i wafer fra le esecuzioni di produzione. Il vantaggio primario è che il feedback rapido e l'atto correttivo possono essere applicati se i parametri del wafer sono da specifica, evitante le esecuzioni di produzione, così il tempo di risparmio ed i costi sprecati. Inoltre, la velocità della misura fa l'ispezione e la qualificazione ricevute dei wafer comprati un compito rapido e facile.

Usando una progettazione unica, il sistema raggiunge le velocità di mappatura veloci eccellenti senza compromettere la risoluzione spettrale e spaziale. Per esempio, un assegno rapido del segnale integrato di PL su un wafer a 2 pollici a risoluzione spaziale di 1mm può essere eseguito in soltanto 19 secondi. Quella è una mappa di 2026 punti in meno di 20 secondi. Spettrale Pieno mappando, alla stessa risoluzione spaziale, dante la posizione di punta, l'intensità di punta, FWHM e l'intensità integrata richiederebbe soltanto 25 secondi. Nei 100 secondi di sotto, il RPM2000 può produrre le mappe integrate di un wafer a 2 pollici a risoluzione spaziale di 0.2mm, complessivamente oltre 50.000 punti, o le mappe spettrali a risoluzione spaziale di 0.5mm che dà 8.000 punti.

Il RPM2000 può anche fornire la qualità PL di vera immagine che mappa alle alte risoluzioni spaziali e spettrali, danti la capacità di esaminare le centinaia di migliaia di punti sui wafer fino al diametro di 150mm: È possibile da mappare a risoluzione spaziale di 0.1mm sui wafer fino al diametro di 100mm e a 0.2mm sui wafer fino ad un massimo di 150mm. Per i wafer di 150mm una risoluzione spaziale di 1mm mappa integrata richiederebbe soltanto 56 secondi e una qualità 0.2mm che di immagine la risoluzione spaziale ha integrato la mappa, corrispondente oltre a 455.800 punti richiederebbe soltanto 8 minuti.

Hardware

Il RPM2000 usa una R, È, fase progettata di Z che tiene i wafer del diametro e degli spessori di fino a 150mm fino ad un massimo di 1mm. I videi di potenza del laser e della Temperatura misura come standard. Il supporto del campione comprende due parti: la fase di scansione e un rapido e facile cambiare il mandrino del wafer, scelto per abbinare il diametro del wafer. Il wafer è tenuto dal vuoto permettendo che i piccoli campioni di forma irregolare siano accomodati. La mappa di PL è generata muovendo il wafer mentre il raggio di eccitazione del laser rimane stazionario. Usando i rivelatori di schiera, tutte le lunghezze d'onda possono acquistarsi simultaneamente.

Configurazioni di Sistema

Il RPM2000 può essere configurato per coprire un'ampia ampiezza dello spettro, definita dalla scelta delle grate, dei laser di eccitazione, dei rivelatori e dell'ordine ordinanti i filtri. I Nostri scienziati possono consigliare sulle configurazioni su ordinazione.

Eccitazione e Rilevazione

Fino a due laser internamente montati di eccitazione ed un laser coppia di fibra ottica esterno di eccitazione possono essere accomodati. I raggi laser di Eccitazione hanno colpito la superficie del campione ad angolo per fornire la filtrazione spaziale della luce laser. Il raggio è messo a fuoco normalmente ad un diametro del punto di circa 100µm e, tipicamente, la potenza del laser è tenuta abbastanza in basso eliminare tutto il cambiamento degli spettri. Il PL prodotto dal campione è raccolto dall'ottica riflettente, accoppiata a 0.3m un monocromatore, dante la capacità di lavorazione eccellente attraverso l'ampiezza dello spettro. Fino a tre grate controllate da computer, sette filtri e due rivelatori di schiera possono essere installati.

Un terzo rivelatore è usato per la misurazione dei segnali integrati di PL. I Laser, i rivelatori, i filtri e le grate sono tutti selezionabili dal software senza la necessità di modificare il hardware. Un'opzione della riflettività è egualmente a disposizione affinchè i sistemi spettrali determini lo spessore di pellicola e per il pannello riflettente di Bragg e la caratterizzazione di VCSEL.

Il Software di RPM

L'applicazione RPM2000 è stata sviluppata in molti anni ed è robusta e versatile. Tutte Le funzioni richieste dell'analisi e di controllo sono direttamente disponibili come componente dell'applicazione. Le Funzioni sono presentate in un modo logico ed intuitivo. L'applicazione viene completo con un Editore di Ricetta e un Manuale completo di Guida Online.

Mappatura Alto-Spaziale di Risoluzione

Il RPM2000 può raccogliere fino a 200 punti di informazioni al secondo nel modo spettrale completo con Elaborazione Numerica Dei Segnali a bordo (DSP) o i 2000 punti incredibili al secondo nel modo d'integrazione spettrale. Ciò permette alla risoluzione spaziale molto alta “immagini del wafer„ essere raccolto. Queste immagini possono rivelare spesso i piccoli difetti della crescita che andrebbero altrimenti inosservati. L'Alta risoluzione spaziale in una scansione di r-teta porta un altro vantaggio, L'abilità all'immagine la regione della barriera di wafer nei minimi particolari.

Il RPM2000 può raccogliere fino a 2000 punti di informazioni al secondo nel modo non spettrale. L'immagine rivela i piccoli difetti della crescita che sono inosservabili quando il wafer è scandito a risoluzione spaziale bassa.

Fourier che Filtra per GaN LED

I dati Da Rivedere di PL da un GaN MQW LED sono distorti spesso dalla presenza di frange di interferenza. Un algoritmo di Filtrazione specializzato del software di Fourier rimuove matematicamente l'effetto delle frange - rivelare il vero spettro di PL.

Il Nuovo software di Filtrazione di Fourier rimuove l'orlatura degli effetti di frange negli spettri di GaN LED.

Sorgente: LOTTO il ORIEL

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Questi informazioni sono state originarie, esaminate ed adattate dai materiali forniti dal LOTTO il ORIEL.

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Date Added: Mar 24, 2009 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 13. June 2013 21:03

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