Nanofabrication およびかすかで近いフィールド光リトグラフィ

リチャード Blaikie のディレクター、 MacDiarmid の協会および先端材料のためのナノテクノロジー、カンタベリー、ニュージーランドの大学教授
対応する著者: richard.blaikie@canterbury.ac.nz

50 年では洗練されたシステムが低い費用フラッシュメモリーチップの nano スケール次元と今たくさん製造することができるように沢山の部屋が底に nano 工学の世界あるというリチャード Feynman の雄弁な表明が成熟したのでケイ素のサムネイルサイズのスライバの複数の十億ビット貯蔵能力の標準的な例が、あります。

かすかで近いフィールド光リトグラフィは (ENFOL)ライトの回折限界を越える機能を模造することができる石版印刷の低価格の高リゾリューションの技術です。 ENFOL はかすかで近いフィールドの使用による親密な接触のために conformable マスクの使用を必要とします。

光リトグラフィは技術が成熟すると同時により小さい機能を印刷する機能の nano スケールの製造業の前進の多数を、運転しました。 レンズベースの光学系は通常 ArF のエキシマーのレーザーからの波長現在のシステム使用 193nm の照明の低下によって達成されて改善された解像度が普通、使用されます。 ある追加トリックの適用によってより狭い密なラインを印刷するために、これらの洗練されたプロジェクターはより少しその波長のその 1/4 であるその 45nm 押すことができます。

しかしこれらのシステムは非常に進められて、高い、そう大量の製造業にだけ適されます。 そして 20nm の下で解像度を得ることは追加複雑さおよび費用をもたらします。 印刷のツールの費用が解像度と逆にであるところで演劇であることをここにようである nano 製造業の反対の法律があります。 20nm スケールチップのために製造業これらの使用 13nm の波長の (EUV) X 線の照明および最新式の真空ベースの反射光学系テストされている極度な紫外システムと、および工学試験制度のための開発費多くの十億によってがドルの今までにあったこれのよりよい例がありません。

この反対の法律は不変です、適当なボリュームで nano スケールパターンを低料金で印刷するまたは他の方法光学的にありますか。 ニュージーランドのカンタベリーの大学リチャード Blaikie および彼のチームによって探索された 1 つの技術はかすかで近いフィールド光リトグラフィです (ENFOL)。 接触の石版印刷の単純な拡張として (図 1) は、高いレンズ棒に振られ、マスクパターンは私達がかすかなライト捕獲する親密な接触でマスクおよび基板を保つこと基板によってに直接転送されます (マスクのほぼフィールド領域の内でロックされている図 2) は、および nanoscale の解像度を比較的長波長と可能です。 水銀ランプの Blaikie のチームからの 436nm を使用してラインは副100nm 機能の印刷によって概念を証明し、もっと最近、 Canon Inc. の Ito そして協力者は 365nm の波長を使用して 32nm ラインを印刷しました。

図 1。 ENFOL プロセス。 模造されたマスクは極めて薄い光硬化性樹脂層の親密な接触で保持されます。 紫外線照明は高解像をの抵抗によって捕獲されるほぼフィールド (かすかな) ライト生成します。
図 2。 軽く、かすかなライトの伝播間の相違。 副波長の格子からの伝播の波の回折は格子の波長の内で引っ掛かる指数関数的に腐食の (かすかな) ほぼフィールドを作り出します。 これらは格子の構造についての高空間的頻度情報を含んでいます。

ENFOL のための接触の条件はそれが成長したプロジェクション・プリンタのための直接差込式の置換ではないが、知識に関しては nano エンジニアの道具箱に確かに別の実行可能な技術を適当なボリュームで隙間商品を製造する方法を追加しますことを意味します。 それはプロトタイピングおよび製造の洗練された nano スケールの (NIL)のために既に (DPN)光通信の、電子または biosensing システム広く使用されているこの道具箱の nano 押印の石版印刷そしてすくいペンの nanolithography のような技術の横に坐ります。

そして ENFOL および関連技術のために探索されるべき多くがあります。 最近維持の解像度間銀製の 「superlens」マスクへの追加が基板の上の大いに必要な保護層を提供できることを Blaikie および他は示しました。 従来の遠視野の投射の光リトグラフィの便利そして成熟と ENFOL の最もよい機能を結合するためにそして基板に高解像のかすかなフィールドを写し出すのに染料の層で可逆 bleaching を使用するための技術は MIT の Rajesh Menon によって最近 (今ユタで)、開拓されてしまいました。

そう 50 年、 Dr. Seuss のワードはずっとここの Feynman が、近いからのラインと、彼の標準的な 1 匹の魚、 2 にここからそこに、おかしい事…採取する、赤い魚、青い魚 (初心者 Books 1960 年) どこでもある予言者であるかもしれません。 の近くでまたは遠く、おかしい事は波長が基本的にライトが nano 工学に使用することができる長さのスケールを限定することとしてもはや見られない nano スケールの光学の世界にどこでもあります。

版権 AZoNano.com のリチャード Blaikie (カンタベリーの大学) 教授

Date Added: Sep 16, 2009 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 13. June 2013 23:20

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