极小制作和短暂最近的域光学制版

理查 Blaikie,主任、 MacDiarmid 学院高级材料和纳米技术,坎特伯雷,新西兰大学教授
对应的作者: richard.blaikie@canterbury.ac.nz

在五十年,自从理查 Feynman 的雄辩的主张有大量空间在底层纳诺工程世界成熟了,以便复杂的系统可能大量地现在制造与纳诺缩放比例维数在低费用闪光存储芯片是一个经典示例,以他们的在硅指图尺寸裂片的多十亿位存储容量。

短暂最近的域光学制版 (ENFOL)是能够仿造在光之外衍射极限的功能石版印刷的一个低价的高分辨率技术。 ENFOL 为亲密的联络要求使用一致的屏蔽由于对这个短暂最近的域的其使用。

当技术成熟,光学制版在纳诺缩放比例制造中驱动了许多预付款,以其能力打印更小的功能。 基于透镜的光学系统典型地使用,当被改进的解决方法通常达到通过降低从 ArF 激态原子激光的波长当前系统使用 193nm 照明。 通过适用一些另外的窍门,这些复杂的放映机可以被推进打印更加缩小密集的线路该 45nm,是较少该波长的该 1/4。

但是这些系统是高度提前,并且消耗大,只如此配合与大容积制造。 并且获得这个解决方法在 20nm 下引入另外的复杂和费用。 有似乎在作用这里纳诺制造的一个倒数法律,其中打印工具的费用相反地与这个解决方法匹配。 没有与极其紫外系统为 (EUV) 20nm 缩放比例筹码被测试制造这些使用 13nm 波长 X-射线照明和科技目前进步水平真空根据反射性光学系统的此的更好的示例,并且开发费用迄今工程测试系统的是许多数十亿美元。

此倒数法律是否是不变的,或者有没有其他方式低价光学上打印纳诺缩放比例模式在中等数量? 由坎特伯雷大学的理查 Blaikie 和他的小组测试在新西兰的一个技术是短暂最近的域光学制版 (ENFOL)。 作为联络石版印刷一个简单扩展 (图 1),消耗大的透镜被丢掉,并且掩模图案直接地调用在上基体由保留这个屏蔽和基体在我们获取短暂光的亲密的联络 (在屏蔽内的近域区域是锁着的图 2) 和 nanoscale 解决方法甚而对相对地长波长是可能的。 使用从汞灯 Blaikie 的小组的 436nm 线路通过打印子100nm 功能证明这个概念使用 365nm,波长,并且,最近, Ito 和工友 Canon 的 Inc. 打印了 32nm 线路

图 1。 ENFOL 进程。 被仿造的屏蔽在与一块超薄的光致抗蚀剂层的亲密的联络被暂挂。 紫外照明生成高分辨率,由抵抗获取的近域 (短暂) 光。
图 2。 繁殖轻和短暂光之间的区别。 一个繁殖通知的衍射从子波长滤栅的导致在滤栅的波长内被困住的按指数规律地腐朽的 (短暂) 近域。 这些包含关于滤栅的结构的高空间频率信息。

ENFOL 的联络需求意味着它不会是成熟投影打印机的直接插件替换,但是它一定添加另一个可行的技术到纳诺工程师的工具箱当谈到会制造产品商机在中等数量。 它沿着技术坐例如纳诺版本记录石版印刷 (NIL)和垂度笔 nanolithography (DPN) 在此工具箱,为原型和制造复杂的纳诺缩放比例广泛地已经使用光子,电子或者 biosensing 的系统。

并且有为 ENFOL 和涉及的技术将测试的更多。 最近 Blaikie 和其他向显示添加银色 ‘superlens’到屏蔽可能提供在这个基体上的一块大量需求的防护层,维护的解决方法。 并且技术用于可逆漂白的染料层设想在这个基体上的高分辨率短暂域由 MIT 的 Rajesh Menon 最近作早期工作在 (现在犹他),结合 ENFOL 最佳的功能以传统远端场投影光学制版便利和到期日。

那么 50 年,苏斯博士的字可能是一样预言的象这里 Feynman 的,与从最近的线路,从这里那里,滑稽的事情在到处…在他的经典一条鱼,二钓鱼,红色鱼,蓝色鱼 (初学者 Books, 1960)。 在附近或更,滑稽的事情在到处在纳诺缩放比例光学世界,这个波长不再被看到作为根本限制长度缩放比例光可以为纳诺工程使用。

版权 AZoNano.com,理查 Blaikie (坎特伯雷大学教授)

Date Added: Sep 16, 2009 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 13. June 2013 22:59

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