極小製作和短暫最近的域光學制版

理查 Blaikie,主任、 MacDiarmid 學院高級材料和納米技術,坎特伯雷,新西蘭大學教授
對應的作者: richard.blaikie@canterbury.ac.nz

在五十年,自從理查 Feynman 的雄辯的主張有大量空間在底層納諾工程世界成熟了,以便複雜的系統可能大量地現在製造與納諾縮放比例維數在低費用閃光存儲芯片是一個經典示例,以他們的在硅指圖尺寸裂片的多十億位存儲容量。

短暫最近的域光學制版 (ENFOL)是能够仿造在光之外衍射極限的功能石版印刷的一個低價的高分辨率技術。 ENFOL 為親密的聯絡要求使用一致的屏蔽由於對這個短暫最近的域的其使用。

當技術成熟,光學制版在納諾縮放比例製造中驅動了許多預付款,以其能力打印更小的功能。 基於透鏡的光學系統典型地使用,当被改進的解決方法通常達到通過降低從 ArF 激態原子激光的波長當前系統使用 193nm 照明。 通過適用一些另外的竅門,這些複雜的放映機可以被推進打印更加縮小密集的線路該 45nm,是較少該波長的該 1/4。

但是這些系統是高度提前,并且消耗大,只如此配合與大容積製造。 并且獲得這個解決方法在 20nm 下引入另外的複雜和費用。 有似乎在作用這裡納諾製造的一個倒數法律,其中打印工具的費用相反地與這個解決方法匹配。 沒有與極其紫外系統為 (EUV) 20nm 縮放比例籌碼被測試製造這些使用 13nm 波長 X-射線照明和科技目前進步水平真空根據反射性光學系統的此的更好的示例,并且開發費用迄今工程測試系統的是許多數十億美元。

此倒數法律是否是不變的,或者有沒有其他方式低價光學上打印納諾縮放比例模式在中等數量? 由坎特伯雷大學的理查 Blaikie 和他的小組測試在新西蘭的一個技術是短暫最近的域光學制版 (ENFOL)。 作為聯絡石版印刷一個簡單擴展 (圖 1),消耗大的透鏡被丟掉,并且掩模圖案直接地調用在上基體由保留這個屏蔽和基體在我們獲取短暫光的親密的聯絡 (在屏蔽內的近域區域是鎖著的圖 2) 和 nanoscale 解決方法甚而對相對地長波長是可能的。 使用從汞燈 Blaikie 的小組的 436nm 線路通過打印子100nm 功能證明這個概念使用 365nm,波長,并且,最近, Ito 和工友 Canon 的 Inc. 打印了 32nm 線路

圖 1。 ENFOL 進程。 被仿造的屏蔽在與一塊超薄的光致抗蝕劑層的親密的聯絡被暫掛。 紫外照明生成高分辨率,由抵抗獲取的近域 (短暫) 光。
圖 2。 繁殖輕和短暫光之間的區別。 一個繁殖通知的衍射從子波長濾柵的導致在濾柵的波長內被困住的按指數規律地腐朽的 (短暫) 近域。 這些包含關於濾柵的結構的高空間頻率信息。

ENFOL 的聯絡需求意味著它不會是成熟投影打印機的直接插件替換,但是它一定添加另一個可行的技術到納諾工程師的工具箱當談到會製造產品商機在中等數量。 它沿著技術坐例如納諾版本記錄石版印刷 (NIL)和垂度筆 nanolithography (DPN) 在此工具箱,為原型和製造複雜的納諾縮放比例廣泛地已經使用光子,電子或者 biosensing 的系統。

并且有為 ENFOL 和涉及的技術將測試的更多。 最近 Blaikie 和其他向顯示添加銀色 『superlens』到屏蔽可能提供在這個基體上的一塊大量需求的防護層,維護的解決方法。 并且技術用於可逆漂白的染料層設想在這個基體上的高分辨率短暫域由 MIT 的 Rajesh Menon 最近作早期工作在 (現在猶他),結合 ENFOL 最佳的功能以傳統遠端場投影光學制版便利和到期日。

那麼 50 年,蘇斯博士的字可能是一樣預言的像這裡 Feynman 的,與從最近的線路,從這裡那裡,滑稽的事情在到處…在他的經典一條魚,二釣魚,紅色魚,藍色魚 (初學者 Books, 1960)。 在附近或更,滑稽的事情在到處在納諾縮放比例光學世界,這個波長不再被看到作為根本限制長度縮放比例光可以為納諾工程使用。

版權 AZoNano.com,理查 Blaikie (坎特伯雷大學教授)

Date Added: Sep 16, 2009 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 13. June 2013 23:02

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