De Elektrostatische Microscopie van de Kracht (EFM) - de Elektrische Eigenschappen van de Afbeelding van Steekproeven met de XE-Reeksen AtoomMicroscoop van de Kracht van de Systemen van het Park

Besproken Onderwerpen

Ongeveer de Systemen van het Park
Weergave van Elektrostatische Kracht
Principe van EFM
Standaard EFM

Ongeveer de Systemen van het Park

De Systemen van het Park is de Atoom de technologieleider (AFM) van de Microscoop van de Kracht, die producten verstrekt die de vereisten van alle onderzoek en industriële nanoscaletoepassingen richten. Met een uniek scannerontwerp dat voor de Ware weergave van het niet-Contact in vloeistof en luchtmilieu's toestaat, zijn alle systemen volledig - compatibel systeem met een lange lijst van innovatieve en krachtige opties. Alle systemen zijn ontworpen gemakkelijk-van-gebruik, nauwkeurigheid en duurzaamheid in mening, en voorzien uw klanten van de uiteindelijke middelen voor meetiong alle huidige en toekomstige behoeften.

Opscheppend de langste geschiedenis in de industrie AFM, wordt de uitvoerige portefeuille van de Systemen van het Park van producten, software, de diensten en deskundigheid aangepast slechts door onze verplichting aan onze klanten.

Weergave van Elektrostatische Kracht

De Elektrostatische Microscopie van de Kracht (EFM) van de XE-Reeksen brengt elektrische eigenschappen op een steekproefoppervlakte door de elektrostatische kracht tussen de oppervlakte en een beïnvloede cantilever te meten AFM in kaart. EFM past een voltage tussen het uiteinde en de steekproef toe terwijl de cantilever boven de oppervlakte, niet wat betreft het hangt. De cantilever doet afwijken wanneer het over statische lasten aftast, zoals afgeschilderd in Figuur 1.

Figuur 1. De kaarten EFM laadden plaatselijk domeinen op de steekproefoppervlakte.

De beelden EFM bevatten informatie over elektrische eigenschappen zoals de van de oppervlaktepotentieel en last distributie van een steekproefoppervlakte. De kaarten EFM laadden plaatselijk domeinen op de steekproefoppervlakte, gelijkend op hoe MFM de magnetische domeinen van de steekproefoppervlakte in kaart brengt. De omvang van de afbuiging, evenredig aan de lastendichtheid, kan met standaard het straal-sprong systeem worden gemeten. Aldus, kan EFM worden gebruikt om de ruimtevariatie van de carrier van de oppervlaktelast te bestuderen. Bijvoorbeeld, kan EFM de elektrostatische gebieden van een elektronische kring in kaart brengen aangezien het apparaat en weg wordt aangezet. Deze techniek is genoemd geworden „voltage dat“ en is een waardevol hulpmiddel om levende microprocessorspaanders bij de submicronschaal te testen sondeert.

Vier verschillende wijzen EFM, voornaam door de methode die de oppervlakte elektroinformatie wordt verkregen worden, verstrekt door XE-series AFM. Dit zijn StandaardEFM, dynamisch-Contact EFM van de Systemen van het Park het eigen gepatenteerde (gelijkstroom-EFM), Piezoelectric Microscopie van de Kracht (PFM), en Aftasten Kelvin Probe Microscope (SKPM).

Principe van EFM

De Meeste materiële die eigenschappen door AFM worden onderzocht worden verworven door het afbuigingssignaal van de cantilever te verwerken zoals afgeschilderd in Figuur 2, die eveneens wordt toegepast op de metingen EFM.

Voor EFM, zouden de eigenschappen van de steekproefoppervlakte elektrische eigenschappen zijn en de interactiekracht zal de elektrostatische kracht tussen het beïnvloede uiteinde en de steekproef zijn.

Figuur 2. Schematisch diagram van de meting van het oppervlaktebezit door de geavanceerde wijzen XE.

Nochtans, naast de elektrostatische kracht, zijn de bestelwagen der krachten Waals tussen het uiteinde en de steekproefoppervlakte altijd aanwezig. De omvang deze van der Waals krachten verandert volgens de uiteinde-steekproef afstand, en daarom gebruikt om de oppervlaktetopografie te meten.

Vandaar, bevat het verkregen signaal zowel informatie van oppervlaktetopografie (genoemd signaal ` Topo') en informatie van oppervlakte elektrisch bezit (genoemd die signaal ` EFM') door de bestelwagen der Waals en elektrostatische krachten wordt geproduceerd, respectievelijk. De sleutel tot succesvolle weergave EFM ligt in de scheiding van het signaal EFM van het volledige signaal. De wijzen EFM kunnen volgens de methode worden geclassificeerd wordt gebruikt om het signaal te scheiden dat EFM.

Standaard EFM

StandaardEFM van de XE-Reeksen is gebaseerd op de twee feiten. Één feit is dat van der Waals de krachten en de elektrostatische krachten verschillende dominante regimes hebben. van der Waals de krachten zijn evenredig aan 1/r6, terwijl de elektrostatische krachten aan 1/r. evenredig zijn.2 Aldus, wanneer het uiteinde aan de steekproef dicht is, van der Waals zijn de krachten dominant. Terwijl de bestelwagen der krachten Waals snel verminderen en de elektrostatische krachten worden dominant, aangezien het uiteinde van de steekproef wordt verwijderd. Het andere feit is dat de topografielijn door de uiteinde-steekproef afstandsconstante te houden wordt verworven, die de lijn van constante van der Waals kracht evenaart. In de techniek van de Waaier van de Kracht, wordt het eerste aftasten uitgevoerd door het uiteinde in het gebied af te tasten waar de bestelwagen der kracht Waals voor topografiebeeld dominant is. Dan, de uiteinde-steekproef afstand gevarieerd en afgetast is om het uiteinde in het gebied te plaatsen waar de elektrostatische kracht dominant is voor beeld EFM zoals aangetoond in Figuur 3 (a).

Figuur 3. De schema's van (a) techniek en (b) twee van de Waaier van de Kracht gaan techniek over.

In de techniek van Twee Pas, wordt het eerste aftasten uitgevoerd om de topografie te verkrijgen door het uiteinde dichtbij de oppervlakte af te tasten aangezien het in nc-AFM, in het gebied wordt gedaan waar de bestelwagen der krachten Waals dominant zijn. In het tweede aftasten, heft het systeem het uiteinde op en verhoogt de uiteinde-steekproef afstand om het uiteinde in het gebied te plaatsen waar de elektrostatische krachten dominant zijn. Het uiteinde is dan beïnvloed en afgetast die zonder koppel terug, parallel met de topografielijn uit het eerste aftasten zoals aangetoond in Figuur 3 (b) wordt verkregen, daarom handhavend constante uiteinde-steekproef afstand.

Aangezien de topografielijn de lijn van constante die van der Waals kracht is, zijn de bestelwagen der krachten Waals op het uiteinde tijdens het tweede aftasten worden toegepast constant. Aldus, zal de enige bron van de signaalverandering de verandering van de elektrostatische kracht zijn. Zo, van het tweede aftasten, kan een topografie vrij signaal EFM worden verkregen.

Figuur 4. De Standaard steekproef wordt gemaakt van twee micro- kam gevormde elektroden met zijn tanden liggend tussen (a) van andere. Het beeld van de Topografie (b) toont aan dat de naburige tanden van zelfde hoogte zijn maar het beeld van de Fase EFM (c) toont aan dat de naburige tanden van zelfde hoogte in oppervlaktepotentieel verschillen.

Bron: De Systemen van het Park

Voor meer informatie over deze bron te bezoeken gelieve de Systemen van het Park

Date Added: Apr 21, 2010 | Updated: Sep 20, 2013

Last Update: 20. September 2013 06:22

Ask A Question

Do you have a question you'd like to ask regarding this article?

Leave your feedback
Submit