静电力显微学 (EFM) - 映射范例电子属性与 XE 串联基本强制显微镜的从公园系统

包括的事宜

关于公园系统
静电力想象
EFM 的原则
标准 EFM

关于公园系统

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静电力想象

XE 串联的 (EFM)静电力显微学通过评定在表面和一个偏心的 AFM 悬臂之间的静电力映射在范例表面的电属性。 EFM 适用在这个的技巧和不涉及这个的范例之间的电压,当悬臂在表面上时盘旋,它。 悬臂如图 1. 所示偏转,当它浏览在静电。

图 1. EFM 映射局部在范例表面的被充电的域。

EFM 图象包含关于电属性的信息例如范例表面的表面潜在和电荷分布。 EFM 映射局部在范例表面的被充电的域,类似于 MFM 如何密谋范例表面的磁域。 偏折的大小,按比例与电荷密度,可以评定与标准射线跳动系统。 因此, EFM 可以用于学习表面电荷承运人的空间的差异。 例如,当设备打开和关上, EFM 可能映射一条电子线路的静电场。 此技术叫作 “探查的电压”并且是为测试活微处理机芯片的一个重要的工具在这个亚显微缩放比例。

区分用表面电子信息得到的方法, XE 串联提供四个不同 EFM 模式 AFM。 这些是标准 EFM、公园系统的自己的给予专利的动态联络 EFM (DC-EFM),压电强制显微学 (PFM)和浏览凯尔文探测显微镜 (SKPM)。

EFM 的原则

AFM 调查的大多有形资产通过处理悬臂的偏折信号获取如图 2 所示,被运用于 EFM 评定。

对于 EFM,范例表面属性是电子属性,并且交往强制将是在这个偏心的技巧和这个范例之间的静电力。

图 2. 简图由先进的 XE 模式的表面属性评定。

然而,除静电力之外,在这个技巧和范例表面之间的有篷货车 der Waals 强制总是存在。 因此大小这些 van der Waals 强制根据技巧范例距离更改和使用评定表面地势。

因此,这个得到的信号包含表面地势的表面电子属性的信息 (称 ` Topo 信号’) 和信息 (称 ` EFM 信号’) 生成由有篷货车 der Waals 和静电力,分别。 成功的 EFM 想象的关键字在 EFM 信号的分隔在从整个信号的。 EFM 模式可以根据这个使用的方法被分类分隔 EFM 信号。

标准 EFM

XE 串联的标准 EFM 在二个情况基础上。 一个情况是 van der Waals 强制和静电力有不同的统治政权。 而静电力与 1/r.,是按比例 van6 der Waals 强制与 1/r 是按比例。2 因此,当这个技巧是接近这个范例时, van der Waals 强制是统治的。 而有篷货车 der Waals 强制迅速地减少,并且静电力变得统治,当这个技巧被移动远离这个范例。 另一个情况是地势线路通过保留技巧范例距离常数获取,等于恒定的 van der Waals 强制线路。 在强制范围技术,第一扫描通过浏览这个技巧执行在这个区域有篷货车 der Waals 强制为地势图象是统治的。 然后,在这个区域静电力是统治的变化如图 3 (a) 所显示,技巧范例距离安置这个技巧并且浏览 EFM 图象。

图 3。 (a) 概要强制范围技术和 (b) 二路式的技术。

在这个二路式的技术,第一扫描通过浏览这个技巧执行获得地势在表面附近,它在 NC-AFM 完成,在这个区域有篷货车 der Waals 强制是统治的。 在第二扫描,系统在这个区域静电力是统治的增强这个技巧并且增加技巧范例距离为了安置这个技巧。 这个技巧然后被偏心并且浏览,不用反馈,对从第一扫描得到的地势线路的并行如图 3 (b) 所显示,因此维护恒定的技巧范例距离。

因为地势线路是恒定的 van der Waals 强制线路,有篷货车 der Waals 强制被应用于这个技巧在第二扫描期间是恒定的。 因此,信号更改的唯一的来源将是静电力的更改。 因此,从第二扫描,地势自由 EFM 信号可以得到。

图 4. 标准样品由有放在其他 (a) 之间的你的齿的二个微梳子被塑造的电极制成。 地势图象 (b) 向显示相邻的齿是同样高度,但是 EFM 阶段图象 (c) 向显示同样高度的相邻的齿在表面潜在有所不同。

来源: 公园系统

关于此来源的更多信息请参观公园系统

Date Added: Apr 21, 2010 | Updated: Sep 20, 2013

Last Update: 20. September 2013 06:21

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