靜電力顯微學 (EFM) - 映射範例電子屬性與 XE 串聯基本強制顯微鏡的從公園系統

包括的事宜

關於公園系統
靜電力想像
EFM 的原則
標準 EFM

關於公園系統

公園系統基本強制顯微鏡 (AFM)技術領先者,提供解決所有研究和行業 nanoscale 應用的需求的產品。 允許在液體和空電設施的真的沒有接觸的想像的一個唯一掃描程序設計,所有系統與創新和強大的選項一個較的列表是完全兼容的。 所有系統是被設計的容易使用、準確性和耐久性在頭腦裡,并且提供您的客戶以最終資源為 meetiong 所有今後需要。

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靜電力想像

XE 串聯的 (EFM)靜電力顯微學通過評定在表面和一個偏心的 AFM 懸臂之間的靜電力映射在範例表面的電屬性。 EFM 適用在這個的技巧和不涉及這個的範例之間的電壓,當懸臂在表面上時盤旋,它。 懸臂如圖 1. 所示偏轉,當它瀏覽在靜電。

圖 1. EFM 映射局部在範例表面的被充電的域。

EFM 圖像包含關於電屬性的信息例如範例表面的表面潛在和電荷分佈。 EFM 映射局部在範例表面的被充電的域,類似於 MFM 如何密謀範例表面的磁域。 偏折的大小,按比例與電荷密度,可以評定與標準射線跳動系統。 因此, EFM 可以用於學習表面電荷承運人的空間的差異。 例如,當設備打開和關上, EFM 可能映射一條電子線路的靜電場。 此技術叫作 「探查的電壓」并且是為測試活微處理機芯片的一個重要的工具在這個亞顯微縮放比例。

區分用表面電子信息得到的方法, XE 串聯提供四個不同 EFM 模式 AFM。 這些是標準 EFM、公園系統的自己的給予專利的動態聯絡 EFM (DC-EFM),壓電強制顯微學 (PFM)和瀏覽凱爾文探測顯微鏡 (SKPM)。

EFM 的原則

AFM 調查的大多有形資產通過處理懸臂的偏折信號獲取如圖 2 所示,被運用於 EFM 評定。

對於 EFM,範例表面屬性是電子屬性,并且交往強制將是在這個偏心的技巧和這個範例之間的靜電力。

圖 2. 簡圖由先進的 XE 模式的表面屬性評定。

然而,除靜電力之外,在這個技巧和範例表面之間的有篷貨車 der Waals 強制總是存在。 因此大小這些 van der Waals 強制根據技巧範例距離更改和使用評定表面地勢。

因此,這個得到的信號包含表面地勢的表面電子屬性的信息 (稱 ` Topo 信號』) 和信息 (稱 ` EFM 信號』) 生成由有篷貨車 der Waals 和靜電力,分別。 成功的 EFM 想像的關鍵字在 EFM 信號的分隔在從整個信號的。 EFM 模式可以根據這個使用的方法被分類分隔 EFM 信號。

標準 EFM

XE 串聯的標準 EFM 在二個情況基礎上。 一個情況是 van der Waals 強制和靜電力有不同的統治政權。 而靜電力與 1/r.,是按比例 van6 der Waals 強制與 1/r 是按比例。2 因此,當這個技巧是接近這個範例時, van der Waals 強制是統治的。 而有篷貨車 der Waals 強制迅速地減少,并且靜電力變得統治,當這個技巧被移動遠離這個範例。 另一個情況是地勢線路通過保留技巧範例距離常數獲取,等於恆定的 van der Waals 強制線路。 在強制範圍技術,第一掃描通過瀏覽這個技巧執行在這個區域有篷貨車 der Waals 強制為地勢圖像是統治的。 然後,在這個區域靜電力是統治的變化如圖 3 (a) 所顯示,技巧範例距離安置這個技巧并且瀏覽 EFM 圖像。

圖 3。 (a) 概要強制範圍技術和 (b) 二路式的技術。

在這個二路式的技術,第一掃描通過瀏覽這個技巧執行獲得地勢在表面附近,它在 NC-AFM 完成,在這個區域有篷貨車 der Waals 強制是統治的。 在第二掃描,系統在這個區域靜電力是統治的增強這個技巧并且增加技巧範例距離為了安置這個技巧。 這個技巧然後被偏心并且瀏覽,不用反饋,對從第一掃描得到的地勢線路的並行如圖 3 (b) 所顯示,因此維護恆定的技巧範例距離。

因為地勢線路是恆定的 van der Waals 強制線路,有篷貨車 der Waals 強制被應用於這個技巧在第二掃描期間是恆定的。 因此,信號更改的唯一的來源將是靜電力的更改。 因此,從第二掃描,地勢自由 EFM 信號可以得到。

圖 4. 標準樣品由有放在其他 (a) 之間的你的齒的二個微梳子被塑造的電極製成。 地勢圖像 (b) 向顯示相鄰的齒是同樣高度,但是 EFM 階段圖像 (c) 向顯示同樣高度的相鄰的齒在表面潛在有所不同。

來源: 公園系統

關於此來源的更多信息请請參觀公園系統

Date Added: Apr 21, 2010 | Updated: Sep 20, 2013

Last Update: 20. September 2013 06:22

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