スキャンのケルビンのプローブの顕微鏡検査 - 公園システムからの XE シリーズ原子力の顕微鏡との表面の潜在的なイメージ投射

カバーされるトピック

公園システムについて
高められた EFM
なぜ高められた EFM か。
SKPM

公園システムについて

公園システムはすべての研究および産業 (AFM) nanoscale のアプリケーションの条件を処理する製品を提供している原子力の顕微鏡の技術のリーダーです。 液体および空気環境の本当の無接触イメージ投射を可能にする一義的なスキャンナーデザインによって、すべてのシステムは革新的で、強力なオプションの長いリストによって完全に対応します。 すべてのシステムは心の設計されていた容易の使用、正確さおよび耐久性で、最終的なリソースを meetiong に顧客にすべての現在と未来の必要性与えます。

AFM 工業の長い歴史を、公園システムの製品の広範囲のポートフォリオ自慢して、ソフトウェア、サービスおよび専門知識は私達の顧客に私達の責任によってだけ一致します。

高められた EFM

3 つの余分 EFM のモードは XE シリーズの高められた EFM オプションによってサポートされます。 それらは DC-EFM (DC-EFM は公園システム米国パテント 6,185,991 によって特許を取られます)、圧電気力の顕微鏡検査 (PFM、 DC-EFM と同じように)、およびスキャンのケルビンのプローブの顕微鏡検査、 (SKPM)別名表面の潜在的な顕微鏡検査です。

図式的な図表が図 1 で示されている XE シリーズの高められた EFM では、外部ロックインのアンプは XE シリーズ AFM に 2 つの目的で接続されます。 1 つの目的は先端に XE のコントローラによって、適用される DC の bas に加えて頻度ωの AC バイアスを、適用することです。 他の目的は出力信号から頻度ωのコンポーネントを分けることです。 XE シリーズによって高められる EFM によって提供されるこの一義的な機能は標準 EFM と比較されたとき勝るものがパフォーマンスでです。

図 1. XE シリーズの高められた EFM の図式的な図表。

なぜ高められた EFM か。

慣習的な EFM は禁則に表面の潜在的なマップの空間分解能を限定する不必要で、非能率的な二重パススキャンによって、作動します。 XE シリーズ高められた EFM は負けた空間分解能 (図 2) なしで地形および表面の潜在性を両方同時に測定するために効率的な 1 パススキャンを提供するように設計されています。 さらに、これは高められた EFM の 2 つの主革新を可能にします: 高周波 EFM のシグナルの測定、

  • 表面電荷の分布および潜在性イメージ投射
  • マイクロ電子工学の回路部品の障害の分析
  • 機械硬度の測定 (DC-EFM)
  • ferroelectric 領域のための料金のデンシトメトリー
  • マイクロ抵抗器の電圧低下
  • 半導体の仕事関数

図 2. 慣習的な EFM 対 XE シリーズ高められた EFM。

SKPM

SKPM の原則は DC バイアスフィードバック (図 3) を用いる同じような高められた EFM です。 DC バイアスはゼロへのフィードバックループによってωターム制御されます。 ゼロが力表面の潜在性の測定であること DC バイアス。 相違はロックインのアンプから得られるシグナルが処理される方法であります。 前のセクションで示されるように、ロックインのアンプからのωのシグナルは次の同等化として表現することができます。

ωのシグナルが表面の潜在性を測定するのに自分自身で使用することができます。 ωのシグナルの振幅は DC オフセットバイアスがDC サンプルsの表面の潜在性に一致させる時ゼロ時 V = V、またはです。 フィードバックループはシステムにωのシグナルを測定するロックインのアンプの出力がゼロであることそのような物追加され、 DC オフセットバイアスを変えることができます。 ωのシグナルをゼロにする DC オフセットバイアスのこの値はそれから表面の潜在性の測定です。 DC オフセットバイアスでこの変化から生成される画像は表面の潜在性 (図 4) の絶対値を表す画像として与えられます。

図 3. XE シリーズのスキャンのケルビンのプローブの顕微鏡検査 (SKPM)の図式的な図表。

ASIC の図 4. 表面のポテンシャル分布。

ソース: 公園システム

このソースのより多くの情報のために公園システムを訪問して下さい

Date Added: Apr 22, 2010 | Updated: Sep 20, 2013

Last Update: 20. September 2013 06:25

Ask A Question

Do you have a question you'd like to ask regarding this article?

Leave your feedback
Submit