扫描凯尔文探测显微学 - 与 XE 串联基本强制显微镜的表面潜在的想象从公园系统

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关于公园系统
改进的 EFM
为什么改进的 EFM ?
SKPM

关于公园系统

公园系统基本强制显微镜 (AFM)技术领先者,提供解决所有研究和行业 nanoscale 应用的需求的产品。 允许在液体和空电设施的真的没有接触的想象的一个唯一扫描程序设计,所有系统与创新和强大的选项一个较的列表是完全兼容的。 所有系统是被设计的容易使用、准确性和耐久性在头脑里,并且提供您的客户以最终资源为 meetiong 所有今后需要。

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改进的 EFM

三个额外的 EFM 模式由 XE 串联的改进的 EFM 选项支持。 他们是 DC-EFM (DC-EFM 由公园系统美国专利 6,185,991) 给予专利,压电强制显微学 (PFM,和 DC-EFM 一样) 和浏览凯尔文探测显微学 (SKPM),亦称表面潜在的显微学。

在简图在表 1 显示 XE 串联的改进的 EFM,外部封锁行动放大器为两个目的被连接到 XE 串联 AFM。 一个目的将适用频率ω AC 偏心,除 XE 管理员适用的 DC bas 之外,于这个技巧。 另一个目的将从输出信号分隔频率ω要素。 XE 串联改进的 EFM 提供的此唯一功能是什么在性能擅长,当与标准 EFM 比较。

图 1. 简图 XE 串联的改进的 EFM。

为什么改进的 EFM ?

常规 EFM 由多余和效率低的二重通过扫描管理,禁止地限制表面潜在的映射的空间分辨率。 由 XE 串联的改进的 EFM 被设计提供高效的一遍的扫描同时评定地势和表面潜在,不用丢失的空间分辨率 (图 2)。 而且,这允许改进的 EFM 的二关键创新: 高频率 EFM 信号评定,

  • 表面电荷配电器和潜在想象
  • 在微电子电路的故障分析
  • 机械坚硬评定 (DC-EFM)
  • 铁电畴的充电测密度术
  • 在微电阻器的电压下落
  • 半导体的功函

图 2. 常规 EFM 与由 XE 串联的改进的 EFM。

SKPM

SKPM 的原则是与 DC 偏心反馈 (图 3) 的相似的改进的 EFM。 DC 偏心由反馈环路控制到零ω术语。 DC 偏心零强制是表面潜在的评定。 这个区别就象从封锁行动放大器得到的这个信号被处理的。 如存在前面的部分,从封锁行动放大器的ω信号可以表示作为下列等式。

ω信号可以独自地用于评定表面潜在。 ω信号的高度零,当 VDC = Vs,或者,当 DC 抵销偏心符合这个范例的表面潜在。 反馈环路可以被添加到这个系统和变化 DC 抵销偏心这样评定ω信号封锁行动放大器的输出是零。 调零ω信号 DC 抵销偏心的此值是然后表面潜在的评定。 从此差异生成的图象在 DC 抵销偏心产生作为表示表面潜在 (图 4) 的绝对值图象。

图 3. 简图 XE 串联的浏览的凯尔文 (SKPM)探测显微学。

在 ASIC 的图 4. 表面位势分布。

来源: 公园系统

关于此来源的更多信息请参观公园系统

Date Added: Apr 22, 2010 | Updated: Sep 20, 2013

Last Update: 20. September 2013 06:21

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