NanoPatterning および視覚化エンジン (NPVE) - 革命的なビーム制御そしてカールツァイス著極度な視野イメージ投射

カバーされるトピック

革命的なビーム制御および極度な視野イメージ投射
NPVE 機能およびアプリケーション
アレイ建築者
操作の調理法
追加機能
NPVE 機能
基本的な形
模造パラメータ
無効の形
平行模造
ベクトルによってスキャンされる形
集合操作を
模造様式
オフセットの盛り土
生きている眺めの模造
他愛ない嘘のテキスト
画像オーバーレイ

革命的なビーム制御および極度な視野イメージ投射

NanoPatterning および視覚化エンジン (NPVE) は新しい高さに二重コラムシステムの機能を拡大します。 カールツァイスシステムへの追加項目として、 NPVE はナノメーターからのミリメートルに機能の急速なプロトタイピング、模造パラメータの広範な制御および画像、統合された、直観的なユーザー・インターフェースのすべてごとの 1 GigaPixel まで極度な視野イメージ投射を可能にします。

NPVE は浮動小数点の二重 16 ビットスキャン発電機の技術そして supersampling シグナルの獲得のハードウェア、ベクトルスキャンエンジンをひとつにまとめます。 直観的なユーザー・インターフェースを通って作動させて、 NPVE は模造の間にスムーズに FIB-SEM (CrossBeam®) の同時制御をおよび SEM、リアルタイムイメージ投射および SmartSEM によって顕微鏡の自動化された制御両方統合します。 学びやすいけれども非常に強力、 NPVE システムは NanoPatterning およびイメージ投射アプリケーションの広い範囲のための選択の解決です。 その使い易さは初心者のユーザーが迅速かつ簡単に、ガス化学の有無にかかわらず nanoprototyping の複雑な問題を解決し始めることを可能にします。

NPVE はシグナルのますます CrossBeam® の器械の既存のイメージ投射機能を補足する豊富情報をひとつにまとめる柄ビームによって生成される重要な視覚化と NanoPatterning の広範で、適用範囲が広い機能を結合します。

NPVE の NanoPatterning 機能に加えて、ユーザーは 1十億のピクセルまで (32k x 32k) 画像を得るかもしれ、高リゾリューションを、膨大な視野イメージ投射可能にします。 追加オプションは多くの連続的な高リゾリューションの画像のモンタージュを作成する大きい領域のモザイクの自動化された獲得そしてステッチを可能にします。

1 つの µm X は電子ビームの 1 つの µm の正方形ケイ素酸化物の柱を沈殿させました。 柱をちょうど連絡することを持つように選択されて間隔が 45° への正方形の形内の模造の角度は、セットされました。

A: 600 nm の直径によって他愛ない嘘沈殿させる 3D コイル。 B: 長の貯蔵所および幅の nano チャネル 20 µm および 200 nm の。 製粉がチャネルからの貯蔵所へのスムーズな可能にする間、リアルタイムの視覚化、平ら底を付けられた転移を。

ケイ素に模造されるリンカーン記念館の他愛ない嘘のグレースケールのレンダリング。 非修飾写真はデータソースとして使用されました。 総模造の時間はおよそ 10 分でした。

NPVE 機能およびアプリケーション

アレイ建築者

反復的な構造のアレイを作成することは NPVE のアレイ建築者を使用して簡単です。 異なったアレイ様式は常連および放射状のもののアレイを含んで組み立てることができます。 アレイ建築者はパラメータの広い範囲が実験の急速なデザインのための形によ形の基礎で組織的に変えることができると同時にガスのプロセス最適化のために不可欠であると証明しました。

長方形の 4 電子ビームに使用したアレイによって 4 つは沈殿を助けました。 ドエルポイント間隔は列とコラムによって変わりました。

環状の形、形間の 1 つの µm の間隔 (ピッチ) の直径の各 450 nm のアレイの部分。

直接 10 pA のイオンビームを使用して模造される 100 nm によって、間隔をあけられる 25 の nm ラインの火格子を付けることの等大眺め。

操作の調理法

最もよい結果を達成するために最適の模造パラメータを定めることは初心者のユーザー側のかなりの努力を必要とするかもしれません。

このプロセスを促進するためには、精密製粉するか、またはガスベースの化学のような多くの共通タスクのためのビーム流れの範囲を渡る最適の模造パラメータを、カプセル化する NPVE はいくつかの操作の調理法と出荷します。

Nano 柱のアレイ

ゾーン版

Nano スケールチャネルの構造

ダイヤモンドに製粉される半トルス

ユーザーは 「1 つのクリック」のあらゆる形に自動的にこれらのパラメータを適用する適切な調理法を単に選択します。 ユーザーはまた操作の調理法エディターを使用して彼らの自身の調理法を修正するか、または生成するかもしれません。

追加機能

示されている機能に加えて NPVE に多数の追加機能があります。 NPVE がアプリケーションに成功かでどのように助けることができるか特定アプリケーションを論議するために販売担当者に連絡すれば。

NPVE 機能

基本的な形

NPVE により複雑な形を作成するのに使用されるか、または結合することができる 9 つの基本的な形があります。 各形は図形ソフトウェアを使用しただれでもによく知られた完全編集可能ノードおよびセグメントである意味では構成されます。

NPVE はまた複数の業界標準のフォーマットの第 2 デッサンを読み、変換できるファイル輸入業者と来ます。

基本的な形のリスト:

  • 長方形
  • 長円
  • リング
  • ライン
  • Polyline
  • 多角形
  • 台形
  • テキスト

模造パラメータ

最適の模造パラメータを選択することは実験の結果に非常に影響を与えます。 従って NPVE インターフェイスはビームがサンプルを渡ってどのようにの移動されるか最適化の柔軟性の高度を提供します。 ビーム位置に関する事実上すべてのパラメータはセットすることができます - またはユーザーは自動的に選択された形のための模造パラメータをセットする前に定義された操作の調理法を選択できます。

無効の形

「無効の」形を使用して、 NPVE は重大なサンプル領域がビームによって模造されることを防ぐために便利な方法を提供します。 どの満たされた形でもボイドに回るかもしれません。 次に、ボイドに接触するどの形でもそれからすべてを含んでいるまたは模造から除かれたボイドの部分があります領域。

平行模造

特にガス化学を使用するか、または高いアスペクトレシオの構造を製粉するとき連続的に 1 つの形を完了し、次に移動してよりもむしろ多重形を並行して模造することに、個別の利点があります。 NPVE は形のすべての形か指定サブセットの平行かシリアル模造をサポートします。

ベクトルによってスキャンされる形

従来、形はラスターそっくりのスキャンアルゴリズムで満ちています。 NPVE はこの従来型を (指定されるように全く任意スキャン方向がする) サポートしますが、また形の輪郭のベクトルスキャンをサポートします。 輪郭のスキャンが完全に形を満たすか、またはスムーズに形の輪郭に続く形の境界をある意味ではトレースするのに使用することができます。 輪郭スキャンは指定厚さの、または形を満たすことのポイントへの中心、差込みまたは着手のアラインメントのために、セットすることができます。 他の所でとして、 NPVE は各 「経路に沿う」そして 「経路」、コーナーがどのように留め継ぎされるか、等間のドエルポイント間隔のような模造パラメータの完全な制御を可能にします。

10 倍の対称の輪郭の形の 50% の重複のドエルポイントシミュレーション、

集合操作を

複雑な形を作成することは NPVE の集合操作の使用によってもっと簡単にされます。 個々の形は集合操作と形の連合、相違、交差、 XOR または切られたバージョンを作成するために結合されるかもしれません。 各々の得られた形は用いられる特定の集合操作によって定まられて新しいノードが十分に編集可能に、残ります。 集合操作を使用して、重複の形および生じる誤った二重投薬のエラーは除去することができます。

模造様式

用いられる特定スキャン作戦に達成される結果の重大な影響があります。 NPVE の模造様式はユーザーがスキャン作戦の範囲を指定することを可能にします。

オフセットの盛り土

材料の点サイズ、 redeposition、ガスの沈殿または腐食のレート、等はすべて最終的な形をように引かれた形より小さくわずかに大きくかさせることに貢献します。 各形に、一度特定操作のために、 NPVE が厳密な次元の許容に会うために自動的に必要な量形を引き締めるか、または拡大するようにする目盛りが付いているオフセットパラメータがあります。

生きている眺めの模造

他愛ない嘘と製粉している間ただ SEM と見ない柄ビームの観点からの模造プロセスの視覚化は、他愛ない嘘 NanoPatterning の多くのアプリケーションの成功に重大であると証明しました。

深い穴の底の nano ワイヤーの切断の生きている眺めの模造。

それらが模造されるように形の NPVE の表示リアルタイムの 「ズームレンズの眺め」の画像、模造プロセスの精密なアラインメント、ドリフト訂正および観察を許可します。

他愛ない嘘のテキスト

データの便利な追跡のために、すべての実験は他愛ない嘘のテキストオプションを使用して容易にマークされた in-situ である場合もあります。 すべての MS Windows の™の字体は使用でき、テキストはガス化学を可能にするために操作の調理法の適用を含む他のどの形と同じように、模造することができます。

実験条件を注釈する他愛ない嘘のテキスト

画像オーバーレイ

ある特定のアプリケーションでは形の精密な位置は前に得られた画像をオーバーレイをするか、または光学顕微鏡のような別のソースから画像によって大いにより簡単に作ることができます。 NPVE は画像オーバーレイ、アラインメントおよび過透性の調節をサポートします。

ソース: 「ツァイス NPVE Nanopatterning 及びカールツァイス著視覚化エンジン」

このソースのより多くの情報のために、カールツァイスを訪問して下さい。

Date Added: Apr 29, 2010 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 14. June 2013 01:31

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