困難な経済的な時のプロセス開発の挑戦

先生によってダーク Ortloff

ダーク Ortloff、イェンス Popp およびアンドレアス Wagener の Gmbh プロセス関係ドイツ
対応する著者: dirk.ortloff@process-relations.com

カバーされるトピック

概要
導入
主要な挑戦
ソフトウェアサポートをもたらすこと
結論
参照

概要

MEMS および NEMS 工業のような半導体工業そして他のハイテク産業がここ一年で苦しんでしまったのは秘密ではないです。 GSA からの図に従って、半導体の販売は 2007 年と比較された 2008 の 6% によって下がりました。 来るとき嵐に乗り、全く上昇のために準備するために多くの企業図が会社のためのキーとして革新に挑んだことそれは秘密の多くあります。 現在の気候で特に苦しんでいるほとんどのハイテク産業は販売の下降を経験しました。 したがって、費用の下の運転はこれらの堅い時で明らかに必要です。 ただし、ある長期原価節約はずっとハイテク企業によって主として未踏査今までです。 特に、半導体に、 MEMS/NEMS および光起電企業に堅い時に思慮深く投資によって製品開発のタイムに市場そして費用を減らす潜在性があります。

このペーパーは挑戦を調査し、ある重要な考察を論議し、そしてより強いこの危機から出るために会社のための潜在的な方法を強調します。 プロセス開発実行システムと呼出された専門にされたソフトウェアの値は (PDES)論議されます。 PDES は成長する複雑さ、より短いタイムに市場および開発の非能率の挑戦に対処を助けます。 ペーパーはますます複雑化した製品が付いている市場の将来を育てる要求が製品工学の方法とともに働いている XperiDesk のような PDES のソフトウェアの集中的な使用によってしか達成することができないことを示します。 ツールおよび方法がよりよい解決を開発することおよびタイムに市場をことを shorterning によって会社に比較優位を与えることが示されます。1

導入

経済恐慌は現在最も低く可能な開発費を要求しています。 これらの要求は理解し易くしかし実際に非常に懸命に達成し易いです。 間違ったツールの堅い時間限定および使用、またはツールはものは何でも、状態を解決することさらに困難にしません。 これに追加されて、プロセス開発の複雑さは毎日増加します。

より多くの技術オプション、材料の選定および製造者はそれ以上の問題を複雑にします。 ここで、多くに、新しいデータ管理の作戦は挑戦を取扱うのを助けるように実行される必要があります。 情報処理機能をもったソフトウェアサポートを用いることは多くの利点を提供できる 1 つの潜在的解決能力です。 ただし、開発データの巨額の金は管理しにくいです。 情報の海洋で失われて、図 1 で明記される完全な開発のループを得ることを避けるためにはカバーする情報処理機能をもった解決は必要となります。

図 1. 開発サイクル

一方では、現金はこの頃は王です。 従って古い作戦が適当もっとまたはより少なくまだある間、タイミングは新しい作戦に投資してが実際に右ですか。 ある先導産業の頭首は構成のためのキーとして来るとき嵐に乗り、全く上昇のために準備するために革新に挑みました。

この視点、革新と合わない非常に困難ですあらゆる会社、後退に重大またはないです。 ただし、革新について考えた場合、のは頻繁に考慮される簡単な、有形含意だけである。 人々は頻繁に新製品か新しい作戦と革新を関連付けます。 過少見積りされるものが頻繁にエンジニアのための主要な挑戦が今ますます競争価格で大いにより堅い時間目盛内のこれらの技術を開発し、配置する必要性と結合される新技術のますます複雑さであることです。 これらの挑戦革新に会うことは会社により深く行く必要があります。

主要な挑戦

エンジニアのための主要な挑戦はますます複雑化している新技術を取扱っています、間ますます競争価格で大いにより堅い時間目盛内の成長の製品に託さなければならなくて。 過去の 20 年にわたって、製造業の短縮のサイクル時間に焦点がずっとあります。 「統計的な実験デザイン」のようなさまざまで統計的なツールの広まった使用はこの開発が続くことを可能にしました。

ただし、開発時間へ物理的な限界があり、半導体工業は特に差し迫っていますそれら。 私達がより多くの情報処理機能をもったおよび機能金持ち (「より多くのよりムーア法律」の維持し) のこの急速な開発をたいと思えば、けれども低価格が欠ければ、新技術および材料は用いられる必要があります。 薄膜の開発のプロセス開発の段階に Ref #2. でより多くの細部に取入れられているように改善のための明らかなスコープがあります

例えば、最も完全への既存の知識の利用によって、行われる必要がある実験の番号は限られます行う。 残るそれらはことができま物理的にすぐに行われますよりもむしろ最初に模倣する。 最後に、実験から得られるすべての結果は構成されたプロセスを使用して知識ベースを今後使用できるように開発するために自動的に集めることができます。 そのような技術との計画は使われる時間を減らすことができま開発のステップを繰り返します。

会社の中のまたはの外の異なる人々とグループの間の共同はハイテクな開発のために命令的です。 これは異なるグループの間の共同を世界中から含むことができます。 市場は向き、開発費は異なった法的主体の間で共同の開発の作業のための必要性を運転します。

共同はタイムに市場を改良できます。 ただし、適切な中央開発のプラットホームは、通信連絡および電子知識の転送の機能性を含んでそう効率的にするために、必要です。 履歴データは記録されなければなり、別の方法で共有される過去の間違い繰り返されます。

前の結果がアクセス可能壊れ、再撮影された実験の 10-15% が避けることができる半導体プロセス開発推定値の専門家。 すべてを文書化することは重要 - あらゆる考え、プロジェクト、実験、会合および結論です。 これが正常にそして楽にされれば、エンジニアは新しい結果から最適結果を引くことができます。 新しく、既存のデータは関連させ、こうして新しい情報は露出することができます。 例えば、 PDES は現在の開発しか寄与しない、それは未来のプロセス開発に有用ですも命令的な情報のネットワークを造り上げることができます。

頻繁に見つけられるもう一つの挑戦は生産に研究からの製造工程の転送です。 実験および開発プロセスが効率化されたら、製造業実行システムは (MES)広範な生産プロセスと助けるために実行されるべきです。 ただし、それはだけ受け取る入力あります。 プログラムが不必要な実験と散らかれば、サイクル時間は当然増加します。 PDES XperiDesk のようなシステムの実行の主な利点は製造業者がすてきののより少ないウエファーを実行することを可能にすることです。 その結果、それは貴重なリソースを自由に使えるようにし、お金を貯め、そしてかなり装置の補充所要時間の確率を減らします。

開発の進歩を文書化し、報告することは精々退屈である場合もあります。 散らかされた結果の記憶は手動で多様な機械装置からデータを集めるようにそれらが要求する主要な手動努力と開発技師に負わせます。 さらにレポートへの集められた結果データおよび評価のアセンブリは工学時間の大部分をかけることができます。 工学時間の 80% までデータ評価のよりもむしろデータ収集そして整理に使われるという企業の専門家報告。 平均は大いにより低くて、今でも退屈で、失策の多いタスクに使われる作業時間の大部分です。

Automising は開発プロセスに再びこれら創造性を注入できます。 開発の状態の報告は頻繁に自動化されたプロセスよりもむしろレポートの手動アセンブリの多くです。 入力データは頻繁に未完成品の状態が必ずしも精密 (WIP)ではないように最新ではないです。 これらの効果の影響は品質保証によって加重され、承諾は ISO 900X、 CMMI、硫素化合物等のような要求します。 それが開発で、また生産でますます適用するので、課されたドキュメンテーション条件を達成する強い要求があります。

要約することを 4 つの基本ルールに続くことによって、プロセス開発のコスト低減を作って達成することができます:

  1. 十分に既存の知識を利用して下さい、
  2. 別の形で学んで下さい (例えばシミュレーションによって)、
  3. 実験からのより多くの情報を、得て下さい
  4. 生産にすべての必須の知識を転送して下さい。

ソフトウェアサポートをもたらすこと

これらの規則は現在の経済的な気候に直面している間主です。 しかし質問は準タスクを今サポートするためにタイミングが新しいソフトウェアをもたらして右であるかどうか起こります。 成長の新製品か技術時考慮するべき多くの人々の失敗が総額所有権のである何を (TCO)。 これは開発および革新にかかわる費用の完全な重荷に関係しています。 TCO は通常の費用、オーバーヘッドおよびスタッフの費用を越えて遠く行きます。 それはまた新しいスタッフの取得の新しくかよりよい機械装置、 HR の費用、人材養成のような新しい方法そして頻繁に見落される作業を採用する費用の取得にかかわる費用すべてを組み込みます。 これはこのペーパーが参照する革新の深さです。 それは新製品を開発する十分ではないです。 むしろ、長期革新および商業成功を発生させるために、会社は大いにより大きい映像を見る必要があります。

さらに、経済停滞の間にこれらの問題を取扱うことへ巨大な利点があります: 費用は後退の間により低いです; 一般に会社が減らされたスタッフのレベルと作動するのは時です; そして最後に後退の間に会社の内で使用できるより多くの帯域幅およびリソースが、一般的に、あります。 会社がこれらの状況をどのように利用できるか 1990-91 年の後退ショーの McKinsey の調査の調査結果。

調査は山の底の会社はそれらを減らしたが主導株に残るか、または下降の間に深刻な挑戦者になった会社が彼らの獲得、 R.&D. および広告予算のことを増加によってそうしたことが分りました。 確かに既にこれらの状況を利用する会社があります; IBM はおよび技術の…、トレーニング… - 人々…下降の間に投資するべき示された規定があります。 しかしそれは必ずしも広まった哲学ではないです。 ほとんどの会社は経費削減の時間および作業の合理化として理解できるほど下降を見ます。 ただし、これらの分裂的な技術および方法を内部的にもたらす、よい時間は経済停滞の間によりありません。

しか新しい機械、ソフトウェアまたは技術の費用は下降の間により低くないです、しかしまた他の原価節約の全いかだは作ることができます。 例えば、新しいシステムまたはプロシージャのための減らされたスタッフの時の間に、導入の費用およびハードルは大いにより低いです。 さらにスタッフのレベルがより低いとき、下降の間のより多くの人材養成を設けることは重要な費用の節約器です。 そしてもっと一般に経済的な補充所要時間により多くのリソースは現在の方法を評価し、新しいものについての学習のために使用できます。 上昇の間に少しだけ帯域幅が、これらの新技術、プロシージャまたは訓練課程をもたらすためのタームスタッフのアベイラビリティそして時間制限で、あります。

会社は次の上昇のために準備する必要があり最近の数か月の間により肯定的な経済的な印がずっとあります。 未来の地平線で最新の全体的な半導体のレポートは 4 月 2009 日に 1996 年以来の 4 月のための最も強い月月の成長があったことを示します。 最終的に会社はより少しとの多くをする方法を見つけなければなりません (市場か生産の上昇の会社の間に一般に市場のピークでより少数のエンジニアを持っています)。

当然、新製品および新しい考えは最終的に商業成功の技術の会社を望む提供するもの、しかしこれらの製品および考えが来るどこにからですか。 これらの事はチャンスまで残すことができないし、組織に投資して、下部組織におよびスタッフは重要なさい先のよいスタートを与える潜在性があります。

結論

このペーパーはよりよいソフトウェアサポートを使用して可能な改善の焦点との現在のプロセス開発の方法そして挑戦の簡潔な概要を与えました。 さらにそれは導入のそのようなソフトウェアサポートおよび影響およびタイミングもたらすことの面を強調しました。 McKinsey の結果に従って影響を調査することを調査し、経済的な時の挑戦の間の投資の作戦は、タイミング上がるか、またはピーク時の間によりもむしろより堅い時の開発戦略を変更して右です。 よりよいソフトウェアサポートを全開発の流れをサポートする XperiDesk (PDES の商用化された実施) のようなプロセス開発実行システムをもたらすことによって達成することができます - から…生産への生じる調理法の転送または協力への最初の装置考え組んで下さい。


参照

1. K. Hahn、 T. シュミツト、 M. Mielke、 T. Bruckk、 D. Ortloff: ケイ素ベースの製造プロセス開発のためのデータ管理を使用してマイクロおよび Nano 製品工学。 : ナノテクノロジー、ジュネーブ 2009 年の IEEE の第 9 国際会議の進行。
2. D. Ortloff、 J. Popp、 A. Wagener: プロセス開発サポートの繰り返しの不足。 : マイクロおよび Nano システム、 Puerto Vallarta 2008 年の商業化の第 13 国際会議の進行。

COMS 2009 年で示される、コペンハーゲン

版権 AZoNano.com、 MANCEF.org

Date Added: Jun 8, 2010 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 14. June 2013 01:31

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this article?

Leave your feedback
Submit