CPS 光盤離心機 UHR - 在高分辨率顆粒大小評定的新的標準由 CPS 儀器歐洲

包括的事宜

簡介
 CPS 光盤離心機 UHR 關鍵功能
 更加高分辨率
 改進的溶解的抗性光盤
 平靜的運算
 被添加的分析時間靈活性
 CPS 光盤離心機 UHR 的應用

簡介

新的 CPS 光盤離心機 UHR 是為超離頻的解決方法，粒度分佈的高精確度評定的一個非常強大的分析工具。提供唯一能力解決非常接近的多重模態分佈的微粒配電器和區分非常小的轉移在顆粒大小中，這個分析程序的實用的範圍是從 2nm 到 80 微米 (根據範例密度)。

儀器使用有差別的離心沉積作用微粒大小技術 (DCS)。當他們在實時，通過一臺光源探測器 - 提供充分的描述特性使用一個預計算法，而不是，光盤離心機實際上分隔納諾微粒然後評定他們。

新的 CPS 光盤離心機 UHR ：您是否認識您的納諾微粒的實際範圍？

CPS 光盤關鍵功能分離 UHR

新的『UHR』模式關鍵功能包括：

更加高分辨率
改進的溶解的抗性光盤
平靜的運算
被添加的分析時間靈活性

更加高分辨率

探測器光學被重新設計導致它穿過這個範例的一條更加縮小的射線。這條射線採取短的弧的表單 (而不是一條直線) 與符合半徑循環這條射線穿過這個光盤的半徑。当半徑配比，進一步減少這條射線的有效寬度，并且為多數評定，可以顯著改進有效解決方法。一個完全縮小的範例的峰寬可以是一樣低的，像 1% 顆粒大小直徑評定了。通過使用 CPS 光盤的被改進的解決方法比最佳可用请分離 UHR，典型的微粒的，儀器輸出是非常接近這個真的配電器 - 大約 2-10 次更好的解決方法的一個理想的表示對其他微粒大小方法。

超高分辨率功能 - 與激光衍射和動態光散射的解決方法比較

改進的溶解的抗性光盤

UHR 設計來與由 CR-39 聚合物做的一個標準溶解的抗性光盤。新的光盤由實際上所有有機溶液和水基的液體抵抗攻擊。 CR-39 聚合物對抓是有抵抗性，不會染黃與年齡，并且有清晰處理那光學成績玻璃。這個光盤的被改進的光學質量消滅探測器射線的分散和畸變由這個光盤，和，因此維護從這條更加縮小的射線的被改進的解決方法。

平靜的運算

UHR 設計使用減少冷卻風扇噪聲的一個改進的氣流模式和添加隔音加上雙層壁建築減少噪聲從離心機馬達和這個轉動的光盤。在儀器的前線的可聽見的噪聲功率減少到更加早期的 CPS 光盤離心機設計的級別的 1/6。

被添加的分析時間靈活性

UHR 設計的被改進的分辨能力通過對解決方法的輕微的減少意味著對非常小直徑範例的許多分析可以被測量用短的時間，用一個更短的分析交換。例如，沉積作用深度可能被系數二經常減少，由系數二減少運行時間。在解決方法 (即最小的可申報的峰寬的損失 3% 而不是 1.5%的模式直徑) 比其他微粒大小技術是相當小的，并且依然是好。

在改革了顆粒大小描述特性 - 被證明是為不計其數的納諾應用的一個無價的工具環球 CPS 光盤離心機的成功的平臺的新的 CPS 光盤離心機 UHR 編譯!