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जिन विषय
अवलोकन विभिन्न मंडलों में ढांकता हुआ नक़्क़ाशी प्रक्रियाओं प्रतिक्रियाशील आयन (आर.आई.ई.) नक़्क़ाशी और प्लाज्मा नक़्क़ाशी सिस्टम (पीई) उच्च घनत्व प्लाज्मा मंडलों (HDP) उच्च घनत्व प्लाज्मा सूत्रों का कहना है एनिस्ट्रोपिक और Isotropic अवयव आईसीपी के ढांकता हुआ नक़्क़ाशी के लिए लाभ ढांकता हुआ नक़्क़ाशी के अनुप्रयोगों ऑक्सफोर्ड उपकरण से उच्च घनत्व प्लाज्मा सिस्टम आईसीपी के आधार ऑक्सफोर्ड उपकरण से सिलिकॉन डाइऑक्साइड नक़्क़ाशी सिस्टम नक़्क़ाशी नेनो पैमाने सुविधाएँ आईसीपी का उपयोग हाइड्रोजन के साथ चयनात्मकता सुधार नक़्क़ाशी प्रक्रिया के दौरान आयन फ्लक्स और गैस रसायन विज्ञान नियंत्रण सारांश अवलोकन
इस कागज ढांकता हुआ नक़्क़ाशी के विभिन्न पहलुओं की तुलना है. ढांकता हुआ नक़्क़ाशी के लिए दो प्रमुख तकनीकों पर चर्चा कर रहे हैं, अर्थात् डायोड आर.आई.ई. और उच्च घनत्व आधारित प्रक्रियाओं. पत्र में हम इन तकनीकों के लिए नवीनतम परिणामों को अद्यतन और भी ढांकता हुआ फिल्मों के nanoscale नक़्क़ाशी के बढ़ते महत्व को देखो.
विभिन्न मंडलों में ढांकता हुआ नक़्क़ाशी प्रक्रियाओं
हाल के वर्षों में ढांकता हुआ खोदना प्रक्रियाओं कक्षों के विभिन्न प्रकार के में तेजी से किया गया है बाहर ले, खोदना आवश्यकताओं को ग्राहकों और बजट की कमी पर निर्भर करता है. ढांकता हुआ नक़्क़ाशी जहां खोदना दर एक प्रमुख ड्राइवर, उचित पंक्ति चौड़ाई (आमतौर पर 1μm>) के साथ नहीं है के लिए, पारंपरिक डायोड प्रकार कक्षों का इस्तेमाल कर रहे हैं. जहां दर एक ड्राइवर छोटी लाइन चौड़ाई (आमतौर पर 1μm <) के साथ है,, उच्च घनत्व प्लाज्मा सिस्टम इस्तेमाल कर रहे हैं.
प्रतिक्रियाशील आयन (आर.आई.ई.) नक़्क़ाशी और प्लाज्मा नक़्क़ाशी सिस्टम (पीई)
पारंपरिक डायोड, या समानांतर थाली, प्लाज्मा कक्षों अच्छी तरह से इस उद्योग में स्थापित कर रहे हैं. समानांतर - प्लेट सिस्टम प्रतिष्ठित दो अलग - अलग प्रकार में नीचे टूटी हुई है, इन प्रतिक्रियाशील आयन (आर.आई.ई.) नक़्क़ाशी या प्लाज्मा नक़्क़ाशी सिस्टम (पीई) कहा जाता है. कुछ निर्माता इन बुनियादी सिस्टम चुंबकीय वृद्धि जोड़ा है, sidewall खो देता है कम और प्लाज्मा सीमित है. इन दो समानांतर थाली रिएक्टरों की आर.आई.ई. प्रकार की प्रणाली आम तौर पर ढांकता हुआ फिल्मों के नक़्क़ाशी के लिए अपनाया गया है. एक आर.आई.ई. प्लाज्मा वाट के कुछ सैकड़ों की सीमा में एक आरएफ शक्ति के साथ आमतौर पर रेडियो आवृत्तियों पर किलोवाट के माध्यम से उत्पन्न. आवृत्ति के लिए चुना ड्राइविंग कक्ष में इलेक्ट्रॉनों preferentially, त्वरित जबकि आयनों औसत electrostatic क्षेत्र द्वारा संचालित कर रहे हैं. संसाधित वफ़र संचालित इलेक्ट्रोड (आयन त्वरण को बढ़ाने) पर रहता है. इलेक्ट्रॉन मतलब मुफ्त पथ ऑपरेटिंग दबाव की सीमा. यदि दबाव स्तर के पास कम है, जिस पर इलेक्ट्रॉन मतलब मुफ्त पथ (आमतौर पर कई सेमी) इलेक्ट्रोड प्लाज्मा नहीं रह आत्मनिर्भर है के बीच अंतर दृष्टिकोण. एक ठेठ आर.आई.ई. व्यवस्था आंकड़ा 1 में प्रकाश डाला है.
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एक आर.आई.ई. योजनाबद्ध चित्रा.