nCLEAR - Deposición Atómica de la Capa de las Capas de Barrera Inorgánicas para la Electrónica Flexible y Orgánica por Beneq

Temas Revestidos

Reseña
Capas de Barrera para la Electrónica Flexible y Orgánica
Tecnología de la Barrera del nCLEAR
Propiedades de la Tecnología de la Barrera del nCLEAR
Ventajas del nCLEAR
Sistema de la Película Fina de TFS 600

Reseña

Beneq Oy, basado en Finlandia, es un surtidor de la tecnología del equipo y de la capa para los mercados globales. Beneq gira innovaciones en éxito desarrollando aplicaciones y el equipo para los campos del cleantech y de la energía renovable, especialmente en los mercados del cristal, solares y el emerger de la película fina. Las aplicaciones de la Capa incluyen las ópticas, las barreras y las capas de la pasivación, así como generación y protección de la energía. Beneq también ofrece servicios completos de la capa. Las aplicaciones de la capa de Beneq se basan en dos plataformas de activação de la nanotecnología: Deposición Atómica de la Capa (ALD) y capa del aerosol (nHALO® y nAERO®).

Capas de Barrera para la Electrónica Flexible y Orgánica

La necesidad de películas eficientes de la barrera de la humedad y del oxígeno es un reto importante en electrónica flexible y orgánica, cuyo los diodos electroluminosos orgánicos (OLED) y el photovoltaics orgánico (OPV) son dos aplicaciones. Las técnicas Convencionales de la deposición de la barrera de la película fina son incapaces de producir capas de barrera con bajo un suficiente tipo de transmisión del vapor de agua (WVTR). Por este motivo y necesidad, las capas de barrera ALD-basadas del nCLEAR® de Beneq ofrecen propiedades superiores y las soluciones tangibles para la industria.

Capas de barrera de Beneq ALD para la electrónica flexible y orgánica

Tecnología de la Barrera del nCLEAR

Las películas inorgánicas de la barrera del nCLEAR de Beneq se depositan con la deposición atómica de la capa (ALD), que crea las películas finas extremadamente densas con densidad muy inferior del agujerito. Como consecuencia, las películas de ALD proporcionan a propiedades únicas de la barrera. Beneq tiene más de veinte años de experiencia al usar ALD para fabricar y puede proporcionar a las barreras de alto rendimiento del nCLEAR basadas en nanolaminates propietarios. La solución es un proceso automatizado de la capa del tratamiento por lotes para el cual Beneq proporciona a los sistemas de llavero, e.g., el TFS 600.

Propiedades de la Tecnología de la Barrera del nCLEAR

la tecnología del nCLEAR ha demostrado resultados de calidad mundial de WVTR de 10-4 g/m/242 h en el °C 80 y el DERECHO del 80%, que corresponde < 10-6="" g="">a 2/24 h en condiciones ambiente. Estos resultados fueron logrados con un nanolaminate Beneq-Revelado (patentes pendientes).

Ventajas del nCLEAR

Las ventajas principales del nCLEAR incluyen

  • Propiedades De Calidad Mundial de la barrera
  • Uniforme, capas agujerito-libres en las dimensiones de una variable planares o complejas 3D
  • Temperatura de proceso Inferior, bien debajo del °C 100
  • Adherencia Excelente entre la capa y la superficie
  • Proceso Robusto y seguro de la capa

Sistema de la Película Fina de TFS 600

El Beneq TFS 600 es un sistema de ALD diseñado específicamente para la línea industrial encapsulación integrada del vacío de OLED. El sistema activa la producción en línea de ALD sin la fractura del vacío entre los escenarios de la fabricación. Las ofertas de TFS 600

  • La calidad Superior de la capa combinó con una duración de ciclo corta
  • La encapsulación de OLED y el otro compartimiento específico a la aplicación de la reacción diseñan con funcionamiento de recubrimiento optimizado
  • Operaciones que cargan Completo automatizadas
  • Compatibilidad del Recinto Limpio

Más información sobre el TFS 600 está disponible en la paginación del equipo de TFS 600.

Fuente: Beneq

Para más información sobre esta fuente visite por favor Beneq

Date Added: Jan 14, 2011 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 14. June 2013 04:44

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