nCLEAR - Beneq 著適用範囲が広く、有機性電子工学のための無機障壁コーティングの原子層の沈殿

カバーされるトピック

概要
適用範囲が広く、有機性電子工学のための障壁コーティング
nCLEAR の障壁の技術
nCLEAR の障壁の技術の特性
nCLEAR の利点
TFS 600 の薄膜システム

概要

フィンランドで基づいて Beneq Oy は全体的な市場のための装置およびコーティングの技術の製造者です。 Beneq は成功にガラスの、太陽および出現の薄膜の市場の cleantech および再生可能エネルギーフィールドのためのアプリケーションそして装置を、特に発達させることによって革新を回します。 コーティングのアプリケーションは光学、障壁および不動態化の層、またエネルギー生成および保存含んでいます。 Beneq はまた完全なコーティングサービスを提供します。 Beneq のコーティングのアプリケーションは 2 つの可能になるナノテクノロジーのプラットホームに基づいています: 原子層の沈殿 (ALD)およびエーロゾルのコーティング (nHALO® および nAERO®)

適用範囲が広く、有機性電子工学のための障壁コーティング

効率的な湿気および酸素の障壁のフィルムのための必要性は有機性発光ダイオード (OLED) および有機性 photovoltaics が 2 つのアプリケーションである適用範囲が広く、有機性電子工学の主要な (OPV)挑戦です。 慣習的な薄膜の障壁の沈殿技術は低く十分な水蒸気の伝送速度のバリヤー層の作成のできないです (WVTR)。 従ってそして必要性、 ALD ベースの Beneq の nCLEAR® の障壁コーティングは企業のための優秀な特性そして有形解決を提供します。

適用範囲が広く、有機性電子工学のための Beneq ALD の障壁コーティング

nCLEAR の障壁の技術

Beneq の nCLEAR の無機障壁のフィルムは非常に低いピンホール密度と (ALD)非常に密な薄膜を作成する原子層の沈殿と沈殿します。 その結果、 ALD のフィルムは一義的な障壁の特性を提供します。 Beneq に製造のために ALD を使用することで 20 年間以上の経験あり、専有 nanolaminates に基づいて高性能 nCLEAR の障壁を提供できます。 解決は Beneq がターンキーシステム、例えば、 TFS 600 を提供する自動化されたバッチコーティングプロセスです

nCLEAR の障壁の技術の特性

nCLEAR の技術は 80 °C および包囲された条件の-4 2/24 の2 h に対応する 80% RH で 10 g/m/24 h の < 10-6="" g="">国際的レベルの WVTR の結果を示しました。 これらの結果は Beneq 開発された nanolaminate (特許審議中) と達成されました。

nCLEAR の利点

nCLEAR の主要な利点は含んでいます

  • 国際的レベルの障壁の特性
  • ユニフォーム、平面か複雑な 3D 形のピンホールなしのコーティング
  • 100 °C よりずっと低く低いプロセス温度、
  • コーティングと表面間の優秀な付着
  • 強く、信頼できるコーティングプロセス

TFS 600 の薄膜システム

Beneq TFS 600 は産業真空ライン統合された OLED のカプセル封入のためにとりわけ設計されている ALD システムです。 システムは製造業の段階の間で真空を壊さないでインライン ALD の生産を可能にします。 TFS 600 の提供

  • 優秀なコーティングの品質は短いサイクル時間と結合しました
  • OLED のカプセル封入および他のアプリケーション特有の反作用区域は最適化されたコーティングパフォーマンスと設計します
  • 十分に自動化されたローディング操作
  • クリーンルームコンパティビリティ

TFS 600 についてのより多くの情報は TFS 600 装置のページで使用できます。

ソース: Beneq

このソースのより多くの情報のために Beneq を訪問して下さい

Date Added: Jan 14, 2011 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 14. June 2013 07:02

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