Heiße PrägungsTechnologie - Niedrige Kosten, Flexible Fälschungs-Methode für Nanoimprinting-Muster auf Polymer-Substratflächen durch EV-Gruppe

Themen Umfaßt

Einleitung
     Vorteile von Nanoimprint-Lithographie (NIL)
     Lösung Bereiche für Nanoimprint-Lithographie von EV-Gruppe
Was Heiß Prägt?
Anwendungen der Heißen Prägung
Nanoimprint-Lithographie-Anlagen für die Heiße Prägung
Typischer Heißer Prägender ProzessFluss
Eindeutige Merkmale von Heißen PrägungsAnlagen von EV-Gruppe
     EVG®510HE/UV-NIL Halbautomatisierte Heiße PrägungsAnlage
     Halbautomatisierte Heiße PrägungsAnlage EVG®520HE
     EVG®750 Automatisierte Heiße PrägungsAnlage

Einleitung

Da die ersten Nano-Impressum-Lithographie (NIL)veröffentlichungen, Zinsen an der Technologie schnell gewachsen ist - beginnend mit der wissenschaftlichen Gemeinschaft und auf Wirtschaftsbereiche wie integrierte Optik, Fühler und Mikrofluidik dann, bewegend.

Vorteile von Nanoimprint-Lithographie (NIL)

NULL bietet einige technische Vorteile in Bezug auf Auflösung, Überlagerungsgenauigkeit und Hilfsmittelauslegung an. Zusätzlich zum Erstellen von Merkmalen der hohen Auflösung in der nmreichweite, kann NULL für die Wiederholung von viel größeren Merkmalen auch eingesetzt werden. Momentan wird NULL in den optischen Anwendungen für die Produktion von optischen Elementen mit Kenngrößen in der Untermm Reichweite verwendet. Mit der ständig steigenden Nachfrage nach der höheren Integration der Funktionalität, kombiniert mit dem Bedarf, Zellengrößen zu den annehmbaren Kosten zu verringern, sind traditionelle lithographische Techniken schnell, ihren Grenzen nähernd. NULL ist ein wettbewerbsfähiger Kandidat für die Lithographie der Nächsten Generation (NGL) wegen seiner Vorteile in der Auflösung und in der Wirtschaftlichkeit.

Das Potenzial dieser Technologie ist von führenden Experten bestätigt worden. Nachfolgend ist es der Internationalen Technologie-Straßenkarte für Halbleiter (ITRS) als Lösung des Potenzials NGL für Mikroelektronik am 32 nm Knotenpunkt und jenseits hinzugefügt worden.

Lösung Bereiche für Nanoimprint-Lithographie von EV-Gruppe

EVG bietet Lösungen innerhalb der drei Hauptbereiche von Nanoimprint-Lithographie (NIL) an:

Was Heiß Prägt?

Heiße Prägungstechnologie ist niedrigen Kosten, flexible Fälschungsmethode, die Längenverhältnismikrostrukturen des Polymers hohe sowie nanoimprinting Muster gezeigt hat. Sie verwendet Polymer- oder Glassubstratflächen, um die Zellen aufzuprägen, die auf einem Vorlagenstempel erstellt werden. Dieses lässt den Stempel viele völlig kopierten Substratflächen unter Verwendung einer großen Auswahl von Materialien produzieren. Die Heiße Prägung wird deshalb für Anwendungen von der schnellen Erstausführung zur Großserienproduktion entsprochen. Die Heiße Prägung kann in einer großen Vielfalt von Bereichen angewendet werden: µTAS, microfluidics (micromixers, Mikroreaktoren), microoptics (Wellenleiter, Schalter) Usw.

Anwendungen der Heißen Prägung

Mögliche Anwendungen der Heißen Prägungstechnologie umfassen:

  • Microfluidics
    • Labor-auf-Chip Anlagen
    • Biowissenschaften
  • Kopierte Media (HDD)
  • Schnelle Erstausführung

Nanoimprint-Lithographie-Anlagen für die Heiße Prägung

Der Präzisionsausrichtungs-Anlagenstützstempel der Serie EVG600 zur Substratflächenausrichtung für die nachfolgende heiße Prägung. Stempel und Substratfläche werden in Kontakt innerhalb einer Unterdruckkammer der Serie EVG500 geholt. Ein genau esteuerter Temperaturverlauf (gewöhnlich bis zu 250°C, erstellen die Anlagenhalterungen bis zu 650°C) und die Kontaktkraftreihenfolge (bis zu 350kN) ein Impressum des Stempels auf der Substratfläche. Impressumbereiche bis 200 mm im Durchmesser mit Merkmalen der hohen Auflösung unten bis 50 nm sind auf den heißen Prägungsanlagen EVG500 demonstriert worden. Typische Stempel werden aus Si, SiO oder2 Metallen gemacht (z.B. Ni) heraus. Substratflächen sind gewöhnlich Polymersubstratflächen oder überzogene Polymere auf Halbleiterwafer. Die Option der hohen Temperatur aktiviert die Prägung in Materialien, in denen erhöhte Temperaturen erforderlich sind (z.B. Glassubstratflächen).

Kopieren des Großen Gebiets von Halbleiterpolymeren für flexible Solarzellenanwendungen
Quelle EVG, Höflichkeit von IMI-CNRC

Musterübertragung des Großen Gebiets auf Si unter Verwendung der NULL auf dem EVG520HE
Quelle EVG, Höflichkeit von IMI-CNRC

Aufgeprägte Substratfläche mit Submikronzeilen und -platz. Aufgeprägt auf EVG520HE
Quelle EVG, Höflichkeit von Bergische Universität Wuppertal

Typischer Heißer Prägender ProzessFluss

  1. Temperatur stocken auf (die Spitzen-/Unterseitenheizung unabhängig esteuert)
  2. Temperatur über Tg
  3. Kühlung unter Tg für die de-Prägung
  4. De-Prägungstemperatur
  5. Prägung der Kraft
  6. Evakuierung (Anfänge, wenn Stempel und Substratfläche getrennt werden)

g Glasübergangstemperatur T des aufgeprägt zu werden Polymers

Quelle: EVG.

Eindeutige Merkmale von Heißen PrägungsAnlagen von EV-Gruppe

Alle heiße Prägungsanlagen EVGS haben die Prägungsund klebenden Fähigkeiten.

EVG®510HE/UV-NIL Halbautomatisierte Heiße PrägungsAnlage

Das EVG510HE kann als manueller heißer Embosser und/oder UV-NIL Anlage für R&D-Prozesse konfiguriert werden. Die Bereich nachgewiesene EVG510HE-Anlagenarchitektur stellt die besten Fähigkeiten für die Hochvakuum- und Hochkontakt Kraftanwendungen zur Verfügung. Mit der Universalprägungskammer des EVG510HE kann die ganze Reichweite der Polymere strukturiert werden.


Die EVG®510HE/UV-NIL halbautomatisierte heiße Prägungsanlage.
Quelle: EVG.

Halbautomatisierte Heiße PrägungsAnlage EVG®520HE

Das EVG520HE ist für die Mikro- und nanoimprinting Anwendungen bestimmt. Diese Produktion-erwiesene Anlage von EVG nimmt Substratflächen bis 200 mm an und ist mit Standardhalbleiterfertigungstechniken kompatibel. Die heiße Prägungsanlage wird mit den Hochvakuum- und Kraftfähigkeiten des Hochkontaktes einer Universalprägungskammer, konfiguriert und kann die ganze Reichweite der Polymere und engagierten Glasgeeigneten für die heiße Prägung aufbereiten.


Die halbautomatisierte heiße Prägungsanlage EVG®520HE.
Quelle: EVG.

EVG®750 Automatisierte Heiße PrägungsAnlage

Das EVG750 ist für die Prägungsund nanoimprinting Anwendungen des hohen Volumens für die Prägung Drehbeschleunigung-auf von Schichten und von Polymersubstratflächen bestimmt. Diese hohe Durchsatzanlage ist die erste seiner Art in der Welt und kann für microfluidic Einheitsgroßserienfälschung verwendet werden.


Die EVG®750 automatisierte heiße Prägungsanlage.
Quelle: EVG.

Quelle: EV-Gruppe

Zu mehr Information über diese Quelle besuchen Sie bitte EV-Gruppe

Date Added: Jan 16, 2011 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 14. June 2013 04:12

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