Tecnología Que Graba Caliente - Bajo Costo, Método Flexible de la Fabricación para los Modelos de Nanoimprinting en los Substratos del Polímero del Grupo de EV

Temas Revestidos

Introducción
     Ventajas de la Litografía de Nanoimprint (NIL)
     Áreas de la Solución para la Litografía de Nanoimprint del Grupo de EV
¿Qué Caliente Está Grabando?
Aplicaciones de Grabar Caliente
Sistemas de la Litografía de Nanoimprint para Grabar Caliente
Flujo De Proceso Que Graba Caliente Típico
Características Únicas de Sistemas Que Graban Calientes del Grupo de EV
     Sistema Que Graba Caliente Semiautomatizado de EVG®510HE/UV-NIL
     Sistema Que Graba Caliente Semiautomatizado de EVG®520HE
     Sistema Que Graba Caliente Automatizado EVG®750

Introducción

Puesto Que las primeras publicaciones Nanas de la Litografía (NIL) de la Impresión, interés en la tecnología han crecido rápidamente - comenzando con la comunidad científica y después moviéndose a los sectores industriales como las ópticas integradas, los sensores y la fluídica micra.

Ventajas de la Litografía de Nanoimprint (NIL)

La NADA ofrece varias ventajas técnicas en cuanto a la resolución, a la exactitud del papel, y al diseño de la herramienta. Además de crear características de alta resolución en el rango del nanómetro, la NADA se puede también emplear para replegar características mucho más grandes. Actualmente, la NADA se utiliza en las aplicaciones ópticas para la producción de elementos ópticos con tallas de característica en el rango del sub-milímetro. Con la demanda cada vez mayor para una integración más alta de las funciones, combinada con la necesidad de reducir tallas de la estructura en los costos aceptables, las técnicas litográficas tradicionales son rápidas acercándose a sus límites. La NADA es un candidato competitivo para la Litografía de la Generación Siguiente debido a sus ventajas en la resolución y la rentabilidad.

El potencial de esta tecnología ha sido reconocido por los expertos de cabeza. Posteriormente, se ha agregado al Mapa Itinerario Internacional de la Tecnología para los Semiconductores (ITRS) como solución del potencial NGL para la microelectrónica en el nodo de 32 nanómetro y más allá.

Áreas de la Solución para la Litografía de Nanoimprint del Grupo de EV

EVG ofrece soluciones dentro de las tres áreas principales de la Litografía de Nanoimprint (NIL):

¿Qué Caliente Está Grabando?

La tecnología que graba Caliente es un bajo costo, el método flexible de la fabricación, que ha demostrado altas microestructuras de la relación de aspecto del polímero así como modelos nanoimprinting. Utiliza los substratos del polímero o del cristal para imprimir las estructuras creadas en un sello principal. Esto permite que el sello produzca muchos substratos completo modelados usando una amplia gama de materiales. El grabar Caliente por lo tanto se adapta para las aplicaciones de la creación de un prototipo rápida a la producción en grandes cantidades. El grabar Caliente se puede aplicar en una amplia variedad de campos: µTAS, microfluidics (micromixers, microreactores), microoptics (guías de la onda, interruptores) Etc.

Aplicaciones de Grabar Caliente

Las Aplicaciones Potenciales de la tecnología que graba Caliente incluyen:

  • Microfluidics
    • Sistemas de la Laboratorio-en-Viruta
    • Ciencias de la Vida
  • Media Modelados (HDD)
  • Creación De Un Prototipo Rápida

Sistemas de la Litografía de Nanoimprint para Grabar Caliente

El sello del soporte de sistemas de la alineación de la precisión de la Serie EVG600 a la alineación del substrato para grabar caliente subsiguiente. El Sello y el substrato se traen en contacto dentro de un compartimiento de vacío de la Serie EVG500. Un perfil de temperatura exacto controlado (típicamente hasta 250°C, los soportes de sistema hasta 650°C) y la serie de la fuerza del contacto (hasta 350kN) crean una impresión del sello en el substrato. Las áreas de la Impresión hasta 200 milímetros de diámetro con las características de alta resolución hacia abajo a 50 nanómetro se han demostrado en los sistemas que grababan calientes EVG500. Los sellos Típicos se hacen fuera de Si, de SiO2 o de los metales (e.g. Ni). Los Substratos son típicamente substratos del polímero o polímeros revestidos en los fulminantes de semiconductor. La opción da alta temperatura activa la impresión en los materiales donde están necesarias las temperaturas elevadas (e.g los substratos de cristal).

El modelar de la Área extensa de los polímeros semiconductores para las aplicaciones flexibles de la célula solar
Fuente EVG, Cortesía de IMI-CNRC

Transferencia del modelo de la Área extensa en el Si usando NADA en el EVG520HE
Fuente EVG, Cortesía de IMI-CNRC

Substrato Impreso con las líneas y los espacios del submicron. Impreso en EVG520HE
Fuente EVG, Cortesía de Bergische Universität Wuppertal

Flujo De Proceso Que Graba Caliente Típico

  1. La Temperatura ramp hacia arriba (el calefactor superior/de la parte inferior independientemente controlado)
  2. Temperatura encima de Tg
  3. Enfriamiento hacia abajo debajo del Tg para de-grabar
  4. temperatura De-Que Graba
  5. Impresión de la fuerza
  6. Evacuación (comienzo cuando se separan el sello y el substrato)

Temperaturag de transición De Cristal de T del polímero que se imprimirá

Fuente: EVG.

Características Únicas de Sistemas Que Graban Calientes del Grupo de EV

Todos Los sistemas que graban calientes de EVG tienen capacidades de impresión y que pegan.

Sistema Que Graba Caliente Semiautomatizado de EVG®510HE/UV-NIL

El EVG510HE se puede configurar como una máquina de estampación caliente manual y/o sistema de UV-NIL para los procesos del R&D. La configuración de sistema probada campo de EVG510HE proporciona a las mejores capacidades para las aplicaciones de alto vacío y del alto-contacto de la fuerza. Con el compartimiento que graba universal del EVG510HE el rango entero de polímeros puede ser estructurado.


El sistema que graba caliente semiautomatizado de EVG®510HE/UV-NIL.
Fuente: EVG.

Sistema Que Graba Caliente Semiautomatizado de EVG®520HE

El EVG520HE se diseña para las aplicaciones micras y nanoimprinting. Este sistema producción-probado de EVG valida los substratos hasta 200 milímetros y es compatible con tecnologías de fabricación estándar del semiconductor. El sistema que graba caliente se configura con capacidades de un compartimiento que graba universal, de alto vacío y del alto-contacto de la fuerza y puede tramitar el rango entero de polímeros y de conveniente de cristal dedicado para grabar caliente.


El sistema que graba caliente semiautomatizado de EVG®520HE.
Fuente: EVG.

Sistema Que Graba Caliente Automatizado EVG®750

El EVG750 se diseña para las aplicaciones que graban y nanoimprinting en grandes cantidades para imprimir barrena-en de capas y de substratos del polímero. Este alto sistema de la producción es el primer de su clase en el mundo y se puede utilizar para la fabricación microfluidic en grandes cantidades del dispositivo.


El sistema que graba caliente automatizado EVG®750.
Fuente: EVG.

Fuente: Grupo de EV

Para más información sobre esta fuente visite por favor al Grupo de EV

Date Added: Jan 16, 2011 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 14. June 2013 04:44

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