Tecnologia di Goffratura di Piccante - Basso Costo, Metodo Flessibile di Montaggio per i Reticoli di Nanoimprinting sui Substrati del Polimero dal Gruppo di EV

Argomenti Coperti

Introduzione
     Vantaggi di Litografia di Nanoimprint (NIL)
     Aree della Soluzione per Litografia di Nanoimprint dal Gruppo di EV
Che Cosa il Piccante Sta Imprimendo?
Applicazioni di Goffratura Calda
Sistemi di Litografia di Nanoimprint per la Goffratura Calda
Piccante Tipico che Imprime Flusso Trattato
Funzionalità Uniche dei Sistemi di Goffratura di Piccante dal Gruppo di EV
     Sistema di Goffratura Caldo Semiautomatico di EVG®510HE/UV-NIL
     Sistema di Goffratura Caldo Semiautomatico di EVG®520HE
     Sistema di Goffratura Caldo Automatizzato EVG®750

Introduzione

Poiché le prime pubblicazioni Nane della Litografia (NIL) dell'Impronta, interesse nella tecnologia si è sviluppata rapido - iniziando con la comunità scientifica e poi muovendosi verso i settori industriali come le ottica integrate, i sensori ed il micro fluidics.

Vantaggi di Litografia di Nanoimprint (NIL)

Lo ZERO offre parecchi vantaggi tecnici riguardo a risoluzione, ad accuratezza del foglio di prova ed a progettazione dello strumento. Oltre a creare le funzionalità di alta risoluzione nell'intervallo di nanometro, lo ZERO può anche essere impiegato per la replica delle funzionalità molto più grandi. Attualmente, lo ZERO è utilizzato nelle applicazioni ottiche per la produzione degli elementi ottici con le feature size nell'intervallo di sotto-millimetro. Con la domanda in continuo aumento di più alta integrazione di funzionalità, combinata con la necessità di diminuire le dimensioni della struttura ai costi accettabili, le tecniche litografiche tradizionali sono veloci avvicinandosi ai loro limiti. Lo ZERO è un candidato non Xerox per la Litografia di Next Generation dovuto i sui vantaggi nella risoluzione e nella convenienza.

Il potenziale di questa tecnologia si è riconosciuto dagli esperti principali. Successivamente, si è aggiunto alla Carta Stradale Internazionale della Tecnologia per i Semiconduttori (ITRS) come soluzione di potenziale NGL per la microelettronica al vertice di 32 nanometro e di là.

Aree della Soluzione per Litografia di Nanoimprint dal Gruppo di EV

EVG offre le soluzioni all'interno dei tre campi principali della Litografia di Nanoimprint (NIL):

Che Cosa il Piccante Sta Imprimendo?

La tecnologia di goffratura di Piccante è un basso costo, metodo flessibile di montaggio, che ha dimostrato le alte microstrutture di allungamento del polimero come pure i reticoli nanoimprinting. Usa i substrati di vetro o del polimero per imprimere le strutture create su un bollo matrice. Ciò permette che il bollo produca molti substrati completamente modellati facendo uso di una vasta gamma di materiali. Il Piccante che imprime quindi è adatto per le applicazioni da modello rapido a produzione in grande quantità. Il Piccante che imprime può applicarsi in un'ampia varietà di campi: µTAS, microfluidics (micromixers, microreattori), microoptics (guide d'onda, opzioni) Ecc.

Applicazioni di Goffratura Calda

Le Applicazioni Potenziali della tecnologia di goffratura di Piccante includono:

  • Microfluidics
    • Sistemi del Laboratorio-su-Chip
    • Scienze Biologiche
  • Media Modellati (HDD)
  • Modello Rapido

Sistemi di Litografia di Nanoimprint per la Goffratura Calda

Il bollo di sostegno di sistemi di allineamento di precisione di Serie EVG600 all'allineamento del substrato per la goffratura calda successiva. Il Bollo ed il substrato sono portati in contatto dentro una camera di vuoto di Serie EVG500. Un profilo termico precisamente controllato (tipicamente fino a 250°C, i supporti sistemi fino ad un massimo di 650°C) e la sequenza della forza del contatto (fino a 350kN) creano un'impronta del bollo sul substrato. Le aree dell'Impronta fino a 200 millimetri di diametro con le funzionalità di alta risoluzione giù a 50 nanometro sono state dimostrate sui sistemi di goffratura di piccante EVG500. I bolli Tipici sono fatti dal Si, da SiO2 o da metalli (per esempio Ni). I Substrati sono tipicamente substrati del polimero o polimeri rivestiti sui wafer a semiconduttore. L'opzione ad alta temperatura permette alla stampa nei materiali in cui le temperature elevate sono necessarie (per esempio substrati di vetro).

Modello di Ampia area dei polimeri semiconduttori per le applicazioni flessibili della pila solare
Sorgente EVG, Cortesia di IMI-CNRC

Trasferimento del reticolo di Ampia area sul Si facendo uso di ZERO sul EVG520HE
Sorgente EVG, Cortesia di IMI-CNRC

Substrato Impresso con le righe e gli spazi di submicron. Impresso su EVG520HE
Sorgente EVG, Cortesia di Bergische Universität Wuppertal

Piccante Tipico che Imprime Flusso Trattato

  1. La Temperatura si arrampica (radiatore basso/alto indipendente controllato)
  2. Temperatura sopra Tg
  3. Raffreddarsi sotto il Tg per de-imprimere
  4. temperatura diGoffratura
  5. Stampa della forza
  6. Evacuazione (inizio quando il bollo ed il substrato sono separati)

Temperatura di transizione vetrosag di T del polimero da imprimere

Sorgente: EVG.

Funzionalità Uniche dei Sistemi di Goffratura di Piccante dal Gruppo di EV

Tutti I sistemi di goffratura caldi di EVG hanno sia capacità di stampa che saldanti.

Sistema di Goffratura Caldo Semiautomatico di EVG®510HE/UV-NIL

Il EVG510HE può essere configurato come una goffratrice calda manuale e/o sistema di UV-NIL per i trattamenti di R & S. L'architettura di sistema provata campo di EVG510HE fornisce le migliori capacità per le applicazioni del alto-contatto e sotto vuoto spinto della forza. Con la camera di goffratura universale del EVG510HE l'intero intervallo dei polimeri può essere strutturato.


Il sistema di goffratura caldo semiautomatico di EVG®510HE/UV-NIL.
Sorgente: EVG.

Sistema di Goffratura Caldo Semiautomatico di EVG®520HE

Il EVG520HE è progettato per sia le micro che applicazioni nanoimprinting. Questo sistema produzione-provato da EVG accetta i substrati fino a 200 millimetri ed è compatibile con le tecnologie di fabbricazione standard a semiconduttore. Il sistema di goffratura caldo è configurato con le capacità sotto vuoto spinto e del alto-contatto di una camera di goffratura universale, della forza e può elaborare l'intero intervallo dei polimeri e di adatto di vetro dedicato a goffratura calda.


Il sistema di goffratura caldo semiautomatico di EVG®520HE.
Sorgente: EVG.

Sistema di Goffratura Caldo Automatizzato EVG®750

Il EVG750 è progettato per le domande di goffratura e nanoimprinting del grande volume di stampa rotazione-sui livelli e dei substrati del polimero. Questo alto sistema di capacità di lavorazione è il primo del suo genere nel mondo e può essere usato per montaggio microfluidic in grande quantità dell'unità.


Il sistema di goffratura caldo automatizzato EVG®750.
Sorgente: EVG.

Sorgente: Gruppo di EV

Per ulteriori informazioni su questa sorgente visualizzi prego il Gruppo di EV

Date Added: Jan 16, 2011 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 14. June 2013 04:16

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