Горячая Выбивая Технология - Низкая Цена, Гибкий Метод Изготовления для Картин Nanoimprinting на Субстратах Полимера Группой EV

Покрытые Темы

Введение
     Преимущества Литографирования Nanoimprint (NIL)
     Зоны Разрешения для Литографирования Nanoimprint от Группы EV
Чего Горяче Выбивает?
Применения Горячий Выбивать
Системы Литографированием Nanoimprint для Горячий Выбивать
Типичный Горячий Выбивая Поток Процесса
Уникально Характеристики Горячих Выбивая Систем от Группы EV
     Система Semi-Автоматизированная EVG®510HE/UV-NIL Горячая Выбивая
     Система Semi-Автоматизированная EVG®520HE Горячая Выбивая
     Система Автоматизированная EVG®750 Горячая Выбивая

Введение

В Виду Того Что первые Nano издания Литографированием (NIL) Отпечатка, интерес в технологии росли быстро - начинающ с научным сообществом и после этого двигающ к промышленным участкам как интегрированная оптика, датчики и микро- fluidics.

Преимущества Литографирования Nanoimprint (NIL)

НОЛЬ предлагает несколько технических преимуществ по отношению к разрешению, точности верхнего слоя, и конструкции инструмента. В дополнение к создавать высокие характеристики разрешения в ряде нанометра, НОЛИ можно также использовать для копировать гораздо большле характеристики. В Настоящее Время, НОЛЬ использован в оптически применениях для продукции оптически элементов с размерами характеристики в ряде sub-миллиметра. С все больший и больший требованием для более высокого внедрения функциональности, совмещенного с потребностью уменьшить размеры структуры на приемлемые цены, традиционные литографские методы быстрые причаливающ их пределам. НОЛЬ конкурсный выбранный для Литографирования Следующего Поколени (NGL) должного к своим преимуществам в эффективности разрешения и цены.

Потенциал этой технологии был подтвержен ведущими специалистами. Затем, было добавлено к Международной Дорожной карте Технологии для Полупроводников (ITRS) как разрешение потенциала NGL для микроэлектроники на узле 32 nm и за пределами.

Зоны Разрешения для Литографирования Nanoimprint от Группы EV

EVG предлагает разрешения в пределах 3 главных зон Литографирования Nanoimprint (NIL):

Чего Горяче Выбивает?

Горячая выбивая технология низкая цена, гибкий метод изготовления, который демонстрировал микроструктуры коэффициента сжатия полимера высокие так же, как nanoimprinting картины. Она использует субстраты полимера или стекла для того чтобы отпечатать созданные структуры на мастерском штемпеле. Это позволяет штемпелю произвести много польностью сделанных по образцу субстратов используя широкий диапазон материалов. Горячий выбивать поэтому одет для применений от быстрого прототипирования к высокообъемной продукции. Горячий выбивать может быть прикладной в большом разнообразии полей: µTAS, microfluidics (micromixers, микрореакторы), microoptics (направляющие выступы волны, переключатели) Etc.

Применения Горячий Выбивать

Потенциальные Применения Горячей выбивая технологии включают:

  • Microfluidics
    • Системы Лаборатори-на-Обломока
    • Науки о Жизни
  • Сделанные По Образцу Средства (HDD)
  • Быстрое Прототипирование

Системы Литографированием Nanoimprint для Горячий Выбивать

Штемпель поддержки систем выравнивания точности Серии EVG600 к выравниванию субстрата для последующий горячий выбивать. Штемпель и субстрат принесены в контакт внутри камеры вакуума Серии EVG500. Точно контролируемый профиль температуры (типично до 250°C, системных поддержек до 650°C) и последовательность усилия контакта (до 350kN) создают отпечаток штемпеля на субстрате. Зоны Отпечатка до 200 mm в диаметре с высокими характеристиками разрешения вниз до 50 nm были продемонстрированы на горячих выбивая системах EVG500. Типичные штемпеля сделаны из Si, SiO2 или металлов (например Ni). Субстраты типично субстраты полимера или покрынные полимеры на вафлях полупроводника. Высокотемпературный вариант включает отпечатывать в материалы где повышенные температуры необходимы (например стеклянные субстраты).

Делать по образцу Обширного района semiconducting полимеров для гибких применений фотоэлемента
Источник EVG, Учтивость IMI-CNRC

Переход картины Обширного района на Si используя НОЛИ на EVG520HE
Источник EVG, Учтивость IMI-CNRC

Отпечатанный субстрат с линиями и космосами субмикрона. Отпечатано на EVG520HE
Источник EVG, Учтивость Bergische Universität Вупперталя

Типичный Горячий Выбивая Поток Процесса

  1. Температура ramp вверх (независимо контролируемый подогреватель верхних/дна)
  2. Температура над Tg
  3. Охлаждать вниз под Tg для de-выбивать
  4. De-Выбивая температура
  5. Отпечатывать усилие
  6. Опорожнение (старты когда штемпель и субстрат будут отделены)

Температураg Стеклянного перехода T полимера, котор нужно отпечатать

Источник: EVG.

Уникально Характеристики Горячих Выбивая Систем от Группы EV

Вся из систем EVG горячих выбивая имеют и отпечатывая и скрепляя возможности.

Система Semi-Автоматизированная EVG®510HE/UV-NIL Горячая Выбивая

EVG510HE можно установить как ручной горячий embosser и/или система UV-NIL для процессов R&D. Доказанное полем зодчество системы EVG510HE обеспечивает самые лучшие возможности для применений усилия глубокого вакуума и высок-контакта. С всеобщей выбивая камерой EVG510HE весь ряд полимеров можно составить.


Система semi-автоматизированная EVG®510HE/UV-NIL горячая выбивая.
Источник: EVG.

Система Semi-Автоматизированная EVG®520HE Горячая Выбивая

EVG520HE конструировано и для микро- и nanoimprinting применений. Эта продукци-доказанная система от EVG принимает субстраты до 200 mm и совместима с стандартными технологиями изготавливания полупроводника. Горячая выбивая система установлена с возможностями усилия всеобщей выбивая камеры, глубокого вакуума и высок-контакта и может обрабатывать весь ряд полимеров и преданного стеклянного соответствующего для горячий выбивать.


Система semi-автоматизированная EVG®520HE горячая выбивая.
Источник: EVG.

Система Автоматизированная EVG®750 Горячая Выбивая

EVG750 конструировано для высокообъемных выбивая и nanoimprinting применений для отпечатывать закрутк-на слоев и субстратов полимера. Эта высокая система объём первый из своего вида в мире и может быть использована для высокообъемного microfluidic изготовления прибора.


Система автоматизированная EVG®750 горячая выбивая.
Источник: EVG.

Источник: Группа EV

Для больше информации на этом источнике пожалуйста навестиньте Группа EV

Date Added: Jan 16, 2011 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 14. June 2013 04:41

Ask A Question

Do you have a question you'd like to ask regarding this article?

Leave your feedback
Submit