SMS-NIL - Einleitung zur Weiche Molekulare Schuppen-UV-Nanoimprint Lithographie durch EV-Gruppe

Themen Umfaßt

Überblick
Weiche Molekulare Schuppen-UV-Nanoimprint Lithographie
Prinzipien der Weiche Molekulare Schuppen-UV-Nanoimprint Lithographie
Beispiele von Weiche Molekulare Schuppen-UV-Nanoimprint Lithographie-Impressen
Eindeutige Merkmale der Weiche Molekulare Schuppen-UV-Nanoimprint Lithographie
Kauf-Optionen für Weiche Molekulare Schuppen-UV-Nanoimprint Lithographie

Überblick

EV-Gruppe (EVG) visiert das hoch entwickelte Verpacken, Verbindungshalbleiter und Silikon-basierte Starkstromgeräte, MEMS, Nanotechnologie und SOI-Märkte mit seiner Industrie-führenden Wafermasseverbindung, Lithographie/nanoimprint Lithographie (NULL), Metrologie, Fotoresistbeschichtung, Reinigung und Inspektionsgerät an.

EV-Gruppe (EVG) ist eine anerkannte Technologie und ein Marktführer für aufbereitendes Gerät des Wafers. Wir haben weltweite Industriestandards für ausgerichtete Wafermasseverbindung eingestellt sowie widerstehen, für die MEMS-, Nano-- und Halbleiter-Industrie aufzubereiten. Unsere technologische Sachkenntnis aktiviert Abnehmer, ihre Innovationen durch die Lieferungsfortgeschrittenen und nachgewiesenen Prozesslösungen von R&D zu Massenproduktion zu entwickeln und erfolgreich in den Handel zu bringen. Eine umfassende Reichweite des Geräts R&D-Anwendungen sowie völlig automatisierte Prozesse ansprechend ist das Ergebnis der langfristigen, Genossenschafts-Verhältnisse zu unserer umfangreichen Kundenliste globale.

Weiche Molekulare Schuppen-UV-Nanoimprint Lithographie

Basiert auf nachgewiesenen Anlagen UV-NIL EVGS, versieht SMS-NIL Abnehmer mit einem wiederholbaren, kosteneffektiven Prozess für das Produzieren des ultra-hochauflösenden Kopierens auf großem Gebiet auftaucht. SMS-NIL aktiviert Ultra-hochauflösung Kopieren von Merkmalen unten bis 12,5 nm. Unter Verwendung weichen Arbeitsprozesses nanoimprint stempel SMS-NILS können Abnehmer Vollbereich nanoimprints und optisch ausgerichtetes UV-NIL auf existierendem EVG-Gerät durchführen. Ebenso können der Stempel und die Prägung auf dem gleichen Hilfsmittel aufbereitet werden, ohne zusätzliche aufbereitende Schritteinsparung Abnehmer beträchtliche Verarbeitungszeit und Geld zu benötigen.

Prinzipien der Weiche Molekulare Schuppen-UV-Nanoimprint Lithographie

Die SMS-NIL Gebrauchspolymerischen Arbeitsstempel, die von der hohen Auflösung, teure Urlehren wiederholt werden und können für mehrfache Impressen verwendet werden. Die erhaltenen Funktionsstempel haben relative niedrige Oberflächenenergie, die eine einfachere Trennung von der Substratfläche nach dem Prägungsprozeß sicherstellt. Die Materialeigenschaften des inhärenten weichen Stempels verringern die Gefahr des mechanischen Schadens der Urlehre in großem Maße und erhöhen folglich ihre Lebenszeit.

Verarbeitungskosten SMS-NIL sind beträchtlich niedriger als in anderen Nano--kopierenden Techniken, das SMS-NIL eine sogar erfolgreiche und starke Lithographietechnik für verschiedene Anwendungen macht. SMS-NIL wird bereits in den industriellen Umgebungen für CMOS-Bildfühlermikroobjektivformteil und andere optische Anwendungen verwendet.

Die Auflösung von ultra-feinen Merkmalen bedeutet neue Materialien und einen optimierten Prozessfluß für die zuverlässige und wiederholbare Prägung auf großen Gebieten unter Verwendung gut eingerichteter Anlagen UV-NIL EVGS. Die Vorlagenstempel wurden durch IMS Nanofabrikation AG Wien unter Verwendung CHARPAN fabriziert (das geladene Teilchen, das mit Ionenmehrstrahlprojektion nanopatterning ist).


Quelle: EVG.

Beispiele von Weiche Molekulare Schuppen-UV-Nanoimprint Lithographie-Impressen

Die beiliegenden Impressumergebnisse der Bildshow SMS-NIL für 12,5 nm-Zeilen und -punkte mit einem Längenverhältnis des 2:1 wiederholt auf einer Anlage der NULL EVG620 auf 100 mm-Siwafers.


12,5 halbe Zellen Abstandes L/S nm
Quelle: EVG, Höflichkeit von IMS Nanofabrikation AG, Wien.


Schließen Sie oben von 12,5 halben Zellen Abstandes L/S nm
Quelle: EVG, Höflichkeit von IMS Nanofabrikation AG, Wien.


12,5 halbe Abstandpunkte nm
Quelle: EVG, Höflichkeit von IMS Nanofabrikation AG, Wien.


Schließen Sie oben von 12,5 halben Abstandpunkten nm
Quelle: EVG, Höflichkeit von IMS Nanofabrikation AG, Wien.

Eindeutige Merkmale der Weiche Molekulare Schuppen-UV-Nanoimprint Lithographie

Eindeutige Merkmale von SMS-NIL umfassen:

  • Kosten Besitzvorteil passend zu
    • Gebrauch von polymerischem Stempel
    • Kein Bedarf, das anti-Haften von Schichten anzuwenden
    • Erhaltung der Urlehre
    • Mehrfache Wiederverwendungsmöglichkeit von weichen Stempeln
  • Höchste Auflösung mit polymerischen Stempeln
  • Impressumfähigkeit des Großen Gebiets
  • Anwendbar auf allen Anlagen EVG UV-NIL (EVG620-, EVG6200-, IQ-Ausrichtungstransport, EVG770)

Kauf-Optionen für Weiche Molekulare Schuppen-UV-Nanoimprint Lithographie

EV-Gruppe bietet zwei flexible Kaufoptionen für SMS-NIL an. Abnehmer, die interessiert sind, an, das Arbeiten zu produzieren, stempelt in-house kaufen möglicherweise Verfahrenstechnikberatungsdienste EV-Gruppe, um ihre eigene Anwendungsentwicklung zu aktivieren. EV-Gruppe bietet auch die Option des Kaufs von den Arbeitsstempeln an, die zum Aufbereiten betriebsbereit sind.

Die gezeigten Ergebnisse wurden durch die Österreichische Nano--Initiative (www.nanoinitiative.at, FFG und BMVIT) durch das NILdirect_stamp finanziert und NILstamp_replications-Projekte des NILaustria-Projektes bündeln (www.NILaustria.at).

Quelle: EV-Gruppe

Zu mehr Information über diese Quelle besuchen Sie bitte EV-Gruppe

Date Added: Jan 17, 2011 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 14. June 2013 04:12

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