SMS-NIL - Introducción a la Litografía Ultravioleta-Nanoimprint de la Escala Molecular Suave del Grupo de EV

Temas Revestidos

Reseña
Litografía Ultravioleta-Nanoimprint de la Escala Molecular Suave
Principios de la Litografía Ultravioleta-Nanoimprint de la Escala Molecular Suave
Ejemplos de las Impresiones Ultravioleta-Nanoimprint de la Litografía de la Escala Molecular Suave
Características Únicas de la Litografía Ultravioleta-Nanoimprint de la Escala Molecular Suave
Opciones de la Compra para la Litografía Ultravioleta-Nanoimprint de la Escala Molecular Suave

Reseña

El Grupo de EV (EVG) apunta el empaquetado avanzado, semiconductor compuesto y los dispositivos de potencia silicio-basados, MEMS, nanotecnología y mercados de SOI con su fulminante-vinculación industria-de cabeza, litografía/litografía del nanoimprint (NADA), metrología, capa de la fotoprotección, limpieza y equipo del examen.

El Grupo de EV (EVG) es una tecnología y líder del mercado reconocidos para el equipo de tramitación del fulminante. Hemos fijado los estándares industriales mundiales para la vinculación alineada del fulminante así como nos oponemos el tramitar para la Industria de MEMS, Nana y del Semiconductor. Nuestra experiencia tecnológica permite a clientes desarrollar y comercializar con éxito sus innovaciones por las soluciones de proceso a avance y probadas proporcionar del R&D a la producción de volumen. Un rango completo del equipo que dirige aplicaciones del R&D así como procesos completo automatizados es el resultado del largo plazo, lazos cooperativos con nuestro filete extenso de clientes globales.

Litografía Ultravioleta-Nanoimprint de la Escala Molecular Suave

De Acuerdo con los sistemas probados del UV-NIL de EVG, SMS-NIL provee de clientes un proceso repetible, de poco costo para producir modelar ultra-de alta resolución en área extensa alisa. SMS-NIL activa modelar de la ultra-alto-resolución de características hacia abajo a 12,5 nanómetro. Usando el proceso de trabajo suave del nanoimprint del sello de SMS-NIL, los clientes pueden realizar nanoimprints del completo-área y UV-NIL ópticamente alineado en el equipo existente de EVG. Asimismo, el sello y la impresión se pueden tramitar en la misma herramienta sin requerir a los clientes de tramitación adicionales tiempo de procesamiento importante y dinero del paso de progresión-ahorro.

Principios de la Litografía Ultravioleta-Nanoimprint de la Escala Molecular Suave

Los sellos de trabajo poliméricos de las aplicaciones de SMS-NIL replegados de modelos principales de alta resolución, costosos y se pueden utilizar para las impresiones múltiples. Los sellos obtenidos del funcionamiento tienen energía superficial inferior relativa, que asegura una separación más fácil del substrato después del proceso de impresión. Las propiedades materiales del sello suave inherente reducen el riesgo de daño mecánico del modelo principal en gran parte y aumentan así su curso de la vida.

El coste De Elaboración de SMS-NIL es importante más inferior que en otras técnicas nano-que modelan, que hace SMS-NIL una técnica aún más acertada y potente de la litografía para las diversas aplicaciones. SMS-NIL se utiliza ya en los ambientes industriales para la moldura micra del lente de los sensores de la imagen del CMOS y otras aplicaciones ópticas.

La resolución de características ultrafinas implica nuevos materiales y un flujo de proceso optimizado para la impresión segura y repetible en áreas extensas usando los sistemas establecidos del UV-NIL de EVG. Los sellos principales fueron fabricados por Nanofabricación AG Viena del IMS usando CHARPAN (partícula cargada nanopatterning con la proyección de haces múltiples del ión).


Fuente: EVG.

Ejemplos de las Impresiones Ultravioleta-Nanoimprint de la Litografía de la Escala Molecular Suave

Los resultados cubiertos de la impresión de la demostración SMS-NIL de las imágenes para 12,5 líneas y los puntos del nanómetro con una relación de aspecto de 2:1 replegada en un sistema de la NADA EVG620 en 100 fulminantes del milímetro Si.


12,5 medias estructuras del tono L/S del nanómetro
Fuente: EVG, Cortesía Nanofabricación AG, Viena del IMS.


Ciérrese hacia arriba de 12,5 medias estructuras del tono L/S del nanómetro
Fuente: EVG, Cortesía Nanofabricación AG, Viena del IMS.


12,5 medios puntos del tono del nanómetro
Fuente: EVG, Cortesía Nanofabricación AG, Viena del IMS.


Ciérrese hacia arriba de 12,5 medios puntos del tono del nanómetro
Fuente: EVG, Cortesía Nanofabricación AG, Viena del IMS.

Características Únicas de la Litografía Ultravioleta-Nanoimprint de la Escala Molecular Suave

Las Características Únicas de SMS-NIL incluyen:

  • Costo de ventaja de la propiedad debido a
    • Uso del sello polimérico
    • Ninguna necesidad de aplicar anti-adherir capas
    • Protección del modelo principal
    • Reutilización Múltiple de sellos suaves
  • El más de alta resolución con los sellos poliméricos
  • Capacidad de la impresión de la Área extensa
  • Aplicable en todos los sistemas de EVG UV-NIL (Alineador de EVG620, de EVG6200, del ÍNDICE DE INTELIGENCIA, EVG770)

Opciones de la Compra para la Litografía Ultravioleta-Nanoimprint de la Escala Molecular Suave

El Grupo de EV ofrece dos opciones flexibles de la compra para SMS-NIL. Los Clientes que están interesados en producir el trabajo estampan interno pueden comprar servicios de la consulta de la tecnología de proceso del Grupo de EV para activar su propio desarrollo de aplicaciones. El Grupo de EV también ofrece la opción de comprar los sellos de trabajo listos para tramitar.

Los resultados mostrados fueron financiados por la Nano-Iniciativa Austríaca (www.nanoinitiative.at, FFG y BMVIT) con el NILdirect_stamp y los proyectos de NILstamp_replication del proyecto de NILaustria se agrupan (www.NILaustria.at).

Fuente: Grupo de EV

Para más información sobre esta fuente visite por favor al Grupo de EV

Date Added: Jan 17, 2011 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 14. June 2013 04:44

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