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Información general
Soft escala molecular UV-litografía por nanoimpresión
Principios de Soft escala molecular UV-litografía por nanoimpresión
Ejemplos de Soft Imprints escala molecular Litografía nanoimpresión UV-
Las características únicas de Soft escala molecular UV-litografía por nanoimpresión
Opciones de compra de Soft escala molecular UV-litografía por nanoimpresión
Información general
EV Group (EVG) objetivos avanzadas de envasado, de compuestos para semiconductores basados en silicio y los dispositivos de potencia, MEMS, nanotecnología y los mercados de SOI con sus líderes en la industria de obleas de vinculación, la litografía / litografía por nanoimpresión (NIL), metrología, recubrimiento fotosensible, de limpieza y equipos de inspección .
EV Group (EVG) es una tecnología reconocida y líder en el mercado de equipos de procesamiento de obleas. Hemos establecido los estándares de la industria mundial de vinculación de la oblea alinea así como resistir el procesamiento de los MEMS, Nano y la Industria de Semiconductores. Nuestra experiencia tecnológica permite a los clientes para desarrollar y comercializar con éxito sus innovaciones a través de soluciones de proceso avanzado y probado de la I + D a la producción de volumen. Una amplia gama de equipos de I + D frente a las aplicaciones, así como procesos totalmente automatizados es el resultado de largo plazo, relaciones de cooperación con nuestra extensa lista de clientes a nivel mundial.
Soft escala molecular UV-litografía por nanoimpresión
Sobre la base de EVG demostrado UV-NIL sistemas , SMS-NIL ofrece a los clientes una forma repetible y rentable proceso de producción de ultra-highresolution patrones en grandes áreas de superficies. SMS-NIL permite ultra-alta resolución de los patrones de las características de hasta 12,5 nm . Utilizando SMS-NIL es suave proceso de trabajo nanoimpresión sello, los clientes pueden realizar en toda la superficie nanoimprints y ópticamente alineado UV-NIL en los actuales EVG equipo. Del mismo modo, el sello y la impresión se puede procesar en la misma herramienta sin necesidad de más pasos de procesamiento de ahorro de los clientes el tiempo de procesamiento y dinero.
Principios de Soft escala molecular UV-litografía por nanoimpresión
SMS-NIL utiliza polímeros sellos de trabajo replicados de alta resolución, plantillas maestras caro y se puede utilizar para múltiples impresiones. Los sellos de trabajo obtenidos han energía relativa de superficie, lo que asegura una fácil separación del sustrato después de que el proceso de impresión. La propiedades inherentes de material suave sello de reducir el riesgo de daños mecánicos de la plantilla maestra en gran medida y por lo tanto mejorar su vida.
Los costos de procesamiento de SMS-NIL es significativamente menor que en otros patrones de nano-técnicas, lo que hace SMS-NIL una técnica de la litografía, incluso más exitosos y de gran alcance para varias aplicaciones. SMS-NIL ya se utiliza en entornos industriales para sensores de imagen CMOS de micro lentes de moldeo y aplicaciones ópticas otros.
La resolución de ultra-finas características implica nuevos materiales y un flujo de proceso optimizado para la impresión fiable y reproducible en grandes áreas con EVG bien establecido UV-NIL sistemas. Los sellos maestro fueron fabricados por IMS AG Nanofabricación Viena con CHARPAN (nanoestampación de partículas cargadas con iones de multi-haz de proyección).
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Fuente: EVG.