SMS-NIL - Introduction à la Lithographie Moléculaire Douce d'UV-Nanoimprint d'Échelle par le Groupe d'EV

Sujets Couverts

Synthèse
Lithographie Moléculaire Douce d'UV-Nanoimprint d'Échelle
Principes de la Lithographie Moléculaire Douce d'UV-Nanoimprint d'Échelle
Exemples des Empreintes Moléculaires Molles de Lithographie d'UV-Nanoimprint d'Échelle
Fonctionnalités Uniques de la Lithographie Moléculaire Douce d'UV-Nanoimprint d'Échelle
Options d'Achat pour la Lithographie Moléculaire Douce d'UV-Nanoimprint d'Échelle

Synthèse

Le Groupe d'EV (EVG) vise l'emballage avancé, le semi-conducteur composé et les dispositifs d'alimentation électrique silicium-basés, MEMS, nanotechnologie et marchés de SOI avec sa disque-métallisation de leader, lithographie/lithographie de nanoimprint (ZÉRO), métrologie, couche de vernis photosensible, nettoyage et matériel d'inspection.

Le Groupe d'EV (EVG) est une technologie et un leader de marché identifiés pour l'installation de fabrication de disque. Nous avons fixé les standards de l'industrie mondiaux pour la métallisation alignée de disque ainsi que résistons traiter pour le MEMS, le Nano et l'Entreprise de Semiconducteurs. Nos compétences technologiques permettent à des abonnées de développer et commercialiser avec succès leurs innovations par les solutions de processus d'avancer et prouvées de fourniture de la R&D à la production de masse. Une gamme complète de matériel adressant des applications de R&D ainsi qu'entièrement des traitements automatisés est le résultat des relations à long terme et coopératives avec notre vaste liste d'abonnées globales.

Lithographie Moléculaire Douce d'UV-Nanoimprint d'Échelle

Basé sur les systèmes prouvés de l'UV-NIL d'EVG, SMS-NIL fournit à des abonnées un procédé reproductible et rentable pour produire la structuration ultra-à haute résolution sur la vaste zone apprête. SMS-NIL active la structuration d'ultra-haut-définition des caractéristiques techniques vers le bas à 12,5 nanomètre. Utilisant le procédé fonctionnant doux de nanoimprint de l'estampille de SMS-NIL, les abonnées peuvent exécuter des nanoimprints de plein-zone et UV-NIL optiquement aligné sur le matériel existant d'EVG. De Même, l'estampille et l'impression peuvent être traitées sur le même outil sans exiger les abonnées de traitement supplémentaires temps de traitement significatif et argent de phase-épargne.

Principes de la Lithographie Moléculaire Douce d'UV-Nanoimprint d'Échelle

Des estampilles fonctionnantes polymères d'utilisations de SMS-NIL reproduites des descripteurs principaux de haute résolution et chers et peuvent être utilisées pour les empreintes multiples. Les estampilles obtenues de fonctionnement ont une énergie extérieure faible relative, qui assure une séparation plus facile du substrat après le procédé de impression. Les propriétés matérielles d'estampille molle inhérente réduisent le risque des dégâts mécaniques du descripteur principal en grande partie et augmentent ainsi leur vie.

Le coût de Traitement de SMS-NIL est sensiblement inférieur que dans d'autres techniques de nano-structuration, qui effectue à SMS-NIL une technique bien plus réussie et puissante de lithographie pour différentes applications. SMS-NIL est déjà utilisé dans les milieux industriels pour le moulage micro de lentille de Capteurs d'image cmos et d'autres applications optiques.

La définition des caractéristiques techniques d'ultra-fin implique des matériaux neufs et un flux de processus optimisé pour l'impression fiable et reproductible sur des vastes zones utilisant les systèmes bien établis de l'UV-NIL d'EVG. Les estampilles principales ont été fabriquées par Nanofabrication AG Vienne d'IMS utilisant CHARPAN (particule chargée nanopatterning avec la projection à multifaisceaux d'ion).


Source : EVG.

Exemples des Empreintes Moléculaires Molles de Lithographie d'UV-Nanoimprint d'Échelle

Les résultats ci-joints d'empreinte de l'exposition SMS-NIL d'images pour 12,5 lignes et points de nanomètre avec un rapport hauteur/largeur de 2:1 reproduit sur un système de ZÉRO EVG620 sur 100 disques du millimètre SI.


12,5 demi structures de l'hauteur de son L/S de nanomètre
Source : EVG, Accueil de Nanofabrication AG, Vienne d'IMS.


Fermez-vous de 12,5 demi structures de l'hauteur de son L/S de nanomètre
Source : EVG, Accueil de Nanofabrication AG, Vienne d'IMS.


12,5 demi points d'hauteur de son de nanomètre
Source : EVG, Accueil de Nanofabrication AG, Vienne d'IMS.


Fermez-vous de 12,5 demi points d'hauteur de son de nanomètre
Source : EVG, Accueil de Nanofabrication AG, Vienne d'IMS.

Fonctionnalités Uniques de la Lithographie Moléculaire Douce d'UV-Nanoimprint d'Échelle

Les Fonctionnalités Uniques de SMS-NIL comprennent :

  • Avantage de Coût de possession dû à
    • Utilisation d'estampille polymère
    • Aucun besoin d'appliquer anti-coller des couches
    • Économie du descripteur principal
    • Réutilisabilité Multiple des estampilles molles
  • Le plus de haute résolution avec les estampilles polymères
  • Capacité d'empreinte de Vaste zone
  • Applicable sur tous les systèmes d'EVG UV-NIL (Dispositif D'alignement d'EVG620, d'EVG6200, de QI, EVG770)

Options d'Achat pour la Lithographie Moléculaire Douce d'UV-Nanoimprint d'Échelle

Le Groupe d'EV offre deux options flexibles d'achat pour SMS-NIL. Les Abonnées qui sont intéressées à produire fonctionner timbre intérieurement peuvent acheter des services de consultants de technologie de la transformation du Groupe d'EV pour activer leur propre développement d'applications. Le Groupe d'EV offre également l'option d'acheter les estampilles fonctionnantes disponibles pour le traitement.

Les résultats affichés ont été financés par la Nano-Initiative Autrichienne (www.nanoinitiative.at, FFG et BMVIT) par le NILdirect_stamp et les projets de NILstamp_replication du projet de NILaustria groupent (www.NILaustria.at).

Source : Groupe d'EV

Pour plus d'informations sur cette source rendez visite s'il vous plaît au Groupe d'EV

Date Added: Jan 17, 2011 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 14. June 2013 04:06

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