SMS-NIL - Introduzione a Litografia UV-Nanoimprint del Disgaggio Molecolare Molle dal Gruppo di EV

Argomenti Coperti

Generalità
Litografia UV-Nanoimprint del Disgaggio Molecolare Molle
Principi di Litografia UV-Nanoimprint del Disgaggio Molecolare Molle
Esempi delle Impronte UV-Nanoimprint di Litografia del Disgaggio Molecolare Molle
Funzionalità Uniche di Litografia UV-Nanoimprint del Disgaggio Molecolare Molle
Opzioni dell'Approvvigionamento per Litografia UV-Nanoimprint del Disgaggio Molecolare Molle

Generalità

Il Gruppo di EV (EVG) mira all'imballaggio avanzato, semiconduttore composto e ad unità di potenza basate a silicio, MEMS, nanotecnologia e servizi di SOI con il suo wafer-legame leader del settore, la litografia/litografia del nanoimprint (ZERO), la metrologia, rivestimento del photoresist, pulizia e strumentazione di ispezione.

Il Gruppo di EV (EVG) è una tecnologia e un leader di mercato riconosciuti per la strumentazione di trattamento del wafer. Abbiamo fissato gli standard industriali mondiali per legame stato allineato del wafer come pure resistiamo a elaborare per l'Industria Nana ed A Semiconduttore di MEMS. La Nostra competenza tecnologica permette ai clienti di sviluppare e commercializzare con successo le loro innovazioni dalle soluzioni trattate dell'avanzate di e provate di fornitura da R & S a produzione in volume. Una gamma completa di strumentazione che indirizza le applicazioni di R & S come pure i trattamenti completamente automatizzati è il risultato delle relazioni a lungo termine e cooperative con la nostra estesa lista dei clienti globali.

Litografia UV-Nanoimprint del Disgaggio Molecolare Molle

Sulla Base dei sistemi provati del UV-NIL di EVG, SMS-NIL fornisce ai clienti un trattamento ripetibile e redditizio per la produzione del modello ultra-ad alta definizione su ampia area affiora. SMS-NIL permette al modello di ultra-alto-risoluzione delle funzionalità giù a 12,5 nanometro. Facendo Uso del trattamento di lavoro morbido del nanoimprint del bollo di SMS-NIL, i clienti possono eseguire i nanoimprints di interamente area e UV-NIL otticamente stato allineato sulla strumentazione esistente di EVG. Inoltre, il bollo ed imprimere possono essere elaborati sullo stesso strumento senza richiedere il tempo di lavorazione e la moneta significativo di trattamento dei clienti supplementari di punto-risparmio.

Principi di Litografia UV-Nanoimprint del Disgaggio Molecolare Molle

I bolli di lavoro polimerici di usi di SMS-NIL ripiegati dai modelli matrici di alta risoluzione e costosi e possono essere usati per le impronte multiple. I bolli ottenuti di funzionamento hanno energia di superficie bassa relativa, che assicura una separazione più facile dal substrato dopo che il trattamento di stampa. I beni materiali del bollo molle inerente diminuiscono il rischio di danno meccanico del modello matrice in gran parte e così migliorano la loro vita.

Il costo di elaborazione di SMS-NIL è significativamente più basso di in altre tecniche dimodello, che rende a SMS-NIL una tecnica ancor più riuscita e potente della litografia per varie applicazioni. SMS-NIL già è utilizzato negli ambienti industriali per modanatura della lente dei sensori di immagine di CMOS il micro ed altre applicazioni ottiche.

La risoluzione delle funzionalità ultra-fini implica i nuovi materiali e un flusso trattato ottimizzato per la stampa affidabile e ripetibile sulle ampie aree facendo uso dei sistemi affermati del UV-NIL di EVG. I bolli matrici da costruzione Nanofabbricazione l'AG Vienna dell'IMS facendo uso di CHARPAN (particella fatta pagare che nanopatterning con la proiezione del multi-raggio dello ione).


Sorgente: EVG.

Esempi delle Impronte UV-Nanoimprint di Litografia del Disgaggio Molecolare Molle

I risultati qui acclusi dell'impronta di manifestazione SMS-NIL di immagini per 12,5 righe ed i punti di nanometro con un allungamento del 2:1 ripiegato su un sistema di ZERO EVG620 su 100 wafer di Si di millimetro.


12,5 mezze strutture del passo L/S di nanometro
Sorgente: EVG, Cortesia Nanofabbricazione AG, Vienna dell'IMS.


Chiuda su di 12,5 mezze strutture del passo L/S di nanometro
Sorgente: EVG, Cortesia Nanofabbricazione AG, Vienna dell'IMS.


12,5 mezzi punti del passo di nanometro
Sorgente: EVG, Cortesia Nanofabbricazione AG, Vienna dell'IMS.


Chiuda su di 12,5 mezzi punti del passo di nanometro
Sorgente: EVG, Cortesia Nanofabbricazione AG, Vienna dell'IMS.

Funzionalità Uniche di Litografia UV-Nanoimprint del Disgaggio Molecolare Molle

Le Funzionalità Uniche di SMS-NIL includono:

  • Costo di vantaggio di proprietà dovuto
    • Uso del bollo polimerico
    • Nessuna necessità di applicare anti-attaccare i livelli
    • Conservazione del modello matrice
    • Riutilizzabilità Multipla dei bolli molli
  • Il più di alta risoluzione con i bolli polimerici
  • Capacità dell'impronta di Ampia area
  • Applicabile su tutti i sistemi di EVG UV-NIL (Aligner di EVG620, di EVG6200, di QUOZIENTE D'INTELLIGENZA, EVG770)

Opzioni dell'Approvvigionamento per Litografia UV-Nanoimprint del Disgaggio Molecolare Molle

Il Gruppo di EV offre due opzioni flessibili dell'approvvigionamento per SMS-NIL. I Clienti che sono interessati nella produzione lavorare stampa in-house possono approvvigionare i servizi di consulenza della tecnologia della trasformazione del Gruppo di EV per permettere al loro proprio sviluppo di applicazioni. Il Gruppo di EV egualmente offre l'opzione di approvvigionamento dei bolli di lavoro pronti per elaborare.

I risultati indicati sono stati costituiti un fondo per dall'Nano-Iniziativa Austriaca (www.nanoinitiative.at, FFG e BMVIT) con il NILdirect_stamp ed i progetti NILstamp_replication del progetto NILaustria ragruppano (www.NILaustria.at).

Sorgente: Gruppo di EV

Per ulteriori informazioni su questa sorgente visualizzi prego il Gruppo di EV

Date Added: Jan 17, 2011 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 14. June 2013 04:16

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