SMS-NIL - 軟的分子縮放比例紫外Nanoimprint 石版印刷簡介由 EV 組

包括的事宜

概覽
軟的分子縮放比例紫外Nanoimprint 石版印刷
軟的分子縮放比例紫外Nanoimprint 石版印刷的原則
軟的分子縮放比例紫外Nanoimprint 石版印刷版本記錄的示例
軟的分子縮放比例紫外Nanoimprint 石版印刷唯一功能
軟的分子縮放比例紫外Nanoimprint 石版印刷的採購選項

概覽

EV 組 (EVG) 瞄準先進包裝,化合物半導體和基於硅的功率設備, MEMS、納米技術和 SOI 市場與其領先業界的薄酥餅接合,石版印刷/nanoimprint 石版印刷 (零),計量學、光致抗蝕劑塗層、清潔和檢驗設備。

EV 組 (EVG) 是一個被認可的技術和市場帶頭人薄酥餅處理設備的。 我們規定了對齊的薄酥餅接合的全世界業界標準以及抵抗處理為 MEMS,納諾和半導體行業。 我們的技術專門技術使客戶由提供提前的和證明的處理解決方法開發和順利地把他們的創新商業化從 R&D 到批量生產。 論及各種各樣的設備 R&D 應用以及充分地自動化的進程是長期,合作關係的結果與全球客戶我們廣泛的列表的。

軟的分子縮放比例紫外Nanoimprint 石版印刷

EVG 的證明的 UV-NIL 系統SMS-NIL 提供客戶以一個可重複,有效進程為導致超高分辨率仿造在大區出現。 SMS-NIL 啟用超高解決方法仿造功能下來到 12.5 毫微米。 使用 SMS-NIL 的虛擬運作的印花稅 nanoimprint 進程,客戶可執行全區 nanoimprints 和光學上對齊的 UV-NIL 在現有的 EVG 設備。 同樣,這種印花稅和印在同一個工具可以被處理,无需要求另外的處理步驟節省額客戶重大的加工時間和貨幣。

軟的分子縮放比例紫外Nanoimprint 石版印刷的原則

從高分辨率,消耗大的主要模板複製的 SMS-NIL 用途聚合物運作的印花稅,并且可以為多個版本記錄使用。 得到的工作印花稅有相對低表面能,在這個印的進程以後保證從這個基體的更加容易的分隔。 內在的軟的印花稅有形資產主要減少主要模板的機械故障的風險和因而提高他們的壽命。

SMS-NIL 的加工成本顯著低比在其他納諾仿造的技術,做 SMS-NIL 多種應用的一個更加成功和強大的石版印刷技術。 SMS-NIL 已經用於產業環境為 CMOS 圖像傳感器微透鏡造型和其他光學應用。

極其細小的功能的解決方法暗示新的材料和一個優化流程可靠和可重複印的在大區使用 EVG 的源遠流長的 UV-NIL 系統。 主要印花稅由 IMS AG 維也納極小製作製造使用 CHARPAN (nanopatterning 與離子多射線投影) 的荷電粒子。


來源: EVG.

軟的分子縮放比例紫外Nanoimprint 石版印刷版本記錄的示例

12.5 毫微米線路和小點的圍繞圖像顯示 SMS-NIL 版本記錄結果與在 100 個 mm Si 薄酥餅的一個 EVG620 零系統複製的 2:1 長寬比。


12.5 毫微米半間距 L/S 結構
來源: EVG, IMS AG,維也納極小製作禮貌。


關閉 12.5 毫微米半間距 L/S 結構
來源: EVG, IMS AG,維也納極小製作禮貌。


12.5 毫微米半間距小點
來源: EVG, IMS AG,維也納極小製作禮貌。


關閉 12.5 毫微米半間距小點
來源: EVG, IMS AG,維也納極小製作禮貌。

軟的分子縮放比例紫外Nanoimprint 石版印刷唯一功能

SMS-NIL 唯一功能包括:

  • 所有權好處的費用由於
    • 對聚合物印花稅的使用
    • 沒有需要適用反停留層
    • 主要模板的守恆
    • 軟的印花稅的多個可再用性
  • 最高分辨率與聚合物印花稅
  • 大區版本記錄功能
  • 可適用在所有 EVG UV-NIL 系統 (EVG620EVG6200智商直線對準器EVG770)

軟的分子縮放比例紫外Nanoimprint 石版印刷的採購選項

EV 組提供 SMS-NIL 的二個靈活的採購選項。 是對引起從事感興趣的客戶標記內部可能採購 EV 組的加工技術咨詢學校服務啟用他們自己的應用程序開發。 EV 組也提供採購運作的印花稅的選項準備好處理。

顯示的結果由奧地利納諾主動性 (www.nanoinitiative.at、 FFG 和 BMVIT) 資助通過 NILdirect_stamp,并且 NILaustria 項目的 NILstamp_replication 項目成群 (www.NILaustria.at)。

來源: EV 組

關於此來源的更多信息请請拜訪 EV 組

Date Added: Jan 17, 2011 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 14. June 2013 03:58

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