Wafer Waagerecht Ausgerichtete Optik - Einleitung und Lösungen Erhältlich für Wafer-Stufen-Optik durch EV-Gruppe

Themen Umfaßt

Überblick
Wafer Waagerecht Ausgerichtete Kameras (WLCs)
VorlagenStempel-Fälschung
UV-Microlens-Formteil
Ausgerichtete UVMasseverbindung

Überblick

In den modernen elektronischen Geräten wie Digitalkameras, Handys, tragbaren Spielkonsolen, Laptops oder netbooks, sind mikro-optische Anlagen entscheidende Schnittstellen zwischen der wirklichen Welt und der Mikroelektronik des Bildfühlers innerhalb eines Kamerablocks. Zur Zeit macht das allgemeine Konzept einer Kamerablockeinheit einen Übergang von der getrennten Einheit zur Wafer-stufigen Integration unter Verwendung der gut eingerichteten Halbleitertechniken durch. Wafer-Stufige Kameras haben bereits begonnen, die herkömmlichen Blöcke wegen der kleineren Formularfaktoren und der preiswerteren Leistungsverhältnisse auszutauschen.

Wafer Waagerecht Ausgerichtete Kameras (WLCs)

Waagerecht ausgerichtete Kameras des Wafers (WLCs) sind Einheiten, in denen alle Einzelteile auf Waferniveau fabriziert werden und dann geklebt werden, um ein einzelnes Teil darzustellen einem CMOS-Bildfühler und (CIS) aus einem Mikrooptik Stapel bestehend, welche die helle Erfassungs-Leistungsfähigkeit der Kamera erhöhen.

Die UVimpressumlithographie, ursprünglich entwickelt für wirtschaftliche Wiederholung von Zellen in der nmreichweite, gilt jetzt als ein leistungsfähiges Hilfsmittel für die Fälschung der Wafer-stufigen Optik in den in hohem Grade parallelen Massenfälschungsprozessen.

EV-Gruppe bietet Herstellern eine komplette Reichweite der Lösungen, einschließlich Vorlagenstempelfälschung, Wiederholung und Integration von optischen Elementen auf dem Waferniveau an, das auf seinen gut eingerichteten Maskenjustierungs- und nanoimprint Lithographieanlagen basiert. Seine Produktpalette ist in hohem Grade vielseitig und aktiviert Abnehmer, in hohem Grade kundenspezifische Kleinteil- und Software-Prozesse einzuführen. Verbunden mit Verfahrensentwicklung und Optimierung in den Cleanroomteildiensten EV-Gruppe, stellt EV-Gruppe eine Gesamtlösung von der Anlagenkonfiguration und Fälschung zum Prozessintegrations- und Materialknow-how zur Verfügung.

Elemente eines typischen Wafer-stufigen Kamerablocks umfassen einen CMOS-Bildfühler, polymerischen Objektive, die auf Glastransportunternehmer durch UVimpressumlithographie geformt werden, Distanzstücke und Öffnungsschichten, wie in dieser Explosionsdarstellung gezeigt.
Quelle: EVG.

VorlagenStempel-Fälschung

Die Hauptstempel sind- Wafergröße Schablonen, die völlig mit microlens Formen jede wiederholt von einer Schablone des einzelnen Objektivs in einer Schritt-undwiederholung bevölkert werden (S&R)-Anflug. Anfangend von einem Original des einzelnen Objektivs, das aus Metall oder Glas heraus gemacht wird, bietet EV-Gruppe einen Prozessfluß an, der alle wesentlichen Prozessschritte für die Fälschung von den Vorlagenstempeln umfaßt, die nicht angepasste Objektivstellungsgenauigkeiten von <100nm kennzeichnen und die hohen Objektivformwiederholbarkeiten, die für die Fälschung des Spitzenwafers benötigt werden, Kamerablöcke nivellieren.

Einzelne S&R-Prozessschritte gekennzeichnet von EV-Gruppe:

  • Hohe Feinverstellung der Schablone des einzelnen Objektivs über dem Wafer
  • Tröpfchen füllen vom Vorlagenstempelmaterial ab
  • Zwängen Sie kompensierte Kraft, oder Abstand gesteuerte Hochpräzision prägt zuerst auf
  • UVberührung
  • Demolding

Sehen Sie Bitte unser GEN II NILStepper des verwandten Produkts EVG®770 für ausführliche Information.

UV-Microlens-Formteil

Weiche UVImpressum-Lithographie ist eine in hohem Grade parallele Technik für die Fälschung von polymerischen microlenses, die Schlüsselelemente von optischen Anlagen der Waferstufe. Anfangend von den weichen Arbeitsstempeln, die von den Wafergröße Hauptstempeln wiederholt werden, bietet EV-Gruppe die hybriden und monolithischen microlens Prozesse formend an, die verschiedenen materiellen Kombinationen für das Arbeits Stempel- und microlensmaterialien leicht angepasst werden können. Darüber hinaus bietet EV-Gruppe gekennzeichnete microlens Prozess einschließlich alles relevante materielle Know-how formend an.

Weiche UVImpressum-Lithographie Montierte für einzelnes und doppeltes Seitenobjektivformteil.
Quelle: EVG.

Einzelne UVFormteilprozessschritte gekennzeichnet von EV-Gruppe:

  • Pfütze füllen vom optischen Vorpolymerisat ab
  • Zwängen Sie kompensierte Kraft oder Abstand gesteuertes ausgerichtetes Impressum
  • UVberührung
  • Demolding

Sehen Sie Bitte unseren IQ Aligner® des verwandten Produkts für ausführliche Information.

Objektivwafer des Simplex 300mm fabriziert durch Weiche UVImpressum-Lithographie.
Quelle: EVG.

Ausgerichtete UVMasseverbindung

Der entscheidende Mikro- Optikstapel wird durch UV- Masseverbindung aller Elemente, einschließlich einzelne doppelte Seiten-microlens Wafers sowie Distanzstückwafers fabriziert, die benötigt werden, um die abschließende Stapelhöhe zu erzielen. Entscheidende Parameter sind Objektiv-zudistanzstück Ausrichtungsgenauigkeit, Gesamtstärkevariante der resultierenden Bondschnittstelle und des Waferdurchsatzes.

Geklebte Mikrouvoptik stapeln das Bestehen Objektivwafers und aus Distanzstückwafers.
Quelle: EVG.

Einzelne Prozessschritte gekennzeichnet von EV-Gruppe:

  • Keil kompensiertes ausgerichtetes UVanleihe
  • UVberührung

Einzelne Objektiv- und Distanzstückwafers eines Mikrooptikstapels vor UVmasseverbindung.
Quelle EVG, Höflichkeit von Aptina.

Sehen Sie Bitte unseren IQ Aligner® und unser Gemini® des verwandten Produkts für ausführliche Information.

Quelle: EV-Gruppe

Zu mehr Information über diese Quelle besuchen Sie bitte EV-Gruppe

Date Added: Jan 17, 2011 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 14. June 2013 04:12

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